【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及溅射镀膜
，特别涉及。
技术介绍
溅射镀膜是利用高能离子束将靶材中高纯靶质的原子轰击出来，并沉积在基板上的过程；如图1、图2所示，现有的靶材一般包括具有固定孔11的背铜板10、高纯靶质20和将高纯靶质20固定在背铜板10上的连接部30 ;在溅射镀膜过程中，随着高纯靶质20原子不断的被轰击出来，高纯靶质20逐渐被消耗掉；由于溅射镀膜工艺的特殊性，在图2中A和B两个区域内高纯靶质20消耗的最快，即在A和B两个区域内高纯靶质20最容易被溅射透，这就需要及时地更换靶材，否者靶材使用过量会导致背铜板上的铜原子一并被溅射出来并沉积在基板上，从而影响所镀膜层的性能。不过，目前在溅射镀膜过程中，通常采用设定靶材寿命值的方法来预防靶材使用过量，而靶材寿命值通常是经验所得，再加上设备的差异性，易出现靶材使用过量问题，从而影响溅射镀膜工序产品的合格率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，用于防止靶材使用过量，提高溅射镀膜工序产品的合格率。为了达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案一种靶材使用检测系统，包括靶材，且在所述靶材的背板上设置有至少一个具有凹槽的凸台和...
【技术保护点】
一种靶材使用检测系统，其特征在于，包括：靶材，所述靶材的背板上设置有至少一个具有凹槽的凸台和与所述凹槽连通的导气通道，所述凸台被所述靶材的靶胚和连接部密封；与所述导气通道连通的流量计，用于监测所述导气通道和凹槽中的气体是否流动；以及与所述流量计信号连接的溅射设备的自锁装置，用于获取所述流量计的状态，并当所述流量计显示流量时启动，使溅射设备停止工作。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李胜斌，尹明格，付艳强，刘勃，张立星，车奉周，刘占伟，金相起，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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