图案形成方法以及感光化射线性或感放射线性树脂组合物技术

本发明专利技术提供一种形成图案的方法以及一种在极限解析力、粗糙度特征、曝光宽容度(EL)及桥接缺陷性能方面优越的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。所述形成图案的方法包含(1)使感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜、(2)将所述膜曝光，以及(3)以含有有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)含有具有被设置为用以当曝露于光化射线或放射线时分解而产生酸的结构部分的重复单元的树脂，以及(B)溶剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种形成图案的方法以及一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物。更特定言之，本专利技术涉及一种形成负型图案(negative pattern)的方法,其适用于IC或其类似物的半导体制造制程、液晶、热感应头或其类似物的电路板制造以及其他感光蚀刻加工(photofabrication)中所用的微影操作,且涉及一种适用于所述方法的组合物。此 夕卜，更特定言之，本专利技术涉及一种形成负型图案的方法，其适于使用采用波长为300纳米以下的远紫外光作为光源的ArF曝光装置、ArF液体浸溃投影曝光装置(liquid-immersionprojectionexposure apparatus)或EUV曝光装置来曝光，且涉及一种适用于所述方法的组合物。在本专利技术中，术语“光化射线(actinic ray) ”以及“放射线(radiation) ”指例如水银灯明线光谱、以准分子雷射为代表的远紫外射线、极紫外射线、X射线、电子束以及其类似物。在本专利技术中，术语“光(light)”指光化射线或放射线。除非另作说明，否则本文所用的表述“曝光(exposure) ”不仅指使用水银灯、远紫外线本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩户熏，高桥秀知，平野修史，上村聪，加藤启太，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：
国别省市：