【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用凸版印刷版原版及其制造方法、以及凸版印刷版及其制版方法。
技术介绍
提出了较多用激光直接雕刻凸版形成层而制版的所谓的“直接雕刻CTP方式”。该方式中,对柔性原版直接照射激光,通过光热转换产生热分解和挥发,形成凹部。直接雕刻CTP方式与使用原图膜的凸版形成不同,其可以自由地控制凸版形状。因此,在形成如镂空文字那样的图像的情况下,可以将该区域以比其它的区域更深地雕刻,或在微细网点图像中,考虑到抵抗印刷压力,进行带肩(shoulder)的雕刻等。该方式中使用的激光通常使用高输出功率的二氧化碳激光。在二氧化碳激光的情况下,所有有机化合物均吸收照射能量而可以转化为热。另一方面,正在开发廉价且小型的半导体激光,但这些激光是可见光和近红外光,因此,需要吸收该激光而转换成热。激光雕刻型的凸版印刷版(柔性版)中的凸版的凸部具有与凸版印刷版原版(柔性原版)相同的物性,柔性原版本身需要具有对于印刷而必要的柔软性、 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.29 JP 2010-1476671.一种激光雕刻用树脂组合物,其特征在于,含有成分A、成分B、
成分C以及成分D,
所述成分A为具有1个以上缩合性基,且具有1个以上自由基链转移
性基的化合物,
所述成分B为自由基聚合性化合物,
所述成分C为自由基聚合引发剂,
所述成分D为粘合剂聚合物。
2.根据权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
成分D具有能够与所述缩合性基反应的基团。
3.根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
所述缩合性基为水解性甲硅烷基和/或硅醇基。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
所述自由基链转移性基为硫醇基或二硫醚基。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
还含有成分E:具有2个以上水解性甲硅烷基和/或硅醇基的化合物。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
还含有成分F:缩合反应催化剂。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物,其中,
成分B为具有2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物。
8.一种激光雕刻用凸版印刷版原版,其具有包含权利要求1~7中任
一项所述的激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层。
9.一...
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