供体基板及其制造方法以及有机发光显示装置的制造方法制造方法及图纸

供体基板包括：衬底基板、设置于所述衬底基板上的膨胀层、设置于所述膨胀层上的光热转换层、设置于所述光热转换层上的绝缘层以及设置于所述绝缘层上的有机转印层。所述供体基板可以向有机发光显示装置有效地转印有机转印层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及供体基板、供体基板的制造方法及使用供体基板的有机发光显示装置的制造方法。本专利技术尤其涉及包括膨胀层或者抗静电部件的供体基板、供体基板的制造方法及使用供体基板的有机发光显示装置的制造方法。
技术介绍
通常，有机发光显示(OLED)装置的显示基板包括设置于透明基板上的薄膜晶体管、像素电极、有机发光层、公共电极等。其中，所述有机发光层包括发射白色光、红色光、绿色光、蓝色光等的发光层，进一步还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等。通过将具有有机转印层的供体基板贴合在所述显示基板的像素电极上之后照射激光以转印所述有机转印层的激光热转印(Laser Induced Thermal Imaging,简称为LITI)工序，形成所述有机发光层。当使用所述激光热转印工序将所述供体基板的有机转印层向所述显示基板转印时，由于所述供体基板和所述显示基板之间的摩擦等而产生的静电，很难准确地转印所述有机转印层，因此存在很难在所述显示基板上均匀地形成所述有 机发光层的问题。从而，会降低所述有机发光层的发光特性，并且这种有机发光层的发光特性的减少将成为降低由所述有机发光显示装置所显示的影像质量的原因。
技术实现思路
本专利技术的一目的在于提供通过减小静电的产生以有效地转印有机转印层的供体基板。本专利技术的另一目的在于提供通过减小静电的产生以有效地转印有机转印层的供体基板的制造方法。本专利技术的再一目的在于提供通过使用将静电减小并且具有优良的转印效率的供体基板以制造具有均匀的有机层图案的有机发光显示装置的方法。本专利技术所要解决的技术问题并不限于上述的技术问题，在不脱离本专利技术的技术构思及
的范围内可以有多种展开。为了实现上述本专利技术的一目的，根据本专利技术示例性的实施例的供体基板可以包括衬底基板、设置于所述衬底基板上的膨胀层、设置于所述膨胀层上的光热转换层、设置于所述光热转换层上的绝缘层以及设置于所述绝缘层上的有机转印层。在示例性的实施例中，所述膨胀层可以包含热膨胀系数在I. 5X10_5/°C以上的物质。在示例性的实施例中，所述膨胀层可以包含热塑性树脂。例如，所述膨胀层可以包含聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丙酯、聚丙烯酸异丙酯、聚丙烯酸正丁酯、聚丙烯酸仲丁酯、聚丙烯酸异丁酯、聚丙烯酸叔丁酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸正癸酯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物等。在示例性的实施例中，所述衬底基板包含热塑性树脂，并且所述衬底基板和所述膨胀层可以形成为一体。为了实现上述本专利技术的另一目的，根据本专利技术示例性的实施例的供体基板可以包括衬底基板、设置于所述衬底基板的第一面上的光热转换层、设置于所述光热转换层上的绝缘层、设置于所述绝缘层上的有机转印层以及设置于所述衬底基板或所述绝缘层的抗静电部件。·在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包含分散于所述衬底基板内的抗静电剂。在示例性的实施例中，所述抗静电剂的含量可以为以所述衬底基板的重量为基准时的O. 1%至2. 0%。在示例性的实施例中，所述抗静电剂可以包含GMS类抗静电物质、胺类抗静电物质、具有磁性的金属氧化物等。在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包含分散于所述绝缘层内的抗静电剂。在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包括设置于所述衬底基板的第二面上的透明导电层。在示例性的实施例中，所述透明导电层可以包含导电性金属氧化物或者传导性高分子物质。