具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法及聚合物构件技术

技术编号:8274609 阅读:168 留言:0更新日期:2013-01-31 07:43
本发明专利技术的目的在于,提供容易控制表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法、和通过该制造方法得到的聚合物构件。本发明专利技术的具有表面凹凸结构的聚合物构件(10)的制造方法的特征在于,其具有如下的工序A和工序B,工序A:层叠各层,使得在能够吸收聚合性单体(2)的单体吸收层(5)与具有凹凸表面(1a)的凹凸转印材料层(1)的凹凸表面(1a)之间配置有含有聚合性单体(2)的聚合性组合物层(4),工序B:聚合聚合性单体(2);聚合性组合物层(4)含有对聚合性单体(2)和聚合聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质(3);进行工序B之前,使聚合性组合物层(4)中的聚合性单体(2)的一部分吸收到单体吸收层(5)中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法、以及聚合物构件。
技术介绍
在构件表面上不均匀分布有与该构件的主成分不同的物质的聚合物构件作为附加光学功能、电功能等新功能的构件备受期待。然而,在作为聚合物构件的基材的片、薄膜等的表面上不容易形成例如具有微粒的层、或阻燃层。例如,关于基材表面上微粒层(包含微粒的层)的形成,可以在将聚合物成分作为粘结剂溶解于有机溶剂而成的溶液中使微粒分散后,将该分散液涂覆在基材上,再通过热干燥使有机溶剂挥发,从而得到微粒层。由此,能够在基材表面上形成基于微粒的凹凸。但是,在基材溶解于有机溶剂等时、或在基材的耐热性低而容易在热干燥中熔融、变形时,难以实施该方法;另外,在基材表面像粘合剂层那样富有粘合性时,难以在基材表面上涂覆分散有前述微粒的分散液。进而,使用前述分散液 时,必须干燥有机溶剂,另外,即使使用水分散液来代替前述分散液也必须干燥水;前述微粒层的形成方法从环境、节能的观点来看也是不优选的。另外,前述微粒层的形成中使用的分散液中的聚合物成分为与基材不同的材料时,若密合性不充分,则有微粒层从与基材的界面上剥离的担心。另外,基材表面上的微粒层的形成也可以如下进行在脱模处理过的薄膜上形成微粒层,再将其转印到基材片上;基材与微粒层的亲和性、相容性低时,基材与微粒层的粘接性缺乏,容易产生层间剥脱等问题。进而,基材与微粒层两者几乎没有粘接性时,难以将两者粘贴在一起,因此需要先在其中一者或两者上涂布粘接剂等再粘贴在一起。另一方面,作为在住宅、旅馆、公共设施等而广范围中使用的内饰用的壁纸,一般为如下壁纸在将氯乙烯树脂涂覆在原纸上并干燥而得到的阻燃片上印刷发泡糊剂层从而形成后,加热使发泡糊剂层发泡而成的壁纸(参照专利文献I等)。根据该壁纸的制造方法,通过在上述发泡糊剂层的印刷中使用丝网印刷法或凹版印刷法,能够厚积发泡糊剂,能够表现有厚重感的凹凸图案。但是,上述阻燃片中使用的氯乙烯树脂等卤素系树脂存在焚烧时会产生有害性气体的问题、或者会产生二噁英的问题,导致使用开始受到限制。因此,在对壁纸赋予阻燃性的基础上进一步赋予凹凸图案开始变得困难。本专利技术人等现已发现,将含有对聚合性单体和使聚合性单体聚合而得到的聚合物不相容的不相容性物质的聚合性组合物层设置在能够吸收前述聚合性单体的单体吸收层的至少一面上,在聚合性组合物层内使不相容性物质移动,从而得到不相容性物质不均匀分布的聚合性组合物层,然后,通过聚合前述聚合性单体,能够得到具有不相容性物质不均匀分布聚合物层与单体吸收层的层叠结构的聚合物构件。另外,发现通过使用颗粒作为不相容性物质,能够在与不相容性物质不均匀分布聚合物层的单体吸收层相反一侧的面(夕卜表面)上形成基于颗粒的凹凸(专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平7-132577号公报专利文献2 :日本特开2008-6817号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而,前述方法中,虽然能够将不相容性物质不均匀分布聚合物层的表面制成凹凸结构,但难以控制凸部或凹部的形状、大小等凹凸结构。因此,本专利技术提供容易控制表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法,以及通过该制造方法所得到的聚合物构件,所述制造方法是在构件表面上不均匀分布与该构件的主成分不同的物质、且具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法。