吸附装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种吸附装置，包括载放台，所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域；每个吸附区域凹设有吸附槽，每个吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔；抽真空单元，所述抽真空单元与每个真空孔相连通。本实用新型专利技术提供的吸附装置，在需要固定基板的时候，将基板放置在载放台上，基板与载放台的上表面相接触；启动抽真空单元，抽真空单元通过每个真空孔对每个吸附槽与基板之间进行抽真空，从而将基板吸附固定在载放台上。与现有的仅依靠真空孔进行吸附固定相比，本实用新型专利技术的吸附装置采用吸附槽这个简单的结构，增加吸附面积，从而改善了吸附固定基板的效果，同时，吸附槽的加工比较简单。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及需要使用基板的制造领域，特别涉及一种吸附装置。
技术介绍
在需要使用基板的制造领域中，如在液晶显示装置的制造过程中，需要使用不同的装置对基板进行不同的加工，在对基板进行不同的加工的过程中，需要对基板进行固定。现有的基板的固定是通过吸附装置如放置基板的基台的吸附栓或真空孔进行吸附固定。但是这两种吸附方式吸附的面积比较小，固定效果不够理想；如果通过增加吸附栓和真空孔的方式保证固定效果，需要的吸附栓和真空孔比较多，加工的复杂程度比较高。
技术实现思路
本技术提供了一种吸附装置，增加吸附面积，从而改善了吸附固定基板的效果，同时，吸附槽的加工比较简单。为达到上述目的，本技术提供以下技术方案一种吸附装置，包括载放台，所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域；每个所述吸附区域凹设有吸附槽，每个所述吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔；抽真空单元，所述抽真空单元与每个所述真空孔相连通。优选地，每个所述吸附区域包括p个相互平行的吸附槽；其中，P是大于I的自然数。优选地，所述吸附槽包括横向吸附槽和纵向吸附槽；每个所述吸附区域包括m个相互平行的横向吸附槽和n个相互平行的纵向吸附槽，横向吸附槽和纵向吸附槽相交叉且交叉处相连通，交叉处为mXn个；其中，m和n是大于I的自然数。优选地，所述横向吸附槽之间等间距分布，所述纵向吸附槽之间等间距分布，且最边缘的交叉处位于所述横向吸附槽和所述纵向吸附槽的端部。优选地，每个所述真空孔设置在交叉处的槽底。优选地，所述多个真空孔均匀分布。优选地，所述多个真空孔围合形成的图形是中心对称图形且是轴对称图形。优选地，每个所述交叉处的槽底设置有一个真空孔。优选地，所述载放台的上表面划分有I个吸附区域，所述吸附区域包括6个相互平行的横向吸附槽和6个相互平行的纵向吸附槽；所述第I个，第3个，第4个和第6个横向吸附槽与第I个，第3个，第4个和第6个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔；所述第2个和第5个横向吸附槽与所述第2个和第5个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。优选地，所述载放台的上表面划分有四个吸附区域，所述四个吸附区域按阵列两行X两列分布；每个所述吸附区域包括3个相互平行的横向吸附槽和3个相互平行的纵向吸附槽；第一行第一列和第二行第二列的吸附区域的所述第I个横向吸附槽与第I个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔，所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔，所述第3个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔；第一行第二列和第二行第一列的吸附区域的所述第I个横向吸附槽与第3个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔，所述第2个横向吸附槽与第2个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔，所述第3个横向吸附槽与第I个纵向吸附槽的交叉处的槽底设置有真空孔。优选地，还包括真空监测单元，所述真空监测单元与吸附区域一一对应，每个真空监测单元和与之对应的吸附区域的吸附槽相连接。本技术提供的吸附装置，在需要固定基板的时候，将基板放置在载放台上，基板与载放台的上表面相接触；启动抽真空单元,抽真空单元通过每个真空孔对每个吸附槽与基板之间进行抽真空，从而将基板吸附固定在载放台上。与现有的仅依靠真空孔进行吸附固定相比，本技术的吸附装置采用吸附槽这个简单的结构，增加吸附面积，从而改善了吸附固定基板的效果，同时，吸附槽的加工比较简单。附图说明图1为本技术的吸附装置的一个实施例的示意图；图2为本技术的吸附装置的另一个实施例的示意图。主要元件附图标记说明100载放台，111横向吸附槽，112纵向吸附槽，113交叉处，200 真空孔。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术的第一个实施例的吸附装置，如图1和图2所示，包括载放台100，所述载放台100的上表面划分有一个或多个吸附区域；每个吸附区域凹设有吸附槽，每个吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔200 ；抽真空单元，所述抽真空单元与每个真空孔200相连通。