用于金属线的蚀刻剂和使用其来制造金属线的方法技术

技术编号:8349356 阅读:252 留言:0更新日期:2013-02-21 06:57
本发明专利技术的示例性实施方式提供了金属线蚀刻剂。根据本发明专利技术的示例性实施方式的金属线蚀刻剂包含过硫酸铵、有机酸、铵盐、含氟化合物、二醇类化合物和唑类化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的示例性实施方式涉及金属线蚀刻剂(metal wiring etchant)以及使用该蚀刻剂来制造金属线(metal wiring)的方法。
技术介绍
薄膜晶体管(TFT)阵列面板可以被用作电路板以在液晶示出了器或有机电致发光 (EL )示出了装置中独立驱动像素。薄膜晶体管阵列面板可以包括用于传输扫瞄信号的扫瞄信号线或栅极线、用于传输图像信号的图像信号线或数据线、连接至栅极线和数据线的薄膜晶体管、以及连接至薄膜晶体管的像素电极。该薄膜晶体管可以包括作为栅极线的一部分的栅极电极、半导体层形成通道、作为数据线的一部分的源极电极以及漏极电极。该薄膜晶体管为开关元件,其根据由栅极线传输的扫瞄信号控制经由数据线传输至像素电极的图像信号。为了制造该薄膜晶体管,作为用于栅极电极或源极/漏极电极对的线材料(布线材料)的金属层可以沉积在基板上,并且通过使用腐蚀性气体或溶剂蚀刻该金属层从而实现电路的期望通路(path)。当将电路小型化和高度集成时,金属线变细,然而电阻相对增加。因此,铜作为具有低电阻的线材料以取代主要用作传统线材料的铬、钥、铝及合金日益引起很大的关注。然而,铜与玻璃基板或硅绝本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐南锡洪瑄英郑钟铉金俸均朴弘植宋溱镐李旺宇金图元金相佑徐源国申贤哲李骐范曹三永
申请(专利权)人:三星显示有限公司东进世美肯株式会社
类型:
国别省市:

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