从曝光结果改进光学邻近模拟的方法技术

本发明专利技术公开了一种用以改进光学邻近模拟的方法，其包含下列步骤：首先，判定多个曝光数据；提供对应所述曝光数据且从多个原始模拟参数中产生的一原始模拟结果。之后，检验来自所述原始模拟结果与所述曝光结果的原始误差值来判定其是否位于一预定范围内。接下来，所述原始模拟参数会被调整来获得调整后的模拟参数。所述调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟参数会被收集来获得一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术与一种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法有关，以在光掩模上输出正确的图形。更特定来说，本专利技术是关于ー种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法，其通过收集误差值小于ー预定值的调整后模拟參数，以在光掩模上输出正确的图形。
技术介绍
在建构光学邻近效应修正(optical proximity correction, 0PC)模型时，晶圆上线宽量测数据的质量是其最重要的指标之一。现今的线宽量测中广泛地采用fittinglogic法及maximal algorithm法来进行。然,现有用以建构OPC模型的OPC数据收集作法中仍有ー些问题存在。一般而言，建构ー个好的OPC模型其所需要的OPC数据是越多越好，但是这也代表会需要花费许多时间来满足此需求。其它的问题尚有难以厘清线宽量测的变量、SEM线宽量测机台仅能提供宽度与长度的信息、以及无法显示角落信息等。目前，业界已有人提出了优化SEM线宽量测机台的量测參数的方法，其可通过数个取样点的数据来尽量降低量测变量的影响，以获得较佳质量结果或是改变其平均值。
技术实现思路
本专利技术提出了一种根据曝光结果来改进光学邻近模拟的方法，以在光掩模上输出正确的图形。首先，判定一曝光结果的曝光信息中的多个曝光数据。提供一对应所述曝光结果且根据多个原始模拟參数产生的原始模拟結果。之后，检验从原始模拟结果获得的原始误差值与从曝光结果获得的原始误差值以确认其是否位于ー预定范围内。如果没有，所述原始模拟參数会受到调整，以获得调整后的模拟參数以及ー调整后模拟結果。从所述调整后模拟结果获得的调整后误差值与所述曝光结果获得的调整后误差值在其原始误差值未位于所述预定范围内时会受到检验。所述调整后模拟參数会受到连续的调整直到其位于所述预定范围内为止。之后调整后误差值未于预定范围内的调整后模拟參数会被收集来获得一光学邻近修正模型，以在光掩模上输出ー图形。在本专利技术ー实施例中，曝光信息牵涉到一曲线图形，如一圓形或椭圆形。在本专利技术另一实施例中，曝光数据会包含至少ー第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及ー第四取样数据。在本专利技术另一实施例中，所述第一取样数据为所述曲线图形的最大半径与最小半径的其中ー个。在本专利技术另一实施例中，所述第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据会分别对应到上述曲线图形的最大半径与最小半径的其中ー个上一点的尺度，且该点会通過下列公式来判定k /2n其中n为比2大的自然数，而k为比2n小的奇数。在本专利技术另ー实施例，每ー第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据是从非対称点获得。在本专利技术另ー实施例，取样点是从3パ2n)到(2n_3)/(2n)的群组中所选出。在本专利技术另一实施例中，原始模拟结果包含至少ー第一原始模拟数据、一第二原始模拟数据、一第三原始模拟数据、以及一第四原始模拟数据，其分别对应到曝光数据的第一取样数据、第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据。在本专利技术另一实施例中，曝光数据是通过将曝光结果的影像数据与数字数据作比对而获得。在本专利技术另一实施例中，原始模拟參数包含数值孔径(N. A)、sigma in/out值，dsigma in/out值、影像模糊值(image diffusion)、切趾损失(apodization loss) >defstart值中的其中ー个。在本专利技术另ー实施例中，原始误差值为ー均方根值。在本专利技术另一实施例中，调整原始模拟參数的动作可能更包含下列步骤。首先，将原始模拟參数的一第一參数调整至最小值。调整后的误差值会被检验以确认其是否位于预定范围内或是小于先前的误差值。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。所述第一參数在其调整后最小误差值小于原始误差值时会被固定。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。所述第一參数会被调整至最大值并在第一參数调整后最小的误差值不小于先前误差值时会受到检验来确认所述调整后误差值是否位于预定范围内或是小于先前的误差值。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。首先，调整后模拟数据的下一參数会被调整至最小值。接着，从调整后的模拟结果、曝光结果、所述下ー參数、及所述固定后的第一參数来获得ー下ー调整后误差值并判定其是否位于预定范围内或是小于其先前误差值。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在现有调整后误差值变得小于先前的调整后误差值时固定所述下ー參数。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在最大值的第一參数的所述调整后误差值仍未小于原始误差值或是先前误差值时结束所述第一參数的调整动作。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。首先，将原始模拟參数的一第一參数调整至一第一可能值的一半。接着，检验所述调整后误差值来判定其是否位于预定范围内。在本专利技术另一实施例中，所述第一可能值为ー最小值或ー最大值中的其中ー个。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在所述调整后误差值小于原始误差值或是先前误差值时固定所述第一參数。