基板清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术所提供一种基板清洗装置，包括：用于为基板表面清洗工艺提供作业空间的清洗箱，清洗箱包括用于将作业空间与外部隔开的挡板，挡板上设有过孔；用于在基板表面接触并旋转，以清洗基板表面的清洗刷，设置于清洗箱的内部；用于带动清洗刷旋转的传动轴，一端通过过孔伸出清洗箱外，另一端与清洗箱内部的清洗刷连接；用于阻止清洗箱内部的液体从挡板上的过孔流出的阻止机构，设于挡板的过孔处。本实用新型专利技术的基板清理装置在清洗槽的挡板的过孔处设置阻止机构，阻止玻璃表面的液体沿着传动轴从清洗槽的挡板的过孔处流出至清洗槽外，保证传动轴和马达连接部位在干燥环境中运行，保证设备运行稳定性，提高设备寿命。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种基板清洗装置，属于显示

技术介绍
在液晶面板制造和半导体领域的生产工艺中，清洗工序是必然要用到的工艺之一。白玻璃（Bare Glass）从包装箱中开封后，要经过最初始的清洗，称作初步清洗（Initial Clean），以保证其在基板制造过程中的表面洁净度。如图1所示，TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）阵列玻璃基板制造过程中，玻璃初步清洗时，玻璃在基板清洗装置的输送机构作用下，沿一定输送方向，自玻璃入口A进入清洗箱100，在清洗箱100内进行玻璃清洗工艺后，再从玻璃出口N出来。其中，清洗箱100包括沿玻璃输送方向依次设置的第一缓冲区间B、第二缓冲区间C、第一喷淋区间D、第一清洗剂区间E、第二清洗剂区间F、第二喷淋区间G、第三喷淋区间H、第四喷淋区间I、第五喷淋区间J、第六喷淋区间K、气刀区间L和第三缓冲区间M等。其中，在各清洗剂区间内，玻璃是利用设置于清洗箱100内的转动的清洗刷来刷洗玻璃表面以达到清洗目的。如图2所示，基板清洗装置的清洗箱100内的清洗刷200，是在传动轴400、马达500等驱动下转动，其中，传动轴400一端与清洗箱100内部的清洗刷200连接，另一端穿过清洗箱100的挡板101上的过孔102，通过螺栓、丝扣等与位于清洗箱100外部的马达500进行连接。传动轴400与马达500的连接部位位于清洗箱100外部的干燥区间Z，要求干燥区间Z的环境越干燥越好。但是，由于TFT（Thin Film Transistor，薄膜晶体管）行业中所涉及到的绝大多数清洗过程（包括湿法刻蚀、湿法剥离）都需要倾斜输送（倾斜约15°角）玻璃。TFT-LCD阵列玻璃基板制造过程中，玻璃在初步清洗时，也需要倾斜输送，清洗刷200的传动轴400也是倾斜一定角度设置。这样，在玻璃输送过程中，会有大量液体沿着玻璃的倾斜方向流下。由于现有的基板清洗装置中在传动轴400与清洗箱100的挡板101上的过孔102之间的空隙没有设置密封组件，液体会沿着清洗刷200的传动轴400，从挡板101上的过孔102流出至清洗箱100外部的干燥区间；同时，在对玻璃300表面喷淋液体时，也会有部分液体贱到挡板101的过孔102与传动轴400的间隙处；这样，就会造成传动轴400、马达500等金属部件长时间在湿度很大的环境中工作，严重的话会影响马达500的稳定性，对马达500造成损害。
技术实现思路
为了解决上述现有技术中基板制造过程中，会有液体从基板清洗装置的清洗箱渗透出来，而导致传动轴与驱动马达连接部位在湿度很大的环境中运行的问题，本技术提供了一种基板清洗装置，能够防止液体从清洗箱渗漏至清洗箱外部的干燥区间。本技术所提供的技术方案为：一种基板清洗装置，包括：用于为基板表面清洗工艺提供作业空间的清洗箱，所述清洗箱包括用于将所述作业空间与外部隔开的挡板，所述挡板上设有过孔；用于在基板表面接触并旋转，以清洗基板表面的清洗刷，设置于所述清洗箱的内部；用于带动所述清洗刷旋转的传动轴，一端通过所述过孔伸出所述挡板外，另一端与所述清洗箱内部的所述清洗刷连接；以及，用于阻止所述清洗箱内部的液体从所述挡板上的过孔流出的阻止机构，设于所述挡板的过孔处。进一步的，所述阻止机构包括一用于阻止液体顺着所述传动轴向所述过孔处流动的内套，所述内套套设于所述传动轴上并位于所述清洗刷与所述挡板之间。进一步的，所述内套包括一套设于所述传动轴上的环状的垫片，所述垫片的外径大于所述挡板上的过孔的内径。进一步的，所述阻止机构还包括一套设于所述传动轴上的环状的轴套，与环状的垫片固连为一体，其中，所述垫片位于靠近所述过孔的一端。进一步的，所述阻止机构还包括遮挡密封盖，用于遮挡所述传动轴与所述挡板之间的空隙以阻止液体由所述空隙流出。