本发明专利技术涉及核聚变与光学诊断领域，公开了一种检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦瞬态温度的方法，技术方案为：在磁约束聚变装置正常工作时，从窗口外向石墨瓦垂直射入太赫兹波，探头测量并记录工作温度下由石墨瓦反射回的太赫兹时域波谱；分析处理时域谱，将其在有效频域内做傅里叶变换得到工作温度下频域谱；此时，数据自动选取特征谱线，读取数据库中标定温度下该特征谱线位置，两者相比较得出频移量，与数据库的频移量-温度的函数关系相对照，从而计算出瞬时温度，输出并导入至计算机系统保存。本发明专利技术采用反射太赫兹时域谱技术，能够在线、同步并且无接触无损伤地检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦的热冲击瞬时温度。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及核聚变与光学诊断领域，特别涉及，该方法较之传统的热电偶温度计相比，能够快速、同步地返回温度数据，且无接触无损伤。
技术介绍
太赫兹(Terahertz or THz)波通常指的是频率处在O.1THz IOTHz之间的电磁波，介于微波和红外之间。太赫兹时域光谱系统是一种相干探测技术，能够同时获得太赫兹脉冲的振幅信息和相位信息，通过对时间波形进行傅立叶变换能直接得到样品的吸收系数和折射率等光学参数。太赫兹时域光谱技术因为有着很高的探测信噪比和较宽的探测带宽，探测灵敏度很高，所以已经广泛应用于材料性质的分析中。理论及实验研究表明，很多工业材料用太赫兹时域光谱技术探测，能有效的产生共振吸收峰，从而提供了特征指纹谱，并可以进行探测识别。同时，在某些环境下，太赫兹波具有独特的强透射能力和低辐射能量的特点，不会对材料造成伤害，而且具有高功率及高分辨率。在高密度、高温、磁化等离子体中，太赫兹波同样也表现出零吸收的特性，这就为太赫兹波用来检测磁约束聚变装置中工作温度提供了可能。磁约束聚变装置中偏滤器主要是石墨瓦，而偏滤器是聚变反应堆中的关键部件。在实际工作条件下，面对等离子体的偏滤器表面要随受很大的热负荷，所以研究偏滤器材料表面在高热负荷下的温度状态和分布是非常重要的。而传统的热电偶温度计只能间接测量温度，无法准确实时地描述石墨瓦温度状态，所以用一种方法来同步并且准确地检测高温环境就显得必不可少。 石墨在太赫兹波段可以特征识别，理论模拟计算表明，随着温度的变化，太赫兹波射入石墨反射回的太赫兹谱也会有着相应的变化，太赫兹频域谱的特征谱线峰值位置会发生频移，根据这一特征，可以理论计算不同温度与标定温度(如常温300Κ)特征谱线位置的频移距离，从而确定出温度随频移量的变化函数关系，作为测温曲线，集成为计算机数据库，将石墨瓦工作温度与标定温度太赫兹频域谱的频移距离和数据库相对比，以此可以计算出石墨瓦所处环境的温度，将这些温度实时返回到计算机系统中，从而同步检测。综上所述，利用反射太赫兹时域谱技术结合计算机数据库为快速、同步检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦在瞬时热冲击时温度提供了条件。
技术实现思路
本专利技术的目的为了解决上述现有技术中的技术问题，提供，本专利技术能够在线、同步且无接触无损伤的检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦在瞬时热冲击时温度的方法。为达到上述目的，本专利技术才有的技术方案是提供了，具体包括以下步骤步骤100 :在磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦正常工作时，将太赫兹波垂直入射到石墨瓦上，探头测量并记录工作温度下由石墨瓦反射回的太赫兹时域波谱Ωγ(γ)； 步骤200 :分析处理太赫兹时域波谱Qr(i);将太赫兹时域波谱QF(f)在有效频域内做傅里叶变换得到工作温度下反射的频域谱IV(CU); 步骤300 :计算机理论模拟不同温度和标定温度下石墨瓦的太赫兹时域谱，条件与偏滤器工作环境相同，对上述两种太赫兹时域谱在有效频域内分别做傅里叶变换，得到标定温度下的太赫兹频域谱和不同温度下的太赫兹频域谱； 步骤400 : 选取特征谱线，记录不同温度下特征谱线峰值与标定温度下该特征谱线峰值的频移量，得到频移量-温度关系曲线，拟合出频移量与温度的函数关系T=f ( △ V )，作为测温函数关系，集成为计算机数据库； 步骤500 :记录石墨瓦工作温度下特征谱线峰值与计算机数据库标定温度下该特征谱线峰值的频移量，将此时的频移量Λ V带入到频移量-温度函数关系式，则可以得到石墨瓦此时的工作温度T ; 步骤600 :将每个时刻石墨瓦工作温度记录保存于计算机系统，达到同步、快速检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦热冲击瞬时温度。有益效果本专利技术采用反射太赫兹时域谱技术，能够在线、同步并且无接触无损伤地检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦的热冲击瞬时温度。附图说明图1为本专利技术采用反射太赫兹时域光谱技术检测托卡马克偏滤器石墨瓦温度流程不意图。图2为标定温度与不同温度下的太赫兹频域谱线频移示意图。