一种聚焦补偿装置制造方法及图纸

技术编号:8554103 阅读:182 留言:0更新日期:2013-04-06 11:22
本实用新型专利技术揭示了一种聚焦补偿装置,用于独立地调节多轴成像的复数个的光学成像元件的最佳成像平面,所述光学成像元件为显微镜,所述聚焦补偿装置包括复数个的具有多个不同的部件的图像位置偏移装置,所述图像位置偏移装置包括一光路径长度改变元件,所述光路径长度改变元件设置在所述显微镜的光路中。本实用新型专利技术通过提供一种聚焦补偿装置,补偿了多维成像系统中独立元件的像平面位置上的不同,促进了整个系统的制造和确保独立阵列元件的成像的聚焦。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于显微镜阵列
,尤其涉及一种聚焦补偿装置
技术介绍
在多维成像系统中,大量光学兀件排列在同一个阵列中,从而在相邻的光学兀件间有固定的关系。其优势是可以通过一致运行来扫描物体,使物体成像聚焦到一个期望的像平面上。尤其,在微型显微镜阵列中,大量显微镜物镜被安排在同一个阵列中,用来代替一个单独的物镜来扫描物体的一个大区域,速度更快分辨率更高。这样的微型显微镜阵列详见PCT专利公开号No. WO 02/075370,2002年9月26日出版。微型显微镜阵列也指阵列显微镜。在显微镜阵列中,阵列中每个元件的成像传感器设置在单独的大量平面基底上,促进了制造和电子的连接。在那种情况下,相应于每个显微镜元件的传感器的轴向位置不能被单独调整。然而,镜头制造和组装的错误会引起显微镜元件的物平面不同,这样就不能很好地共面。在那种情况下,当显微镜元件的物平面是共面的,一些显微镜传感器的图像就不是共面的,所以成像传感器探测一个尚未聚焦的图像。原则上,这个问题存在于具有一阵列传感器和相应光学元件的任何多维成像系统中。为了避免这个问题,透镜表面的形状、透镜厚度和透镜的分散需要非常高的严密度容限。然本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚焦补偿装置,用于独立地调节多轴成像的复数个的光学成像元件的最佳成像平面,其特征在于:所述光学成像元件为显微镜,所述聚焦补偿装置包括复数个的具有多个不同的部件的图像位置偏移装置,所述图像位置偏移装置包括一光路径长度改变元件,所述光路径长度改变元件设置在所述显微镜的光路中。

【技术特征摘要】
1.一种聚焦补偿装置,用于独立地调节多轴成像的复数个的光学成像元件的最佳成像平面,其特征在于所述光学成像元件为显微镜,所述聚焦补偿装置包括复数个的具有多个不同的部件的图像位置偏移装置,所述图像位置偏移装置包括一光路径长度改变元件,所述光路径长度改变元件设置在所述显微镜的光路中。2.根据权利要求1所述的一种聚焦补偿装置,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:周丕轩周伟锋
申请(专利权)人:帝麦克斯苏州医疗科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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