一种掩膜板制造技术

本实用新型专利技术实施例提供一种掩膜板，涉及显示装置制造领域，可以改善光线的准直角度，抑制或消除光线通过掩膜板图形开口后的衍射曝光范围。包括：光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，还包括：覆盖所述图形开口区域的柱状透镜；所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。本实用新型专利技术实施例用于制造掩膜板。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示装置制造领域，尤其涉及一种掩膜板。
技术介绍
分辨率作为衡量画面品质的最重要指标之一，不论是对于TFT-IXD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显不器)或是 OLED (OrganicLight-Emitting Diode，有机发光二级管)显示器而言都具有重要的意义。越来越多的人开始尝试着在提高分辨率的同时不牺牲显示装置其他的显示性能(如开口率、对比度等)，这就要求产品图形的设计必然向窄线宽方向发展。在采用构图工艺形成图形的过程中，光线通过照射光刻胶上方的掩膜板，对掩膜 板开口处的光刻胶进行曝光即可以得到与该掩膜板相应的图形，因此掩膜板开口的宽度将直接影响图形的线宽。目前，通常采用平行平板掩膜板进行曝光，这样一种平行平板掩膜板开口的宽度已能够达到显示装置关键尺寸的要求，但在使用掩膜板实际进行曝光显影的过程中，由于紫外光在平行平板掩膜板图形开口的边缘将发生衍射和表面间二次反射等现象，光刻胶实际受到曝光的范围要比掩膜板开口宽度大得多。如图Ia所示为现有技术中进行曝光显影的示意图，其中基板10的上表面具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，包括：光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，其特征在于，还包括：覆盖所述图形开口区域的柱状透镜；所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，其特征在于，还包括 覆盖所述图形开口区域的柱状透镜； 所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。2.根据权利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述柱状透镜包括 设置于所述光栅层的入光侧表面的柱状透镜；和/或， 设置于所述光栅层的出光侧表面的柱状透镜。3.根据权利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭川，隆清德，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：