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一种产电微生物辅助的纳米材料光还原降解有机污染物的方法技术

技术编号:8346012 阅读:269 留言:0更新日期:2013-02-20 20:23
本发明专利技术通过将光还原纳米材料和产电微生物联用,建立了一种产电微生物辅助的纳米材料光还原降解的新型污染物处理方法,显著增强了产电微生物对污染物的还原降解能力。本发明专利技术属于水、废水、污水或污泥处理领域。将光还原纳米材料添加到产电微生物生长培养基中,并接入产电微生物ShewanellaoneidensisMR-1进行厌氧培养。在培养过程中,光纳米材料从产电微生物得到电子传递,并通过光照激发提高了电子能量,从而增强了电子对污染物还原降解的能力。该新型降解方法适用于多种有机污染物的还原降解处理。因此该发明专利技术可以为工业印染废水等污染物的高效处理提供一种全新的处理工艺和技术手段,具有非常重要的实际应用价值,符合国家可持续发展战略的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术建立光还原纳米材料和产电微生物Shewanella oneidensis MR-1联用的新型处理方法,提高对污染物的还原降解能力,属于水、废水、污水或污泥处理领域。
技术介绍
近年来,由于经济和工业的快速发展,工业污染给人类环境带来很大的危害,尤其是工业污水对环境的污染。纳米材料由于其独特的理化特性(例如离子团聚、光电效应、电和热导性、催化活性),因此许多领域的科学家和研究人员的对此有了很大的兴趣。因而纳米技术为环境科学领域提供了新的研究机遇,推动了环境污染修复的研究向更深层次发展。寻求环境友好型的高效纳米材料已经成为国内外环境科学研究中新的热点。国际上对纳米材料环境中难降解有机污染物的修复已被广泛研究。但是对于有些纳米材料而言,由于其光子能量较低,产生光生电子和空穴慢,以致其催化降解速率慢。因此我们需要寻求一种既节约成本又能够提高降解有机污染物效率的方法。金属还原菌Shewanella是种兼性厌氧的革兰氏阴性菌。S. oneidensis MR-I是其中的模式菌株。在厌氧条件下,Shewanella能异化还原硝酸盐、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸钠、TMAO等化合物,也能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种产电微生物辅助的纳米材料光还原降解有机污染物的方法,是将光还原纳米材料与产电微生物联用降解有机污染物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:肖翔马晓波吴勇民曹丹鸣雷育斌刘鹏程王明娜杜道林
申请(专利权)人:江苏大学
类型:发明
国别省市:

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