气相沉积装置和方法以及制造有机发光显示装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种能够执行薄膜沉积工艺并提高所形成的薄膜的特性的气相沉积装置、一种气相沉积方法和一种制造有机发光显示装置的方法，所述气相沉积装置包括：室，具有排放开口；架台，设置在所述室内，并包括安装表面，所述基底可以安装在所述安装表面上；注入单元，具有至少一个注入开口，所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内；引导构件，面向所述基底，以在所述基底和所述引导构件之间提供设定的或预定的空间；驱动单元，用于传送所述架台和所述引导构件。

【技术实现步骤摘要】
气相沉积装置和方法以及制造有机发光显示装置的方法本申请要求于2011年7月13日在韩国知识产权局提交的第10-2011-0069488号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
本专利技术涉及一种气相沉积装置、一种气相沉积方法和一种制造有机发光显示装置的方法。
技术介绍
半导体器件、显示装置和其它电子器件包括多个薄膜。可以使用各种方法来形成多个薄膜，其中之一是气相沉积方法。根据气相沉积方法，使用一种或多种气体作为用于形成薄膜的源。气相沉积方法可以包括化学气相沉积(CVD)方法、原子层沉积(ALD)方法和各种其它方法。在显示装置中，由于有机发光显示装置的宽视角、优异的对比度和快速的响应速度，所以有机发光显示装置被视为下一代显示装置。有机发光显示装置包括位于彼此面对的第一电极和第二电极之间的具有有机发射层的中间层以及一个或多个薄膜。这里，可以使用沉积工艺来形成有机发光显示装置的薄膜。然而，因为有机发光显示装置在尺寸方面增大，并需要高分辨率，所以难以形成具有期望的性能的大尺寸的薄膜。另外，在提高用于形成薄膜的工艺的效率方面存在局限性。专利技术内容本专利技术实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，所述装置包括：室，具有排放开口；架台，在所述室内，并包括安装表面，所述安装表面被构造为用于使所述基底安装在其上；注入单元，具有至少一个注入开口，所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内；引导构件，面向所述基底，以在所述基底和所述引导构件之间提供空间；驱动单元，用于传送所述架台和所述引导构件。

【技术特征摘要】
2011.07.13 KR 10-2011-00694881.一种用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，所述装置包括：室，具有排放开口；架台，在所述室内，并包括安装表面，所述安装表面被构造为用于使所述基底安装在其上；注入单元，具有至少一个注入开口，所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内；引导构件，面向所述基底，以在所述基底和所述引导构件之间提供空间；驱动单元，用于传送所述架台和所述引导构件，其中，设置在所述引导构件和所述基底之间的所述空间具有与将形成在所述基底上的所述薄膜的图案对应的形状。2.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述引导构件与所述基底平行地设置。3.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述引导构件在尺寸上等于或大于所述基底的尺寸。4.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述引导构件具有包括多个凸起部分和多个凹入部分并面向所述基底的不规则表面。5.根据权利要求4所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，凸起部分和凹入部分沿重力作用的方向延伸。6.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述引导构件包括通往所述空间的通路，从所述注入单元注入的所述气体穿过所述通路。7.根据权利要求6所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述通路至少包括形成在所述引导构件的上端上的第一穿透部分和形成在所述引导构件的下端上的第二穿透部分。8.根据权利要求7所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述第一穿透部分或所述第二穿透部分延长以对应于所述空间。9.根据权利要求7所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述第一穿透部分或所述第二穿透部分包括与所述空间对应的多个穿透开口。10.根据权利要求6所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述空间在形状上对应于形成在所述引导构件的面向所述基底的表面中的槽。11.根据权利要求6所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述引导构件包括覆盖所述空间的盖。12.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述驱动单元被构造为在所述基底安装在所述架台的状态下沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面垂直的方向传送所述架台和所述引导构件。13.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述驱动单元被构造为往复地移动。14.根据权利要求12所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述驱动单元被构造为同时传送所述架台和所述引导构件。15.根据权利要求12所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述驱动单元包括用于移动所述架台的第一驱动单元和用于移动所述引导构件的第二驱动单元。16.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述安装表面沿与重力作用的方向平行地设置。17.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相沉积装置，其中，所述注入单元设置在所述架台上方。18.根据权利要求1所述的用于在基底上形成薄膜的气相...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐祥准，宋昇勇，金胜勋，金镇圹，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：