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PVDF涂覆组合物制造技术

技术编号:8274929 阅读:187 留言:0更新日期:2013-01-31 09:01
本发明专利技术涉及组合物,这些组合物包含:至少一种偏二氟乙烯(VDF)聚合物[聚合物(F)];以及至少部分地涂覆有至少一种全氟聚醚嵌段共聚物[聚合物(E)]的无机颗粒,该全氟聚醚嵌段共聚物包含:A)一个或多个(全)氟聚氧亚烷基链段(链Rf),即包含具有至少一个链状醚键以及至少一个氟碳部分的重复单元的链段,以及B)一个或多个聚亚烷基链段(链Ra),该聚亚烷基链段包含以下化学式的重复单元:-(CR1R2-CR3R4)-,其中R1、R2、R3、R4彼此相等或不同,是选自下组,该组由以下各项组成:H、卤素(优选F、Cl);C1-C6烃基,该烃基任选地含有氟或其他杂原子、优选全氟烷基或(全)氟烷氧基,并且本发明专利技术涉及该组合物作为各种基底上的涂层的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有改善的光泽度的PVDF涂覆组合物以及它用于涂料、尤其是建筑涂料的用途。
技术介绍
总体上将理解的是,对于作为涂覆材料有用的聚合物共混物,要求的是关于若干指标而言的出色性能,包括光学行为(例如,光泽度和耐气候性)、硬度、耐磨性、无脏污等坐·寸ο偏二氟乙烯(VDF)聚合物(具有多种独特的特性,如特殊的耐气候性、良好的耐磨性、高的机械强度以及韧性等等),多年来已经被用作基体材料用于涂覆,并且更具体地用于高耐气候的建筑涂料。为了改进与基底的附着、颜料分散能力和增加涂层光泽度,已经开发出了与(甲基)丙烯酸树脂易混合的VDF聚合物共混物。作为涂层的光学行为(包括例如光泽度)典型地要求涂层基体的连续性,优选在热力学方面易混合的共混物,尤其是对于外部的建筑表面装饰的应用。所述可混和性还允许该最终涂层在长期外部使用中最大化的涂层耐气候性。鉴于上述内容,已经证明了 VDF聚合物和(甲基)丙烯酸树脂在约70 30重量比左右的共混物就多种指标(如,附着、韧性、以及光学透明度)而言提供了最优的材料性倉泛。尽管如此,本领域中仍然存在改善从VDF聚合物组合物获得的涂层的外观的需要,包括改善这些涂层的光泽度和防污性。就此而言,值得一提的是,文件WO 2008/065164(苏威苏莱克斯公司(S0LVAYSOLEXIS S. P. A.))05. 06. 2008披露了包括VDF聚合物以及某些嵌段共聚物的组合物,这些嵌段共聚物包含PFPE嵌段和衍生自烯键式不饱和单体例如四氟乙烯的加聚聚合反应的另一嵌段。然而,这类嵌段共聚物仅被用作润滑添加剂,由此对VDF聚合物赋予改善的可加工性,特别是在挤出中更低的压力和/或更低的扭矩。在这个文件中没有地方提到这些添加剂在涂覆组合物中的适合性。 专利技术的披露内容因此本专利技术提供了一种组合物,该组合物包括 至少一种偏二氟乙烯(VDF)聚合物;以及 至少部分地涂覆有至少一种全氟聚醚嵌段共聚物的无机颗粒,该全氟聚醚嵌段共聚物包含 A)一个或多个(全)氟聚氧亚烷基链段(链Rf),即包括具有至少一个链状醚键以及至少一个氟碳部分的重复单元的链段,以及B)一个或多个聚亚烷基链段(链Ra),该聚亚烷基链段包括以下化学式的重复单元(CR1R2-CR3R4)- 其中Rp R2, R3、R4彼此相等或不同,是选自下组,该组由以下各项组成H、卤素(优选F、Cl) K1-C6烃基,任选地含有氟或其他杂原子,优选全氟烷基或(全)氟烷氧基。本申请人出乎意料地发现,通过添加涂覆有如上文详述的全氟聚醚嵌段共聚物的无机颗粒,可能有利地获得一种基于VDF聚合物的组合物,该VDF聚合物可以提供具有改善的光泽度和/或具有表面处增强的疏水性从而产生最终改善的抗污性的涂层。将聚合物(E)引入组合物中作为无机颗粒上的涂层能够实现在组合物中极佳的分散,以便于获得这些至少部分经过涂覆的颗粒遍布涂覆层的均匀分布,甚至是在其中裸露形式的所述聚合物(E)是以橡胶状或油状形式(否则它将很难有效分散在液体或粉末涂覆混合物中)获得的情况下。 如在本专利技术架构内所使用的,术语“颗粒”旨在表示具有特征为明确三维体积和形状的一种材料块体。