用于解决问题的方案·本专利技术涉及聚合物构件的制造方法,其特征在于,其为具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法;其具有如下的工序A和工序B,工序A :层叠各层,使得在能够吸收聚合性单体的单体吸收层与具有凹凸表面的凹凸转印材料层的前述凹凸表面之间配置有前述含有聚合性单体的聚合性组合物层;工序B :聚合所述聚合性单体;前述聚合性组合物层还含有对前述聚合性单体和聚合前述聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质;进行所述工序B之前,使前述聚合性组合物层中的前述聚合性单体的一部分吸收到前述单体吸收层中。根据本专利技术的聚合物构件的制造方法,不仅可以在构件表面上不均匀分布属于与该构件的主成分(母材成分)不同的物质的不相容性物质,而且能够使该不相容性物质向凹凸转印材料层侧移动,因而,在不相容性物质不均匀分布的构件表面上,凹凸结构的控制变得容易。由此,例如,能够容易地形成用于画面的防眩光(antiglare)而形成有规则的(均匀)或不规则(不均匀)的凹凸的光学薄膜、或赋予了阻燃性和凹凸图案的壁纸等。前述工序A优选为如下工序在前述凹凸转印材料层的前述凹凸表面上涂覆含有前述聚合性单体和前述不相容性物质的聚合性组合物而形成前述聚合性组合物层后,在前述聚合性组合物层上层叠前述单体吸收层的工序。这是因为能够对聚合性组合物层正确地进行凹凸转印材料层的凹凸形状的转印。前述工序B优选为如下工序使前述聚合性组合物层中的聚合性单体、和前述单体吸收层中的聚合性单体这两者聚合的工序。这是因为能够提高固化后的聚合性组合物层与单体吸收层的密合性。优选前述凹凸转印材料层的前述凹凸表面的轮廓算数平均偏差Ra为O. 007 μ m以上,并且轮廓最大高度Rz为O. 036 μ m以上。另外,本专利技术的聚合物构件是通过上述本专利技术的制造方法而得到的聚合物构件。根据本专利技术的聚合物构件,基于与上述同样的理由,在不相容性物质不均匀分布的构件表面上,凹凸结构的控制变得容易。附图说明图I的Al为表示本专利技术的聚合物构件的制造方法的一个例子的各工序剖视图。图2为实施例I的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片。图3为实施例2的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片。图4为实施例3的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片。图5为比较例I的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片。具体实施方式·以下参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。所参照的图I的Al为表示本专利技术的聚合物构件的制造方法的一个例子的各工序剖视图。首先,如图I的A所示,在具有凹凸表面Ia的凹凸转印材料层I上形成含有聚合性单体2和不相容性物质3的聚合性组合物层4。对聚合性组合物层4的形成方法没有特别限定,可以例示出如下方法制备含有聚合性单体2和不相容性物质3的聚合性组合物(涂覆液),使用常用的涂布机将其涂覆在凹凸转印材料层I上的方法。相对于100重量份的聚合性单体2,前述涂覆液中的不相容性物质3的含量例如为O. Γ200重量份左右。作为常用的涂布机,可以例示出逗点辊涂机、模辊涂机、凹版辊涂机、逆转辊涂机、辊舐式涂布机、浸溃辊涂机、棒涂机、刮刀涂布机、喷涂机等。聚合性组合物层4的厚度例如为flOOOym左右。接着,在聚合性组合物层4上形成能够吸收聚合性单体2的单体吸收层5(图I的B)。对单体吸收层5的形成方法没有特别限定,可以例示出如下方法预先制作包含能够吸收聚合性单体2的材料的单体吸收性片,再将该片粘贴在聚合性组合物层4上的方法。单体吸收层5的厚度例如为f 1000 μ m左右。需要说明的是,本实施方式中,在凹凸转印材料层I上依次层叠聚合性组合物层4和单体吸收层5,但本专利技术不限定于此,也可以在单体吸收性片上依次层叠聚合性组合物层和凹凸转印材料层。或者,也可以预先形成由聚合性组合物形成的片,再将该片用单体吸收性片和凹凸转印材本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:樋田贵文长崎国夫杉野裕介土井浩平
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:
国别省市:

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