清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种清洁装置，包括吸气管及吹气管；所述吹气管设置在所述吸气管的四周，所述吹气管相对于吸气管倾斜且呈异面设置。本实用新型专利技术通过该清洁装置，可有效地清除阵列制程中对阵列基板上的残留杂质，使得在对数据线或扫描线进行补线镀膜时，避免由于阵列基板上残留的杂质而造成补线镀膜在后续的清洗等制程中剥落，从而提高了补线镀膜的成功率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶面板
，尤其涉及一种用于阵列基板制造中的清洁装置。
技术介绍
液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）是利用液晶材料的特性来显示图像的一种平板显示装置（Flat Panel Display，FPD），其相较于其他显示装置而言具轻薄、低驱动电压及低功耗等优点，已经成为整个消费市场上的主流产品。液晶面板是液晶显示器最主要的组成元件，液晶面板的制作工艺主要分为前段阵列制程、中段成盒制程及后段模组组装。其中，前段阵列制程包括：首先在基板上通过沉积薄膜层进行成膜；然后在薄膜层上涂光刻胶，并通过对其曝光、显影、蚀刻、去光刻胶等制程以形成扫描线、半导体层、数据线、保护层及透明导电层等。上述阵列制程中，受各种因素的影响，所述扫描线、数据线可能存在短路或者断路的情况。因此，在前段阵列制程完成后，还需要对阵列基板进行相应的检测，以检测阵列基板的扫描线或数据线中是否存在短路或断路，若存在短路或断路，则需要通过修补机对其进行处理。当发现断路时，修补机先使用激光除去断路的两端点上的覆盖物，如半导体层等，然后在断路的两端点间进行镀膜，从而形成通路。但是，在修补机用激光除去断路的两端点上的覆盖物时，覆盖物会碳化而形成杂质，并且修补机在进行补线镀膜时，阵列基板也会受其他制程的影响而残留有杂质，若补线镀膜下存在杂质，则修补机的补线镀膜在后续的清洗等制程中容易剥落，造成补线镀膜的成功率下降。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种清洁装置，旨在清除阵列基板上的残留物，提高修补机的镀膜成功率。本技术提供了一种清洁装置，包括吸气管及吹气管；所述吹气管设置在所述吸气管的四周，所述吹气管相对于吸气管倾斜且呈异面设置。优选地，所述清洁装置还包括一壳体，所述吸气管及吹气管均设置在所述壳体上；所述吸气管垂直壳体设置；所述吹气管具有吹气口，该吹气口向吸气管倾斜设置。优选地，所述吸气管具有吸气口，所述吹气管的吹气口与壳体的垂直距离大于所述吸气管的吸气口与所述壳体的垂直距离。优选地，所述吹气管的吹气口围合形成的面积小于或等于所述吸气管的吸气口的面积。优选地，所述清洁装置还包括与所述吹气管连接的控制器，所述控制器用于控制所述吹气管的吹气口向所述吸气管运动。优选地，所述清洁装置还包括一壳体，该壳体具有下表面，所述吸气管设置在所述壳体的中部且贯穿下表面；所述吹气管设置在所述壳体内且贯穿壳体的下表面。所述吹气管具有吹气口，该吹气口的边缘具有导向环。优选地，所述清洁装置还包括吹气装置及吸气装置，所述吸气装置与所述吸气管连通，所述吹气装置与所述吹气管连通。优选地，所述清洁装置还包括控制所述吹气装置及吸气装置工作的控制器，所述控制器分别与所述吹气装置及吸气装置连接。优选地，所述吹气管与所述壳体下表面之间的夹角为30°～60°。本技术通过上述的清洁装置，可有效地清除阵列制程中阵列基板上的残留杂质，使得在对数据线或扫描线进行补线镀膜时，避免由于阵列基板上残留的杂质而造成补线镀膜在后续的清洗等制程中剥落，从而提高了补线镀膜的成功率。附图说明图1是本技术清洁装置第一实施例的结构示意图；图2是图1中清洁装置的正视结构示意图；图3是图1中清洁装置的仰视结构示意图；图4是本技术清洁装置第二实施例的结构示意图；图5是本实施新型清洁装置的第三实施例的结构示意图；图6是图5所示清洁装置的仰视结构示意图；图7是图6中清洁装置沿A-A线的剖面示意图。本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式以下结合说明书附图及具体实施例进一步说明本技术的技术方案。