一种对抗射击靶制造技术

技术编号:8472002 阅读:168 留言:0更新日期:2013-03-24 15:49
本实用新型专利技术公开一种对抗射击靶,包括支架、可移动底座和若干靶标,所述支架设置在所述可移动底座上,所述靶标设置在所述支架上;所述靶标包括一活动安装柄以及与之连接的靶标主体;所述若干靶标通过所述活动安装柄铰接在所述支架上,所述靶标主体伸出所述支架左右两侧形成两排射击靶;所述支架为门框型支架包括垂直所述可移动底座设置的两根侧立柱,所述靶标顺次安装在所述两根侧立柱上;所述两根侧立柱之间设置有用于放置射击物件的支撑板;本实用新型专利技术具有结构简单、使用方便的特点,是一种能在同一时空下进行双人对抗射击训练的对抗射击靶。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种对抗射击靶,包括支架、可移动底座和若干靶标,所述支架设置在所述可移动底座上,所述靶标设置在所述支架上,其特征在于:所述靶标包括一活动安装柄以及与之连接的靶标主体;所述若干靶标通过所述活动安装柄铰接在所述支架上,所述靶标主体伸出所述支架左右两侧形成两排射击靶。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘民彭斌石子坚张军张伟
申请(专利权)人:上海公安高等专科学校
类型:实用新型
国别省市:

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