【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。更具体来说，本专利技术涉及使对滚 筒模具的描画的精度提高的技术的改良。
技术介绍
以往，通过在LED、LD等的光学设备的表面、或者内部制作光的波长程度的周期结 构来进行光学设备的特性的控制、或者改良。这样的目的的周期结构通过各种微细加工而 做成，尤其是现在最被看好的技术之一有纳米压印技术。纳米压印的压模转印所使用的模 具(压模)一般通过光学的曝光装置来制作。在此，作为压模转印所采用的模具，除了平板压制所采用的平板状的模具之外，还 开发有能够一边旋转一边在膜上连续转印的滚筒状的模具(滚筒模具)。以往，滚筒模具例 如通过将金属薄膜等可挠性材料贴在滚筒上来制作，但是在该情况下，贴合的模具上具有 切口，因此存在滚筒旋转一周在图案上残留接缝的情况。这一点，采用一边使滚筒模具旋转 一边曝光以对图案进行描画的手法的话，能够避免这样的问题。然而，在一边使滚筒模具旋转一边进行曝光之时，以往采用通过透镜使得电子束 集束并照射在抗蚀剂上进行描画的手法(参照图5)，但除此之外也提出了将通过透镜成为 了大致平行光的电子束照射到形成有开口图案的镂空掩模上，将透过了的多束电子...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.16 JP 2010-1372261.一种滚筒模具的制作装置，其是制作滚筒模具的装置，所述滚筒模具是用于转印图案的滚筒状的压模，所述滚筒模具的制作装置的特征在于，包括电子束照射装置，所述电子束照射装置对涂敷有抗蚀剂的所述滚筒模具照射电子束； 掩模，所述掩模具有使从该电子束照射装置照射的电子束的一部分透过的开口部，以形成同时在所述抗蚀剂上进行描画的多束电子束；旋转驱动装置，所述旋转驱动装置使所述滚筒模具绕旋转轴旋转；位移量检测传感器，在通过该旋转驱动装置进行旋转时，所述位移量检测传感器对所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测；控制装置，所述控制装置接收该位移量检测传感器的检测信号，发送用于使所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动的控制信号；以及致动器，所述致动器根据来自该控制装置的控制信号使得所述电子束的描画位置与所述滚筒模具的向旋转轴方向的位移随动，所述滚筒模具的制作装置抑制由所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移所导致的所述抗蚀剂的曝光位置的偏差。2.如权利要求1所述的滚筒模具的制作装置，其特征在于，所述掩模的开口部用来使透过后的所述电子束成为多束平行光。3.如权利要求1或2所述的滚筒模具的制作装置，其特征在于，所述致动器用来使所述掩模向旋转轴方向移动。4.如权利要求1至3中任一项所述的滚筒模具的制作装置，其特征在于，所述位移量检测传感器对所述旋转轴的端面的向所述旋转轴方向的位移量进行检测。5.如权利要求4所述的滚筒模具的制作装置，其特征在于，所述位移量检测传感器对所述旋转轴的端面的旋转中心部分的位移量进行检测。6.如权利要求1至5中任一项所述的滚筒模具的制作装置，其特征在于，所述致动器是压电致动器。7.一种滚筒模具的制作方法，其是制作滚筒模具的方法，所述滚筒模具是用于转印图案的滚筒状的压模，所述滚筒模具的制作方法的特征在于，使从电子束照射装置照射的电子束透过形成有开口部的掩模，以使其成为同时在所述抗蚀剂上进行描画的多束电子束，使得涂敷有抗蚀剂的所述滚筒模具绕旋转轴旋转，对该滚筒模具照射透过了所述掩模的电子束，对旋转时的所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测，根据该检测信号使得所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动。8.如权利要求7所述的滚筒模具的制作方法，其特征在于，使得透过所述掩模的开口部后的所述电子束成为多束平行光。9.如权利要求8或9所述的滚筒模具的制作方法，其特征在于，通过致动器使得所述掩模向旋转轴方向移动，使得所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动。10.如权利要求7至9中任一项所述的滚筒模具的制作方法，其特征在于，通过对所述旋转轴的端面向所述旋转轴方向的位移量进行检测，来对所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测。11.如权利要求10所述的滚筒模具的制作方法，其特征在于，对所述旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤直人，北田敏夫，木口屋秀成，
申请(专利权)人：旭化成株式会社，
类型：
国别省市：
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