图3为数据库中模拟的频移量-温度函数关系示意图。具体实施例方式为了更好地说明反射太赫兹时域光谱技术如何应用于检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦温度，下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细说明。参照图1，，具体包括以下步骤 步骤100 :在磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦正常工作时，将太赫兹波垂直入射到石墨瓦上，探头测量并记录工作温度下由石墨瓦反射回的太赫兹时域波谱Ω“ )； 步骤200 :分析处理太赫兹时域波谱Qr(t);将太赫兹时域波谱QF(i)在有效频域内做傅里叶变换得到工作温度下反射的频域谱Ft(W); 步骤300 :计算机理论模拟不同温度和标定温度(如常温300K)下石墨瓦的太赫兹时域谱，条件与偏滤器工作环境相同，对上述两种太赫兹时域谱在有效频域内分别做傅里叶变换，得到标定温度下的太赫兹频域谱和不同温度下的太赫兹频域谱； 步骤400 :选取特征谱线，记录不同温度下特征谱线峰值与标定温度下该特征谱线峰值的频移量，得到频移量-温度关系曲线，拟合出频移量与温度的函数关系T=f ( △ V )，作为测温函数关系，集成为计算机数据库； 步骤500 :记录石墨瓦工作温度下特征谱线峰值与计算机数据库标定温度下该特征谱线峰值的频移量，将此时的频移量Λ V带入到频移量-温度函数关系式，则可以得到石墨瓦此时的工作温度T ； 步骤600 :将每个时刻石墨瓦工作温度记录保存于计算机系统，达到同步、快速检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦热冲击瞬时温度。参照图2，模拟结果显示温度不同时，太赫兹频域谱特征谱线峰值位置也会发生移动，因此，根据这一特性，可以由频域谱特征谱线峰值频移量来推断温度。参照图3，理论模拟计算后，可以拟合出温度随着频移量的函数变化关系，从而将实验与理论结果相比照，可得工作温度。以上内容是结合优选技术方案对本专利技术所做的进一步详细说明，不能认定专利技术的具体实施仅限于这些说明。对本专利技术所属
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术的构思的前提下，还可以做出简单的推演及替换，都应当视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦瞬态温度的方法，具体包括以下步骤：步骤100：在磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦正常工作时，将太赫兹波垂直入射到石墨瓦上，探头测量并记录工作温度下由石墨瓦反射回的太赫兹时域波谱???????????????????????????????????????????????；步骤200：分析处理太赫兹时域波谱；将太赫兹时域波谱在有效频域内做傅里叶变换得到工作温度下反射的频域谱；步骤300：计算机理论模拟不同温度和标定温度下石墨瓦的太赫兹时域谱，条件与偏滤器工作环境相同，对上述两种太赫兹时域谱在有效频域内分别做傅里叶变换，得到标定温度下的太赫兹频域谱和不同温度下的太赫兹频域谱；步骤400：选取特征谱线，记录不同温度下特征谱线峰值与标定温度下该特征谱线峰值的频移量，得到频移量?温度关系曲线，拟合出频移量与温度的函数关系T=f(Δν)，作为测温函数关系，集成为计算机数据库；步骤500：记录石墨瓦工作温度下特征谱线峰值与计算机数据库标定温度下该特征谱线峰值的频移量，将此时的频移量Δν带入到频移量?温度函数关系式，得到石墨瓦此时的工作温度T；步骤600：将每个时刻石墨瓦工作温度记录保存于计算机系统，达到同步、快速检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦热冲击瞬时温度。330668dest_path_image002.jpg,467251dest_path_image002.jpg,136130dest_path_image002.jpg,67177dest_path_image004.jpg...
【技术特征摘要】
1.ー种检测磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦瞬态温度的方法，具体包括以下步骤 步骤100 :在磁约束聚变装置偏滤器石墨瓦正常工作吋，将太赫兹波垂直入射到石墨瓦上，探头测量并记录工作温度下由石墨瓦反射回的太赫兹时域波谱or(0 ； 步骤200 :分析处理太赫兹时域波谱Q7(t);将太赫兹时域波谱￡^0)在有效频域内做傅里叶变换得到工作温度下反射的频域谱Fgw〕； 步骤300 :计算机理论模拟不同温度和标定温度下石墨瓦的太赫兹时域谱，条件与偏滤器工作环境相同，对上述两种太赫兹时域谱在有效频域内分别做傅里叶变换，得到标定温度下的太赫兹频域谱...
【专利技术属性】
技术研发人员：信裕，海然，哈桑，丁洪斌，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：
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