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。图1是本技术清洁装置第一实施例的结构示意图。参照图1，本实施例中，该清洁装置用于清除阵列基板上的残留杂质，该清洁装置设置在阵列基板的上方；当然也可以放置在其他物体上方，用于清除其他物体上的残留杂质。所述清洁装置包括一壳体10，该壳体10具有一下表面14，且该壳体10的下表面14上设置吸气管11及吹气管21。所述吹气管21设置在所述吸气管11的四周，所述吹气管21相对于吸气管11倾斜设置，且所述吹气管21与吸气管11呈异面设置。上述吹气管21设置在吸气管11的四周，且吹气管21相对于吸气管10倾斜并呈异面设置，因此将该清洁装置设置在阵列基板上方，且与阵列基板相隔一合适距离时，从吹气管21吹出的气流可以将阵列基板上的残留物吹起，且该残留物随着气流自吸气管21吸入壳体10内，从而清除阵列基板上残留的杂质。本技术通过上述清洁装置，使得在阵列制程中对阵列基板上的残留杂质进行清除，从而使得在对数据线或扫描线进行补线镀膜时，避免阵列基板上残留的杂质造成补线镀膜在后续的清洗等制程中剥落，从而提高了补线镀膜的成功率。进一步的，所述吸气管11垂直壳体10设置，其具有吸气口111。所述吹气管21具有吹气口211，且吹气管21的吹气口211向吸气管11倾斜。所述吹气管21与所述壳体10的下表面14之间的夹角为30°～60°，优选的，吹气管21与壳体10的下表面14之间的夹角为45°。具体地，结合参照图2，图2是图1中清洁装置的正视结构示意图。以其中一个吹气管21a为例，其吹气管21a吹出的气流方向为P1，吸气管11吸入的气流方向为P2，且两气流方向P1、P2既不相交，也不平行，即不在同一平面上。同时，吹气管21a的吹气口211a向吸气管11倾斜设置。其他的吹气管21也可以参照前面所述，在此就不再赘述。结合图3所示，图3是图1中清洁装置的仰视结构示意图。所有吹气管21的上述设置，使得从吹气管21的吹气口211吹出的气流呈逆时针的回旋状，该回旋状的气流将使得阵列基板上的残留物被吹起；而吸气管11内的气压小于吸气管11外的气压，气流带动残留物一起向上运动，进而使得残留物随气流一起从吸气管11的吸气口111吸入。可以理解的是，参照图4，图4是本技术清洁装置第二实施例的结构示意图。若所有吹气管21相对于壳体10的倾斜方向与上述实施例中的吹气管21相对于壳体10的倾斜方向以壳体10的径向方向对称，则使得吹气管21内吹出的气流呈顺时针的回旋状。进一步的，上述清洁装置还包括吹气装置及吸气装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁装置，其特征在于，包括吸气管及吹气管；所述吹气管设置在所述吸气管的四周，所述吹气管相对于吸气管倾斜且呈异面设置。

【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括吸气管及吹气管；所述吹气管设置
在所述吸气管的四周，所述吹气管相对于吸气管倾斜且呈异面设置。
2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括一
壳体，所述吸气管及吹气管均设置在所述壳体上；所述吸气管垂直壳
体设置；所述吹气管具有吹气口，该吹气口向吸气管倾斜设置。
3.根据权利要求2的清洁装置，其特征在于，所述吸气管具有吸气口，所
述吹气管的吹气口与壳体的垂直距离大于所述吸气管的吸气口与所述
壳体的垂直距离。
4.根据权利要求2的清洁装置，其特征在于，所述吸气管包括吸气口，所
述吹气管的吹气口围合形成的面积小于或等于所述吸气管的吸气口的
面积。
5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括与
所述吹气管连接的控制器，该控制器用于控制所述吹气管的吹气口向
所述吸气管运...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑文达，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：