一种湿刻设备制造技术

本实用新型专利技术实施例提供一种湿刻设备，包括：喷头本体；所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分；所述喷头本体的第二端具有一个凹槽；贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中；所述导流道的末端具有一喷射孔。螺纹部分用于固定喷嘴，喷头本体是喷射药液的主要区域，这种结构保证了喷射药液所形成的液面为近似矩形，有效的增大了喷射的面积，减少了在刻蚀过程中药液的使用量，保证了刻蚀的效果，提高了刻蚀的速度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制作工艺，特别是指一种湿刻设备。
技术介绍
在制作液晶平板显示器液晶平板显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor LCD)和半导体的工艺中需要应用到湿刻工艺，湿刻工艺对产品的性能和良率有重要影响。湿刻设备的刻蚀方式一般有两种浸泡模式和喷射模式；浸泡模式刻蚀图形的过程容易控制，喷射模式的刻蚀速率较快。喷射模式中，药液喷射的压力会对刻蚀速率造成影响，压力越大，刻蚀速率越快。如图I所示，现有设备采用锥形喷射方式，喷射药液所形成的液面为锥形。现有技术存在诸多问题喷射方式对压力泵的要求较高，如果压力泵的压力降低，或者新配方药液的粘稠度增大，喷射的锥形横截面就会变小，造成刻蚀过程中的均一性下降，制造的产品在点亮时出现姆拉，若更换新泵，则成本会非常高。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种湿刻设备，用于解决现有技术中，喷射方式对压力泵的要求高，如果泵的压力降低，或者药液的粘稠度增大，会导致喷射的锥形横截面变小，造成刻蚀过程中的均一性下降的缺陷。为解决上述技术问题，本技术的实施例提供一种湿刻设备，包括多个喷嘴，一个所述喷嘴包括喷头本体；所述喷头本体的第一端本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿刻设备，其特征在于，包括多个喷嘴，一个所述喷嘴包括：喷头本体；所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分；所述喷头本体的第二端具有一个凹槽；贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中；所述导流道的末端具有一喷射孔。

【技术特征摘要】
1.一种湿刻设备，其特征在于，包括多个喷嘴，一个所述喷嘴包括 喷头本体； 所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分； 所述喷头本体的第二端具有一个凹槽； 贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道，所述导流道的末端位于所述凹槽中； 所述导流道的末端具有一喷射孔。2.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷射孔呈丝网状。3.根据权利要求2所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷射孔位于所述凹槽的正中位置，呈圆形，且边缘与所述凹槽相切。4.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 所述喷头本体呈圆柱体，所述圆柱体具有所述第一端和第二端； 所述凹槽位于所述第二端的中部，呈线性形状。5.根据权利要求I所述的湿刻设备，其特征在于， 各个所述喷嘴位于生产线上不同的作业行上； 每一作业行具有一个向该作业行上的各个喷嘴提供所述刻蚀药液的管道； 所述管道与所述导流道贯通连接。6.根据权利要求5所述的湿刻设备，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德江，张玉军，崔伟，祝杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：