二维位移测量的装置制造方法及图纸

二维位移测量装置，涉及一种基于微光学元件的二维位移测量装置，解决现有二维位移测量中，需要两套独立测量系统，导致体积较大的问题，包括：激光器，扩束镜，反射镜，半反半透镜，二维测量光栅，二维位移平台，聚焦透镜和二维面阵探测器。激光器发出的激光通过扩束镜和反射镜以后平行的入射到半反半透镜上。透射光经过聚焦透镜聚焦在二维测量光栅上。光束在二维测量光栅上发生衍射，衍射光通过半反半透镜和反射镜以后平行入射到聚焦透镜上，最终在二维面阵探测器上成像。本发明专利技术所述的装置在测量过程中测量准确方便，并减少了装置的体积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种二维位移测量装置。
技术介绍
用于位移测量的装置，在机械加工业中有很广泛的应用。目前，公知的用来精密 测量物体的移动位移的工具包括光栅尺，磁栅尺，球栅尺等，这些都是测量一个方向上位移 的，利用它们，也可以构成测量平面位置的系统。但是，在某些比较特殊的领域，比如半导体 工业测量，测量显微镜，要求测量系统体积相对较小，移位方便等，如采用两个一维光栅尺 构成的系统，读数头为两个，数据线也为两套，不利于减小系统体积。
技术实现思路
本专利技术为解决现有在二维位移测量中，需要两套独立测量系统，导致体积较大的 问题，提供一种能够进行二维位移测量的装置。二维位移测量的装置，该装置包括激光器、扩束镜、第一反射镜、半反半透镜、第一 聚焦透镜、二维测量光栅、二维位移平台、第二反射镜、第二聚焦透镜和二维面阵探测器，其 特征在于激光器发出的激光光束经扩束镜和第一反射镜后平行入射到半反半透镜，透射 光束经聚第一焦透镜聚焦在二维测量光栅并发生衍射，衍射光束经半反半透镜和第二反射 镜后平行入射到第二聚焦透镜上，最终在二维面阵探测器上成像，图像显示系统对二维面 阵探测器上的成像进行显示。本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
二维位移测量的装置，该装置包括激光器（1）、扩束镜（2）、第一反射镜（3）、半反半透镜（4）、第一聚焦透镜（5）、二维测量光栅（6）、二维位移平台（7）、第二反射镜（8）、第二聚焦透镜（9）和二维面阵探测器（10），其特征在于：激光器（1）发出的激光光束经扩束镜（2）和第一反射镜（3）后平行入射到半反半透镜（4），透射光束经聚第一焦透镜（5）聚焦在二维测量光栅（6）并发生衍射，衍射光束经半反半透镜（4）和第二反射镜（8）后平行入射到第二聚焦透镜（9）上，最终在二维面阵探测器（10）上成像。

【技术特征摘要】
1.二维位移测量的装置，该装置包括激光器(I)、扩束镜(2)、第一反射镜(3)、半反半透镜(4)、第一聚焦透镜(5)、二维测量光栅(6)、二维位移平台(7)、第二反射镜(8)、第二聚焦透镜(9)和二维面阵探测器(10)，其特征在于激光器(I)发出的激光光束经扩束镜(2)和第一反射镜(3)后平行入射到半反半透镜(4)，透射...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢振武，刘华，党博石，孙强，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：