在本专利技术另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在所述第一參数的调整后误差值大于原始误差值或先前误差值时将所述第一參数调整至一第二可能值的一半并进行检验来判定所述调整后误差值是否位于预定范围内。在本专利技术另一实施例中，所述第二可能值为ー最小值与ー最大值中的其中ー个，而所述第一可能值与所述第二可能值不相同。无疑地，本专利技术的这类目的与其它目的在阅读的人读过下文以多种图示与绘图来描述的优选实施例细节说明后将变得更为显见。附图说明图1-3描绘出本专利技术经由一曝光结果来改进光学邻近模拟的方法。其中，附图标记说明如下无附图说明具体实施例方式本专利技术方法可借由收集可接受的调整后模拟參数来得到一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。这些调整后的模拟參数可经由本专利技术方法获得，且其调整后误差值会位于ー预定范围内。图1-3说明了根据本专利技术一曝光结果来改进光学邻近模拟的本专利技术方法。图1绘示出本专利技术方法的一流程图。首先，先提供一来自实际曝光结果的曝光信息。曝光信息中会有多种的曝光数据，此即代表，为了要达到成功的曝光动作以及获得成功的曝光结果，从曝光结果的曝光信息中所获得的多个曝光数据中都要加以判定。举例来说，上述的曝光数据可能包含有数值孔径(Numerical Aperture, NA)、衍射光学元件(Diffractive OpticalElements, DOE)设定(包含环形或一般)、sigma in值或sigma out值等信息。在本专利技术ー实施例中，曝光信息来自一曲线图形。所述曲线图案可能为圆形、椭圆形、或类似的形状。在本专利技术另一实施例中，曝光数据会含有多个曝光数据，如至少四个曝光资料。就简单的例子来说，曝光数据会含有至少ー第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及一第四取样数据。曝光数据可借由将实际曝光结果的影像数据来与曝光结果的数字数据作比对而获得。上述的影像数据可能来自SEM照片。影像数据亦可能为从SEM线宽量测机台所获得的数据，而数字数据则可为从上述SEM照片所获得的资料。举例来说，光掩模上来自数字数据的图形会经由ー曝光程序而转移到基材上以形成影像数据。影像数据与数字数据理论上应实质相同。故此，曝光数据可通过比对实际曝光结果的影像数据本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，包含：判定来自一曝光结果的曝光信息的多个曝光数据；提供对应所述曝光结果且从多个原始模拟参数所产生的一原始模拟结果；检验从所述原始模拟结果及从所述曝光结果所获得的一原始误差值是否位于一预定范围内；调整所述多个原始模拟参数以获得调整后的模拟参数及一调整后的模拟结果，并在所述原始误差值未位于所述预定范围内时检验从所述调整后模拟结果以及从所述曝光结果所获得的一调整后误差值；调整所述调整后模拟参数直到所述调整后误差值位于所述预定范围内为止；以及收集所述调整后误差值位于所述预定范围内的所述调整后模拟参数，以获得用以在光掩模上输出图形的一光学邻近修正模型。

【技术特征摘要】
2011.09.22 US 13/239,4091.一种从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，包含:判定来自一曝光结果的曝光信息的多个曝光数据；提供对应所述曝光结果且从多个原始模拟参数所产生的一原始模拟结果；检验从所述原始模拟结果及从所述曝光结果所获得的一原始误差值是否位于一预定范围内；调整所述多个原始模拟参数以获得调整后的模拟参数及一调整后的模拟结果，并在所述原始误差值未位于所述预定范围内时检验从所述调整后模拟结果以及从所述曝光结果所获得的一调整后误差值；调整所述调整后模拟参数直到所述调整后误差值位于所述预定范围内为止；以及收集所述调整后误差值位于所述预定范围内的所述调整后模拟参数，以获得用以在光掩模上输出图形的一光学邻近修正模型。2.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光信息涉及一曲线图形。3.根据权利要求2所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光信息包含至少一第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及一第四取样数据。4.根据权利要求3所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第一取样数据为所述曲线图形的最长半径与最短半径的其中一个。5.根据权利要求3所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据分别对应到设置在所述曲线图形的最长半径与最短半径的其中一个上的一取样点的尺度，且所述取样点是从下列公式所定义出的群组中所选出k/2n其中η为一大于2的自然数而k为一小于2n的奇数。6.根据权利要求5所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据的每一个皆是从不对称的所述取样点所获得。7.根据权利要求5所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述取样点是从3/2n至2n-3/2n的群组中所选出。8.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述原始模拟结果包含至少一第一原始模拟数据、一第二原始模拟数据、 一第三原始模拟数据、以及一第四原始模拟数据，所述多个原始模拟数据分别对应到所述曝光数据的所述第一取样数据、所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据。9.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光数据是通过将所述曝光结果的一影像数据与所述曝光结果的一数字数据作比对而获得。10.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述原始资料参数包含一数值孔径、一 si...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄登烟，
申请(专利权)人：南亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：