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足浴盆制造技术

技术编号:8556176 阅读:185 留言:0更新日期:2013-04-10 12:49
本发明专利技术涉及一种足浴盆,特别是一种足浴盆,包括盆体和底层,所述底层设置在盆体的最下层,盆体的中间设有中层,盆体的上部设有上层,所述底层的内部设置有磁铁,中层的内部设有凸起的圆孔,上层的内部设有横向的碾轴。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种足浴盆,特别是一种足浴盆。背景技述脚部是人体经络汇聚地方之一,人体内各器官在脚部有特定的反射区,对脚部按摩和刺激,能激发人体内潜在的技能,调整身体平衡状态,舒缓全身紧张,达到防病的效果,有自我保健和延年益寿之功效。先有市场上的足浴按摩器一般都具有气泡按摩、喷水按摩。加热按摩、电动按摩轮等功能,而电动按摩轮都具有单一的按摩头按摩功能,不能满足多种按摩同时进行以达到更好的按摩效果的需要。
技术实现思路
本专利技术的目的为了提供一种具按摩轮的足浴盆,可同时进行脚部不同位置、方向的按摩,并且具有双重按摩功能,可以达到更好的按摩效果。本专利技术的目的是按如下的方式来实现的一种足浴盆,包括盆体和底层,所述底层设置在盆体的最下层,盆体的中间设有中层,盆体的上部设有上层,所述底层的内部设置有磁铁,中层的内部设有凸起的圆孔,上层的内部设有横向的碾轴。所述磁铁安装在底层时,要把磁铁的正极和负极成反相安装。本专利技术的积极效果如下每一层的按摩效果不一样,上层按摩属于柔和碾摩层,滚轴来回滚动,产生舒适感。中层的凸起原点可以对脚底的穴位进行按摩,底层的条形磁铁可以产生磁场,可以对脚底起到磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足浴盆,其特征在于:包括盆体和底层,所述底层设置在盆体的最下层,盆体的中间设有中层,盆体的上部设有上层,所述底层的内部设置有磁铁,中层的内部设有凸起的圆孔,上层的内部设有横向的碾轴。

【技术特征摘要】
1.一种足浴盆,其特征在于包括盆体和底层,所述底层设置在盆体的最下层,盆体的中间设有中层,盆体...

【专利技术属性】
技术研发人员:周为保
申请(专利权)人:周为保
类型:发明
国别省市:

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