密封膜形成方法、密封膜形成装置及有机发光元件制造方法及图纸

本发明专利技术提供密封膜形成方法、密封膜形成装置及有机发光元件。能够以比以往技术更短的时间及低成本形成抗透湿性较高的密封膜。在用于形成用于密封有机EL元件（12）的密封膜（13）的密封膜形成方法中，在有机EL元件（12）的表面上形成第一无机层（13a），在第一无机层（13a）之上形成碳氢化合物层（13c），通过使碳氢化合物层（13c）软化或熔化而使其平坦化，使碳氢化合物层（13c）固化，使碳氢化合物层（13c）固化后，在碳氢化合物层13c之上形成比第一无机层（13a）厚的第二无机层（13e）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及形成用于密封有机发光元件的密封膜的密封膜形成方法、密封膜形成装置及形成有密封膜的有机发光元件。
技术介绍
近年来，正在开发利用了电致发光(EL electrolumine scence)的有机EL元件。有机EL元件具有如下优点与布劳恩(braun)管等相比消耗电力较少，并且，其为自身发光，与液晶显示器(LCD)相比视角优异等，今后的发展为人期待。此外，有机EL元件怕水，由于自元件的缺陷部进入的水分导致发光亮度降低，或 产生被称为黑点(dark spot)的不发光部区域，因此在有机E L元件的表面形成有抗透湿性的密封膜。作为有机EL元件所使用的需要低温工艺且需要极高的抗透湿性的密封膜，使用氮化硅、氧化铝等无机层。并且，提出有使用无机层和UV固化树脂那样的有机层层叠起来的层叠结构的密封膜(例如，专利文件I 3)。先行技术文献专利文献专利文件I :日本特开平10 - 312883号公报专利文件2 日本特开平4 - 267097号公报专利文件3 日本特开昭64 — 41192号公报但是，为了确保抗透湿性，需要通过低温工艺形成用于将附着于基板表面的杂质微粒埋没的较厚的无机层的密本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川拓，林辉幸，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：
国别省市：