例如，所述透明导电层可以包含聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚(3，4_乙烯基二氧噻吩)、锑锡氧化物(ATO)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铌氧化物、锌氧化物、镓氧化物、锡氧化物、铟氧化物等。为了实现上述本专利技术的再一目的，在根据本专利技术示例性实施例的供体基板的制造方法中形成衬底基板。在所述衬底基板上形成膨胀层。在所述膨胀层上形成光热转换层。在所述光热转换层上形成绝缘层。在所述绝缘层上形成有机转印层。在示例性的实施例中，可以通过旋涂工序、狭缝涂布工序或者凹印涂布工序将热塑性树脂涂覆于所述衬底基板上而形成所述膨胀层。在示例性的实施例中，可以通过使用包含热塑性树脂的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)树脂来形成所述膨胀层。在示例性的实施例中，可以将所述衬底基板和所述膨胀层形成为一体。在示例性的实施例中，可以通过实施双轴拉伸(biaxial drawing)工序来形成所述膨胀层。为了实现上述本专利技术的再一目的，在根据本专利技术示例性实施例的供体基板的制造方法中形成衬底基板。在所述衬底基板的第一面上形成光热转换层。在所述光热转换层上形成绝缘层。在所述绝缘层上形成有机转印层。在所述衬底基板或所述绝缘层或者所述衬底基板的第二面上形成抗静电部件。在示例性的实施例中，形成所述抗静电部件的步骤可以包括将抗静电剂分散于所述衬底基板内的步骤。在示例性的实施例中，形成所述抗静电部件的步骤可以包括使抗静电剂分散于所述绝缘层内的步骤。在示例性的实施例中，形成所述抗静电部件的步骤可以包括在所述衬底基板的第二面上形成透明导电层的步骤。为了实现上述本专利技术的再一目的，在根据本专利技术示例性实施例的有机发光显示装置的制造方法中，在基板上形成下部电极。在下部电极上形成像素限定膜，从而限定像素区域。形成包括衬底基板、形成于所述衬底基板上的膨胀层、形成于所述膨胀层上的光热转换层以及形成于所述光热转换层上的有机转印层的供体基板。使所述有机转印层与所述基板的像素区域对应且将所述供体基板贴合于所述基板。向与所述像素区域对应的所述供体基板照射激光，从而在所述像素区域上由所述有机转印层形成有机层图案。在示例性的实施例中，所述供体基板还可以包括形成于所述光热转换层和所述有机转印层之间的绝缘层。为了实现上述本专利技术的再一目的，在根据本专利技术示例性实施例的有机发光显示装置的制造方法中，在基板上形成下部电极。在所述下部电极上形成限定像素区域的像素限 定膜。形成供体基板，所述供体基板包括衬底基板、形成于所述衬底基板的第一面上的光热转换层、形成于所述光热转换层上的绝缘层、形成于所述绝缘层上的有机转印层以及形成于所述衬底基板或所述绝缘层或者所述衬底基板的第二面的抗静电部件。使所述有机转印层与所述基板的像素区域对应，将所述供体基板贴合于所述基板。向与所述像素区域对应的所述供体基板照射激光，从而在所述像素区域上由所述有机转印层形成有机层图案。在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包括形成于所述衬底基板的第二面上的透明导电层。在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包含分散于所述绝缘层内的抗静电剂。在示例性的实施例中，所述抗静电部件可以包含分散于所述衬底基板内的抗静电剂。根据本专利技术示例性的实施例，由于供体基板可以包括膨胀层，因此能够从具有膨胀层的所述供体基板中有效地分离出有机转印层以在显示基板上形成有机层图案，并且即使使用能量相对小的激光，也可以有效地形成所述有机层图案。根据其他示例性的实施例，由于供体基板包括用作抗静电部件的抗静电剂、抗静电层或者透明导电层，因此将所述供体基板的有机转印层向所述显示基板上转印时可以防止在所述供体基板上产生静电。由此，可以由所述供体基板的有机转印层均匀地形成所述显示装置的有机层图案，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种供体基板，包括：衬底基板；膨胀层，设置于所述衬底基板上；光热转换层，设置于所述膨胀层上；绝缘层，设置于所述光热转换层上；以及有机转印层，设置于所述绝缘层上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：鲁硕原，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：