偏二氟乙烯聚合物优选是包括以下各项的聚合物 (a’)按摩尔计至少60%、优选按摩尔计至少75%、更优选按摩尔计85%的偏二氟乙烯(VDF); (b’ )任选地按摩尔计从O. 1%至15%、优选从O. 1%至12%、更优选从O. 1%至10%的不同于VDF的氟化单体;所述氟化单体优选地选自下组,该组由以下各项组成氟乙烯(VF1)、氯三氟乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、四氟乙烯(TFE)、全氟甲基乙烯基醚(MVE)、三氟乙烯(TrFE)以及由其形成的混合物;以及 (c’ )任选地,基于单体(a’ )和(b’ )的总量而言按摩尔计从O. 1%至5%、优选按摩尔计从O. 1%至3%、更优选按摩尔计从O. 1%至I %的一种或多种氢化的共聚单体。偏二氟乙烯聚合物更优选是由以下各项组成的聚合物 (a’)按摩尔计至少60%、优选按摩尔计至少75%、更优选按摩尔计85%的偏二氟乙烯(VDF); (b’ )任选地按摩尔计从O. 1%至15%、优选从O. 1%至12%、更优选从O. 1%至10%的不同于VDF的氟化单体;所述氟化单体优选地选自下组,该组由以下各项组成氟乙烯(VF1)、氯三氟乙烯(CTFE)、六氟丙烯(HFP)、四氟乙烯(TFE)、全氟甲基乙烯基醚(MVE)、三氟乙烯(TrFE)以及由其形成的混合物。作为在本专利技术中有用的VDF聚合物的非限制性例子,值得注意地可以提及VDF的均聚物、VDF/TFE 共聚物、VDF/TFE/HFP 共聚物、VDF/TFE/CTFE 共聚物、VDF/TFE/TrFE 共聚物、VDF/CTFE共聚物、VDF/HFP共聚物、VDF/TFE/HFP/CTFE共聚物、及其类似物。VDF均聚物对本专利技术的组合物是特别有利的。根据ASTM D3835在232°C和100秒―1的剪切速率下测量的VDF聚合物的熔体粘度有利地是至少5千泊,优选至少10千泊。在232°C和100秒―1的剪切速率下测量的VDF聚合物的熔体粘度有利地是最多60千泊,优选最多40千泊,更优选最多35千泊。VDF聚合物的熔体粘度是根据D3835号ASTM测试在100秒―1的剪切速率下,在230°C下操作而测量的。VDF聚合物具有的熔点有利地为至少120°C,优选至少125°C,更优选至少130°C。VDF聚合物具有的熔点有利地为至多190°C,优选至多185°C,更优选至多170°C。该熔点(Tm2)可以根据ASTM D 3418通过DSC以10°C /min的加热速率进行确定。特别适合于在本组合物中使用的市售的PVDF的一个实例是IiYLA K5000PVDF(从苏威苏莱克斯公司可获得)。无机颗粒的选择不是特别重要;总体上应理解的是,优选的是在VDF聚合物加工和使用期间保持惰性的无机颗粒。可以使用的颗粒的非限制性实例值得注意地是金属氧化物、金属碳酸盐、金属硫酸盐以及类似物的颗粒。金属氧化物总体上选自Si、Zr以及Ti的 氧化物和包含这些金属与一种或多种其他金属或非金属相组合的混合氧化物之中,该其他金属或非金属是例如二氧化硅、氧化铝、氧化锆、铝硅酸盐(包括天然和合成粘土)、锆酸盐以及类似物。金属碳酸盐典型地选自下组,该组由以下各项组成碱金属和碱土金属碳酸盐,例如,Ca、Mg、Ba、Sr的碳酸盐。金属硫酸盐总体上选自包括Ca、Mg、Ba、Sr硫酸盐在内的碱金属和碱土金属硫酸盐。已提供特别良好结果的金属硫酸盐是硫酸钡。出于使聚合物(E)与无机颗粒之间的相互作用最大化的目的,总体上优选的是使用具有小粒径和大的比表面积的颗粒。因此,无机颗粒(在用聚合物(E)涂覆之前)总体上具有根据IS09277标准由BET方法所确定的、有利是I至500、优选是5至300、更优选是10至150的比表面积。无机颗粒(在用聚合物(E)进行涂覆之前)总体上具有O. 001 μ m至1000 μ m、优选O. 01 μ m至800 μ m、更优选O. 01 μ m至500 μ m的平均粒径。出于使表面积以及与主体VDF聚合物的界面最大化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:V阿尔塞拉E伊埃瓦林秀清M阿瓦塔尼奥G马乔尼
申请(专利权)人:索尔维公司
类型:
国别省市:

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