本实施例的吸附装置，在需要固定基板的时候，将基板放置在载放台100上，基板与载放台100的上表面相接触；启动抽真空单元,抽真空单元通过每个真空孔200对每个吸附槽与基板之间进行抽真空，从而将基板吸附固定在载放台100上。与现有的仅依靠真空孔进行吸附固定相比，本实施例的吸附装置采用吸附槽这个简单的结构，增加吸附面积，从而改善了吸附固定基板的效果，同时，吸附槽的加工比较简单。作为本技术的第二个实施例，本实施例在第一个实施例的基础上，对吸附槽的一种优选的方式进行阐述每个吸附区域包括p个相互平行的吸附槽；其中，p是大于I的自然数。每个吸附区域的吸附槽的数量，决定吸附固定的效果；相互平行的吸附槽在加工时比较整体，容易加工。作为本技术的第三个实施例，本实施例在第一个实施例的基础上，对吸附槽的另一种优选的方式进行阐述如图1和图2所示，所述吸附槽包括横向吸附槽111和纵向吸附槽112;每个吸附区域包括m个相互平行的横向吸附槽111和n个相互平行的纵向吸附槽112，横向吸附槽111和纵向吸附槽112相交叉且交叉处113相连通，交叉处113为mXn个；其中，m和n是大于I的自然数。这样分布的横向吸附槽和纵向吸附槽，使得基板受到的吸附力比较均匀。进一步地，横向吸附槽111之间等间距分布，纵向吸附槽112之间等间距分布，且最边缘的交叉处113位于横向吸附槽111和纵向吸附槽112的端部。作为本技术的第四个实施例，本实施例在第三个实施例的基础上，对真空孔进一步进行阐述每个真空孔200设置在交叉处113的槽底。位于交叉处113的槽底的真空孔200，不仅能够对横向吸附槽111进行抽真空，而且能对纵向吸附槽112进行抽真空。进一步地，所述多个真空孔200均匀分布。均匀分布的多个真空孔200使得基板受到的吸附力均匀。进一步地，所述多个真空孔200围合形成的图形是中心对称图形且是轴对称图形。作为本技术的第五个实施例，本实施例在第三个实施例的基础上，对真空孔进一步进行阐述每个所述交叉处113的槽底设置有一个真空孔200。这样，可以最大程度地增加对基板的固定吸附。作为本技术的第六个实施例，本实施例在第四个实施例的基础上，对吸附装置进一步进行阐述如图1所示，所述载放台100的上表面划分有I个吸附区域，所述吸附区域包括6个相互平行的横向吸附槽111和6个相互平行的纵向吸附槽112 ；所述第I个，第3个，第4个和第6个横向吸附槽111与第I个，第3个，第4个和第6个纵向吸附槽112的交叉处113的槽底设置有真空孔200 ；所述第2个和第5个横向吸附槽111与所述第2个和第5个纵向吸附槽112的交叉处113的槽底设置有真空孔200。需要说明的是，吸附区域的数量和排列及每个所述吸附区域的真空孔的排列方式并不限于本实施例中限定的这一种，只要可以实现吸附固定基板的即可，本处只是举例说明。作为本技术的第七个实施例，本实施例在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸附装置，其特征在于，包括：载放台，所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域；每个所述吸附区域凹设有吸附槽，每个所述吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔；抽真空单元，所述抽真空单元与所述每个真空孔相连通。

【技术特征摘要】
1.一种吸附装置，其特征在于，包括载放台，所述载放台的上表面划分有一个或多个吸附区域；每个所述吸附区域凹设有吸附槽，每个所述吸附槽的槽底设置有一个或多个真空孔；抽真空单元，所述抽真空单元与所述每个真空孔相连通。2.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，每个所述吸附区域包括P个相互平行的吸附槽；其中，P是大于I的自然数。3.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附槽包括横向吸附槽和纵向吸附槽；每个所述吸附区域包括m个相互平行的横向吸附槽和η个相互平行的纵向吸附槽， 横向吸附槽和纵向吸附槽相交叉且交叉处相连通，交叉处为mXn个；其中，m和η是大于I 的自然数。4.根据权利要求3所述的吸附装置，其特征在于，所述横向吸附槽之间等间距分布，所述纵向吸附槽之间等间距分布，且最边缘的交叉处位于所述横向吸附槽和所述纵向吸附槽的端部。5.根据权利要求4所述的吸附装置，其特征在于，每个所述真空孔设置在交叉处的槽底。6.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，所述多个真空孔均匀分布。7.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，所述多个真空孔围合形成的图形是中心对称图形且是轴对称图形。8.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，每个所述交叉处的槽底设置有一个真空孔。9.根据权利要求7所述的吸附装置，其特征在于，所述载放台...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋延生，文斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：