乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用技术

技术编号:8525589 阅读:327 留言:0更新日期:2013-04-04 06:27
本发明专利技术公开了一种乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用。该聚合物如式I所示。本发明专利技术提供的聚合路线简单高效、原料供应广泛、合成成本低,具有很好普适性和高的重复性等优点,可以推广应用到其他各种取代基的乙烯-NDI大π共聚物的合成。以本发明专利技术以此类聚合物半导体材料作为活性层制备的FETs展现出良好的双极性特征,其最大电子和空穴迁移率分别达到0.73和0.12cm2/V·s,展现出了这类聚合物材料在FETs中有优良的应用潜质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用
技术介绍
相比传统无机场效应晶体管(FETs),聚合物FETs不仅具有溶液法加工的优势,而其具有制备工艺简单、成本低廉、柔韧性好等优点。可广泛用于存储器、射频电子商标、智能卡、传感器和有源矩阵显示器等方面,将有望成为下一代有机光电子电路的关键元器件。萘酰亚胺(简称NDI),以其大的共平面结构、强的缺电子能力、以及化学修饰便利等优点深受科研人员的关注。最近,基于NDI单元合成了一系列的小分子和聚合物的有机半导体材料。((l)Chen, Z. H. ; Zheng, Y. ; Yan, H. ; Facchetti, A.J. Am. Chem. Soc. 2009, 131,8; (2) Huang, Η. ; Chen, Z. H. ; Ortiz, R. P. ; Newman, C. ; Usta,H. ; Louj S. ; Younj J. ; Nohj Y. Y. ; Baegj K. J. ; Chen, L. X. ; Facchetti, A. J. Am. Chem.Soc. 2012,134,10966.))这些材料表现出高的溶解性能,宽的光谱响应范围,搞得光和热稳定性,以及优良电荷传输能力。这类基于NDI单元构建的共轭聚合物一般具有二元的给-受体(D-A)交替结构,通常这些聚合物都是以单键相连构筑的D-A构型的聚合物。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物及其制备方法与应用。本专利技术提供的乙烯双键桥连NDI基共轭聚合物,也即乙烯-NDI大Ji共聚物(简称NDI基共聚物或PNVTs),其结构通式如式I所示,本文档来自技高网...

【技术保护点】
式I所示共聚物,所述式I中,所述R均选自碳原子总数为6?16的直链烷基和碳原子总数为8?28的支链烷基中的任意一种;Ar为噻吩基、呋喃基、吡咯基、噻唑基、噻二唑基、并二噻吩基、并三噻吩基或苯基;n为20?200的整数。FDA00002586589900011.jpg

【技术特征摘要】
1.式I所示共聚物,2.根据权利要求1所述的共聚物,其特征在于所述式I中,η为50-100的整数,优选60 ; 所述碳原子总数为8-28的支链烷基为2-乙基己基,2-丁基己基、2-己基辛基、2-辛基癸基、2-癸基十二烷基、2-癸基十四烷基或2-十二烷基十六烷基。3.一种制备权利要求1或2任一所述共聚物的方法,包括如下步骤在四(三苯基膦)钯的催化条件下,将式Ml所示单体和式M2所示单体置于溶剂中进行钯催化偶联反应,反应完毕得到所述式I所示共聚物,4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于所述式Ml所示单体与式M2所示单体的投料摩尔比为I 1-1...

【专利技术属性】
技术研发人员:于贵陈华杰郭云龙黄剑耀刘云圻
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
类型:发明
国别省市:

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