杂环桥联联苯及其在场致发光装置中的应用制造方法及图纸

本发明专利技术涉及场致发光装置，其包含式(I)的化合物，尤其是作为磷光化合物的主体。该主体可以与磷光材料一起作用来为场致发光装置提供提高的效率、稳定性、制造性或者光谱特性。

【技术实现步骤摘要】
杂环桥联联苯及其在场致发光装置中的应用本申请是于2009年3月13日进入中国、国家申请号为200780034161.0、专利技术名称为“杂环桥联联苯及其在场致发光装置中的应用”的PCT申请(国际申请号：PCT/EP2007/059218，国际申请日：2007年9月4日)的分案申请。
本专利技术涉及场致发光装置，其包含式(I)的化合物尤其是作为磷光化合物的主体。该主体可以与磷光材料一起作用来为场致发光装置提供提高的效率、稳定性、制造性或者光谱特性。
技术介绍
JP9013025涉及一种下式表示的喹喔啉衍生物场致发光元件：其中X是C2-C5烷基等；R1-R8彼此独立，每个是H、卤素、C1-C6烷基等。JP11251063公开了下式表示的三亚苯化合物：其用作有机EL元件的组成材料。在该式中，R1-R12每个独立的表示氢原子，卤素原子，羟基基团，取代的或者未被取代的氨基基团，硝基基团，氰基基团，取代的或者未被取代的烷基基团，取代的或者未被取代的链烯基基团，取代的或者未被取代的环烷基基团，取代的或者未被取代的烷氧基基团，取代的或者未被取代的芳烃基团，取代的或者未被取代的芳族的杂环基团，取代的或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种场致发光(EL)装置，其包含式(Ib)的化合物，其中A是5?、6?或者7?元杂芳环，其含有至少一个选自氮、氧和硫的杂原子，尤其是一个氮原子和至少一个选自氮、取代的氮、氧和硫的另外的杂原子，Z1是?NA1A1′、?P(＝O)A4A4′或者?SiA6A7A8，Z2是?NA2A2′、?P(＝O)A5A5′或者?SiA6′A7′A8′，Ar和Ar′彼此独立的是C6?C14芳基，例如苯基或者萘基，其可以任选的用选自下面的一个或多个基团进行取代：可以任选地用?O?中断的C1?C25烷基，或者C1?C25烷氧基，R1、R2、R3、R4、R5和R6彼此独立的是氢、卤素或者有机取代基，或者R1、R2、R3、...

【技术特征摘要】
2006.09.14 EP 06120674.41.一种场致发光（EL）装置，其包含下式的化合物：(XVI)，或(XVIII)，其中，R1和R4是氢，R2、R3、R5和R6是H，R8和R9彼此独立的是H、或C1-C18烷基，R10是C6-C24芳基、或用C1-C18烷基取代的C6-C24芳基，R11和R14是氢，R12、R13、R15和R16是H，X是NR17，其中R17是C6-C18芳基；或被C1-C18烷基取代的C6-C18芳基；A1、A2、A1'和A2'彼此独立的是，或,其中R116和R117彼此独立的是H、或C1-C18烷基，或者A1和A1'或者A2和A2'与它们键合到其上的氮原子一起形成，或，其中m’=2。2.根据权利要求1的EL装置，其中R8和R9是氢。3.根据权利要求1的EL装置，其中R10是C6-C...

【专利技术属性】
技术研发人员：F温德博恩，B施米德哈尔特，T沙弗，P穆勒，K巴登，
申请(专利权)人：西巴控股有限公司，
类型：发明
国别省市：