【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体器件,更具体地,涉及太赫兹肖特基二极管及其制造方法。
技术介绍
太赫兹波指的是频率在O. ITHz IOTHz (波长3mm 30 μ m)范围内的电磁辐射,位于电磁波谱中介于毫米波和红外辐射之间。太赫兹的独特性能使其在通信(宽带通信)、雷达、电子对抗、电磁武器、天文学、医学成像(无标记的基因检查、细胞水平的成像)、无损检测、安全检查(生化物的检查)等领域具有广泛的用途。在大多数太赫兹应用领域中,夕卜差式接收机以其频谱分辨率高、瞬时带宽大、灵敏度高等特点,成为主要的太赫兹信号探测 方式;而太赫兹混频器是外差式接收机中的重要部件之一。在O. 1ΤΗζ-3ΤΗζ范围内,通常采用超导-绝缘-超导结(SIS)、热电子辐射计(HEB)、肖特基二极管等非线性器件作为混频器件,实现太赫兹频段的信号与本振信号进行混频产生中频信号,进而供后续的中频和数字电路进行信息处理。相比于SIS和HEB来说,应用肖特基二极管的混频器件无需制冷环境,从而减小了系统的复杂度,适合于安检、通信、电子对抗等领域的应用;在制冷环境下,混频器的噪声性能可以进一步减小,从而满足天文、对 ...
【技术保护点】
一种太赫兹肖特基二极管的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步骤:在半绝缘砷化镓层(11)上自下而上依次形成高掺杂浓度砷化镓层(12)、低掺杂浓度砷化镓层(13):第二步骤:在低掺杂浓度砷化镓层(13)上光刻第一欧姆接触图形(121)和第二欧姆接触图形(123),并腐蚀所述图形区域的低掺杂浓度砷化镓层(13)直至高掺杂浓度砷化镓层(12);第三步骤:在第一欧姆接触图形(121)上形成欧姆接触金属(23),在第二欧姆接触图形(123)上形成欧姆接触阴极(22),欧姆接触金属(23)和欧姆接触阴极(22)的材料相同;第四步骤:在低掺杂浓度砷化镓层(13)上形成具有小孔(21 ...
【技术特征摘要】
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