一种高光生酸量子产率硫鎓盐类光生酸剂、制备方法及其应用技术

本发明专利技术涉及一种高光生酸量子产率硫鎓盐类光生酸剂、制备方法及其应用。本发明专利技术提出的光生酸剂化合物，其中：R1为甲基、苄基、五氟代苯基或4-氰基苄基；R2为三氟甲烷磺酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根或四氟硼酸根。本发明专利技术的PAG适用于诸如365nm、385nm、405nm，425nm的紫外区到近可见光区成像的光刻胶光活性成分。此类光生酸剂合成步骤简单，易于提纯，产率高，在365nm～425nm区域内，此类光生酸剂用于光刻胶体系能制备出性能优良的光刻胶，体现出0.3～0.6的光生酸量子产率，光激发效率高，催化活性高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高光生酸量子产率硫鎗盐类光生酸剂、制备方法及其应用。
技术介绍
光刻胶是将图像转移到基底上的光敏膜。它们形成负或正图像。将光刻胶涂覆在基底上之后，透过有图案的掩膜或光罩将涂层暴露在诸如紫外光，近可见光的活化能源下，在光刻胶图案中形成潜像。对于活化辐射，光罩有不透明的区域和透明的区域，确定了需要转移到下面基底的图像。通过将光刻胶涂层中的潜像图案显影，得到了三维立体图像。光生酸剂是光刻胶体系中的重要组分，光生酸剂是20世纪80年代被开发出来的一种高效化学增幅剂。它可以通过吸收光子能量解离产生质子，从而引发曝光区域物理化学性质的变化。由于这种产酸机理是外界可控的，并且这种化学增幅作用能够大大提高光化学反应的速率，所以近年来光生酸剂已经被广泛应用于光刻胶，计算机直接制版，酸引发聚合和避光指示剂等诸多领域中如[201010625168.3]等。硫鎗盐型光生酸剂作为其中的一大类，被人们广泛的使用，各种改性方法也层出不穷。通过将含有光生酸剂的光刻胶涂层曝光后，选择裂解保护基团，提供了极性官能团，例如羧基、苯酚或亚胺，这导致在光刻胶涂层曝光和未曝光的区域形成不同的溶解性。专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高光生酸量子产率硫鎓盐类光生酸剂，其特征在于所述光生酸剂的结构式如下：其中R1为甲基、苄基、五氟代苯基或4?氰基苄基中任一种；R2－为反离子。2013100004900100001dest_path_image002.jpg

【技术特征摘要】
1.一种高光生酸量子产率硫鎗盐类光生酸剂，其特征在于所述光生酸剂的结构式如下2.根据权利要求1的高光生酸量子产率硫鎗盐类光生酸剂，其特征在于所述RT为三氟甲烷磺酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根或四氟硼酸根中任一种。3.—种如权利要求1的高光生酸量子产率硫鎗盐类光生酸剂的制备方法，其特征在于具体步骤如下 (1)在惰性气体保护下，将2.67g, IOmmol N, N-二苯胺基苯甲醒溶于无水四氢呋喃中，并加入5. 36g, 15mmol甲基三苯基溴化磷,0°C下滴加溶于四氢呋喃的3. 6g, 30mmol叔丁醇钾，保持体系温度为O °(T10°C ;滴加完后升温至室温，搅拌反应3飞小时，将反应溶液倒入水中，二氯甲烷萃取，盐水洗涤，有机相用无水硫酸钠干燥，柱层析得到液体，真空除溶剂后得到白色粉末产物(2. 168g, 8mmol)N, N-二苯胺基苯乙烯； (2)惰性气体保护下，将步骤⑴产物2.71g，IOmmol N, N-二苯胺基苯乙烯加入33mL三乙醇胺中，再加入2. 03g, IOmmol 3-溴苯甲硫醚和40mg,0. 18mmol醋酸钮,搅拌加热至10(T120°C，避光搅拌，反应1(Γ12小时后，倒入水中产生墨绿色固体，过滤，将过滤得到的固体溶于二氯甲烷中，经硅胶过滤除去醋酸钯，滤液除溶剂后获得粘稠液体，经柱层析提纯，得到淡黄色固体产物2. 87g，7mmol 3- (N, N-二苯胺基苯乙烯基)苯甲硫醚；其中柱层析中采用的淋洗剂为环已烷和乙酸乙酯的混合液，环己烷和乙酸乙酯的体积比为10/1飞/I ； (3)将步骤(2)产物3-(N，N-二苯胺基苯乙烯基)苯...

【专利技术属性】
技术研发人员：金明，洪烘，谢健超，浦鸿汀，万德成，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：