【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯聚合物 本专利技术涉及包含一个或多个式权利要求1.一种包含一个或多个式2.如权利要求I的聚合物,其中Ar1和Ar1 !彼此独立地为3.如权利要求1或2中任一项的聚合物, 其中A为下式的基团4.如权利要求1-3中任一项的聚合物,其中B、D和E彼此独立地为下式的基团5.如权利要求I的聚合物,其包含下式的重复单元6.如权利要求I的聚合物,其为包含下式的重复单元的聚合物7.如权利要求I的聚合物,其包含下式的重复单元8.如权利要求I的聚合物,其为下式的聚合物9.一种有机半导体材料、层或组件,包含如权利要求1-8中任一项的聚合物。10.一种半导体器件,包含如权利要求1-8中任一项的聚合物或如权利要求9的有机半导体材料、层或组件。11.如权利要求10的半导体器件,其为有机光伏(PV)器件(太阳能电池)、光电二极管或有机场效应晶体管。12.如权利要求10的半导体器件,其中该PV器件依次包含 (a)阴极(电极), (b)任选的过渡层,例如碱金属卤化物,尤其是氟化锂, (c)光活性层, (d)任选的平滑层, (e)阳极(电极),和 (f)基材。13.—种制备有机半导体器件的方法,该方法包含将有机溶剂中的如权利要求1-8中任一项的聚合物的溶液和/或分散体施加至合适基材上,并去除该溶剂。14.如权利要求1-8中任一项的聚合物或如权利要求9的有机半导体材料、层或组件在PV器件、光电二极管或有机场效应晶体管中的用途。15.一种下式的化合物全文摘要本专利技术涉及包含一个或多个式(I)的(重复)单元的聚合物或式(II)或(III)的聚合物及 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:P·哈约兹,M·迪格利,N·舍博塔莱瓦,O·F·埃比谢尔,
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司,
类型:
国别省市:
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