用于支撑可旋转靶材和溅射设备的装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于支撑可旋转靶材(10)的装置(100)和具有此装置(100)的沉积设备(200)。该装置包括：主体(110)；第一流体导管(131)，其在主体(110)中用于从可旋转靶材(10)接收流体；以及第二流体导管(132)，其在主体(110)中用于向可旋转靶材(10)提供流体。第一流体导管(131)和第二流体导管(132)在可旋转靶材(10)的旋转轴(50)的方向上所延伸的投影平面上的投影彼此重叠。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及用于支撑可旋转靶材的装置，尤其涉及具有主体、用于从可旋转靶材接收流体的第一流体导管和用于将流体提供至可旋转靶材的第二流体导管的装置。另外，本公开涉及溅射设备，其包括用于支撑可旋转靶材的装置。
技术介绍
在许多应用中，期望在衬底上沉积薄层。用于沉积薄层的已知技术具体是蒸发、化学气相溅射和溅射沉积。举例而言，溅射可用于沉积薄层，诸如金属(例如铝)或陶瓷的薄层。在溅射处理期间，通过在低压下用典型惰性处理气体的离子来轰击靶材的表面，将涂布材料从由此材料组成的溅射靶材输送至待涂布的衬底。离子由处理气体的电子冲击离子化来产生，且由作为溅射阴极操作的靶材与阳极之间的高电压降来加速。对靶材的轰击导致该涂布材料原子或分子射出，这些原子或分子在与溅射阴极相对布置(例如，在该溅射阴 极下方)的衬底上累积为沉积薄膜。分段平面靶材、整体平面靶材和可旋转靶材可用于溅射。由于阴极的几何形状和设计，可旋转靶材通常比平面靶材具有更高的利用率和增长的操作时间。因此，可旋转靶材的使用通常延长使用寿命且降低成本。通常由溅射设备的阴极驱动单元来支撑旋转阴极。下文中，阴极驱动单元也被分别称为端块和阴极驱动块。在溅射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：法兰克·施纳朋伯格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：
国别省市：