具有平面结构形式的电元件和制造方法技术

技术编号:8244483 阅读:140 留言:0更新日期:2013-01-25 04:23
本发明专利技术给出了电元件和制造方法。电元件包含具有穿透载体的凹槽的载体以及第一芯片和外接触面。第一芯片布置在载体的凹槽中。设置外接触面用于第一芯片与外部的外围电路错接。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:W·帕尔
申请(专利权)人:埃普科斯股份有限公司
类型:
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1