【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于深紫外波段偏振光学薄膜元件光谱检测
，特别涉及一种用于大测试角度(5°-85°)下ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置。
技术介绍
近年来，193nm ArF准分子激光器作为深紫外光刻机的光源取得了广泛应用。随着光刻技术的发展，193nm光刻机所采用的激光器的功率日益提高，由此对ArF准分子激光器的波长精度、输出效率提出了更高的要求。为了实现高质量的ArF偏振激光输出，激光器腔内需要使用偏振光学兀件。激光器腔内的偏振光学兀件对于激光输出的功率和偏振度都有重要影响。偏振光学薄膜元件光谱性能的准确表征，对于其光学薄膜元件的膜系设计、工艺优化、加工制备、以及整个ArF准分子激光器的研究都具有重要意义。目前国际上已经建立的光学薄膜元件偏振特性的测量装置主要是带有偏振光学测量附件的分光光谱仪，现有带偏振光学测量附件的双光路结构分光光谱仪，如美国PE公司的系列分光光谱仪产品，但是针对ArF激光光学薄膜元件偏振特性测量，上述测量装置有明显的不足之处，分光光谱仪测量装置其偏振特性的测量精度比较有限，且由于工作波长范围很宽，其偏振特性测量波长范围往往不能覆盖...
【技术保护点】
大测试角度ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置，从左至右依次设置ArF激光光源、ArF激光扩束准直镜（4）、可变光阑（5）、起偏器（6）、分束器（7），分束器（7）将光分为两路光，反射光方向为参比光路，参比光路方向从下至上设置参比光检偏器（8）和参比光探测器（9），透射光方向为测试光路，测试光路方向从左至右依次设置旋转样品台（10）、测试光检偏器（11）和测试光探测器（13），其特征是，在测试光检偏器（11）和测试光探测器（13）之间设置193nm聚焦透镜组（12），193nm聚焦透镜组（12）由凸凹透镜组组合而成，所述激光扩束准直镜（4）和可变光阑（5）设置在第一真空腔...
【技术特征摘要】
1.大测试角度ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置，从左至右依次设置ArF激光光源、ArF激光扩束准直镜(4 )、可变光阑(5 )、起偏器(6 )、分束器(7 )，分束器(7 )将光分为两路光，反射光方向为参比光路，参比光路方向从下至上设置参比光检偏器(8)和参比光探测器(9)，透射光方向为测试光路，测试光路方向从左至右依次设置旋转样品台(10)、测试光检偏器(11)和测试光探测器(13 )，其特征是，在测试光检偏器(11)和测试光探测器(13 )之间设置193nm聚焦透镜组(12)，193nm聚焦透镜组(12)由凸凹透镜组组合而成，所述激光扩束准直镜(4 )和可变光阑(5 )设置在第一真空腔体(I)中，起偏器(6 )设置在第二真空腔体(2)中，分束器(7)、参比光检偏器(8)、参比光探测器(9)、旋转样品台(10)、测试光检偏器(11)、193nm聚焦透镜组(12 )和测试光探测器(13)设置在第三真空腔体(3 )中。2.根据权利要求1所述的大测试角度ArF激光偏振光学薄膜元件光谱测试装置，其特征在于，第一真空腔体(I)沿水平入射光路方向前后相对设有两个通光口 ；第二真空腔体(2 )沿水平入射光路方...
【专利技术属性】
技术研发人员：金春水，靳京城，李春，邓文渊，常艳贺，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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