进一步的，所述遮挡密封盖为盖形结构，具有呈开口状的第一端和中心具有通孔的第二端，所述第一端的开口面积大于所述第二端的通孔面积，所述第一端和所述第二端之间为容腔；其中，并且所述第一端的开口的边沿与所述挡板固定地或可拆卸地连接，所述第二端的通孔的内缘直径大于所述传动轴外径，且所述第二端的通孔内穿装所述传动轴；或者，所述遮挡密封盖的第一端的开口朝向所述挡板，且所述第一端的开口的边沿围绕所述挡板的过孔的周围，并且所述第一端的开口的边沿与所述挡板相离，所述第二端的通孔的内缘与所述传动轴固定地或可拆卸地连接；或者，所述遮挡密封盖的第一端的开口朝向所述清洗刷，所述遮挡密封盖的第二端的通孔内穿装所述传动轴，且所述第二端的通孔内缘与所述挡板或与所述传动轴固定地或可拆卸地连接。进一步的，所述遮挡密封盖的容腔壁上设有至少一个引流口，所述引流口的水平位置低于所述挡板的过孔。进一步的，所述阻止机构包括风扇装置，所述风扇装置用于在所述挡板的过孔处产生吹向所述清洗箱内部的气流，以阻止液体从所述挡板的过孔流出的风扇装置。进一步的，所述风扇装置设置在所述过孔处，且固定在所述挡板上或者固定在所述传动轴上。进一步的，所述风扇装置包括：能够在所述传动轴带动下旋转的多个风扇叶轮，所述多个风扇叶轮沿所述传动轴周向均匀分布于所述传动轴上。进一步的，所述基板清洗装置还包括用于带动所述传动轴旋转的马达，所述马达与所述传动轴伸出所述过孔外的一端连接。本技术的有益效果为：本技术的基板清理装置在清洗箱的挡板的过孔处设置有一阻止机构，阻止清洗箱内的液体从挡板的过孔处流出至清洗箱外，从而保证了传动轴和马达连接部位处于干燥环境中运行，保证了设备运行稳定性，提高设备寿命。附图说明图1表示现有技术中基板清洗装置的整体示意图；图2表示现有技术中基板清洗装置的内部结构示意图；图3表示本技术的基板清洗装置的第一种实施例的结构示意图；图4表示本技术的基板清洗装置的第二种实施例的结构示意图；图5表示本技术的基板清洗装置的第二种实施例中的阻止机构的结构示意图；图6表示本技术的基板清洗装置的第六种实施例的结构示意图；图7表示本技术的基板清洗装置的第十种实施例的结构示意图；图8表示本技术的基板清洗装置的第十一种实施例的结构示意图；图9表示本技术的基板清洗装置的第十二种实施例的结构示意图。具体实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，包括：用于为基板表面清洗提供作业空间的清洗箱，所述清洗箱包括用于将所述作业空间与外部隔开的挡板，所述挡板上设有过孔；位于所述清洗箱内部、与基板表面接触并旋转以清洗基板表面的清洗刷；用于带动所述清洗刷旋转的传动轴，所述传动轴的一端通过所述过孔伸出所述挡板外，另一端与所述清洗刷连接；其特征在于，所述基板清洗装置还包括：用于阻止所述清洗箱内部的液体从所述挡板上的过孔流出的阻止机构，设于所述挡板的过孔处。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，包括：
用于为基板表面清洗提供作业空间的清洗箱，所述清洗箱包括用于将所述
作业空间与外部隔开的挡板，所述挡板上设有过孔；
位于所述清洗箱内部、与基板表面接触并旋转以清洗基板表面的清洗刷；
用于带动所述清洗刷旋转的传动轴，所述传动轴的一端通过所述过孔伸出
所述挡板外，另一端与所述清洗刷连接；
其特征在于，所述基板清洗装置还包括：
用于阻止所述清洗箱内部的液体从所述挡板上的过孔流出的阻止机构，设
于所述挡板的过孔处。
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：所述阻止机构包
括用于阻止液体顺着所述传动轴向所述过孔处流动的内套，所述内套套设于所
述传动轴上并位于所述清洗刷与所述挡板之间。
3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于：所述内套包括套
设于所述传动轴上的环状的垫片，所述垫片的外径大于所述挡板上的过孔的内
径。
4.根据权利要求3所述的基板清洗装置，其特征在于：所述内套还包括
套设于所述传动轴上的环状的轴套，与环状的所述垫片固连为一体，其中所述
垫片位于靠近所述过孔的一端。
5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于：所述阻止机构包
括遮挡密封盖，用于遮挡所述传动轴与所述挡板之间的空隙以阻止液体由所述
空隙流出。
6.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于：所述遮挡密封盖
为盖形结构，具有呈开口状的第一端和中心具有通孔的第二端，所述第一端的
开口面积大于所述第二端的通孔面积，所述第一端和所述第二端之间为容腔；
其中，
所述遮挡密封盖的第一端的开口朝向所述挡板，且所述第一端的开...

【专利技术属性】
技术研发人员：张磊，李伟，宋泳珍，崔泰城，古星，秦刚，马迪，许国梁，石岩，赵磊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：