一种深紫外铝光栅偏振器制造技术

本发明专利技术公开了一种深紫外铝光栅偏振器，包括铝光栅和基底介质，铝光栅的周期为50nm-100nm，厚度为50nm-200nm，占空比（光栅栅线宽度/光栅周期）为0.3-0.7；基底介质的材料是SiO2；基底介质紧密的包裹铝光栅。本发明专利技术的光栅偏振器可以覆盖波长为150nm-160nm的超深紫外光，体积小、结构紧凑；本发明专利技术的光栅偏振器解决了现有偏振器不能工作在157nm波长而无法满足157nm光刻技术需求的问题。

【技术实现步骤摘要】

专利技术涉及一种偏振器，具体涉及一种工作波长为150nm-160nm的超深紫外线偏振器，属于光栅偏振器

技术介绍
偏振器是获得偏振光的器件。传统的偏振器主要有利用反射起偏的多层透明介质膜偏振器、利用折射起偏的多层透明介质膜偏振器、利用二向色性起偏的偏振器和利用双折射起偏的晶体起偏器。大多数传统偏振器的体积都比较大，这不利于它们在光电集成系统上的应用。光栅偏振器是一种新型偏振器。光栅偏振器具有体积小、结构紧凑、易于集成等优点。这种偏振器具有巨大的应用前景。由于大多数材料在深紫外波段具有高的吸收率，因此大多数传统偏振器的工作波长都在200nm以上。只有少数基于BBO晶体的偏振器的工作波长能够向短波方向延伸到190nm。但是当波长小于190nm后，基于BBO晶体的偏振器也存在闻损耗的问题,这使得基于BBO晶体的偏振器的透射率近似为零。虽然光栅偏振器具有应用于深紫外波段的潜力，但现有的光栅偏振器的工作波长一般都大于170nm。随着157nm光刻技术的发展,急需偏振光源来提高它的光刻分辨率。但现有的偏振器无法满足157nm光刻技术对高透射率偏振器的需求。专利技术内容有鉴于此，本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种深紫外铝光栅偏振器，其特征在于，包括铝光栅和基底介质，基底介质的材料是SiO2，基底介质紧密的包裹铝光栅。

【技术特征摘要】
1.一种深紫外铝光栅偏振器，其特征在于，包括铝光栅和基底介质，基底介质的材料是 SiO2，基底介质紧密的包裹铝光栅。2.如权利要求1所述的深紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员：董建杰，康果果，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：