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一种采用电镀来制备软磁材料铁镍合金阵列的方法技术

技术编号:8485397 阅读:190 留言:0更新日期:2013-03-28 04:40
本发明专利技术的目的在于提供一种采用电镀来制备软磁材料铁镍合金阵列的方法,该方法采用特定的电镀液配方达到最优化的合金的比例,从而实现最好的软磁性能。可以在0.15μm的种子层上生长出高度均一的10μm-50μm的薄膜。并且具有工艺简单,易于实现,成本低廉、便于控制实验过程等优点。同时电镀液配方可以自行调整,具有极大的灵活性。在光刻之后进行便于与其他工艺集成化。制作出来的阵列在2000μm*2000μm的单元中,便于测量。通过阵列的制造方法,铁镍合金材料的软磁性能得到了极大的提升。同时纳米磁颗粒的加入也对材料的磁性有较大的提升。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域,具体涉及微纳米加工
,尤其涉及。
技术介绍
铁镍合金是一种具备良好软磁性能的材料,具有窄而瘦的磁滞回线,剩余磁化强度和矫顽力都比较小,初始磁导率高达100000以上,在弱磁场以及射频领域有着广泛的应用。尤其作为MEMS电感的磁芯材料,可以极大提升电感值和品质因数(Q值),使得电感在射频领域下有很好的应用。微机电系统(MEMS)是一种新型多学科交叉的技术,它涉及机械、电子、化学、物理、 光学、生物、材料等多种学科。在纳米加工器件中,经常需要加工一种高性能的磁性材料作为器件的一部分功能材料,例如MEMS电感的磁芯材料。在MEMS加工技术中,通常可以通过真空蒸发(evaporation),派射(sputtering),电镀(electroplating)等方法制备合金薄膜。真空蒸发是指在真空室中加热待蒸发薄膜材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸汽流入射并淀积到固体(衬底)上的方法。溅射是一种高能离子轰击靶材,溅射出原子或分子沉积在阳极基板上形成薄膜的过程。例如,G. S. D. Beach等人在2005年发表的Co-Femetal/native-本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用电镀来制备软磁材料铁镍合金阵列的方法,其特征在于按顺序包括如下步骤:(a)基底上溅射种子层;(b)厚胶光刻出阵列图形;(c)配制电镀液;(d)设置电源参数,连接电路;(e)调整电镀时间以及均匀搅拌设备进行电镀;(f)用丙酮去光刻胶;(g)用冰醋酸和双氧水去种子层;(h)在真空室内进行退火;(i)测试铁镍合金阵列的软磁性能。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张海霞李忠亮孙旭明郑阳
申请(专利权)人:北京大学
类型:发明
国别省市:

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