原子层沉积设备、密封方法和用于沉积的喷嘴组技术

公开了一种原子层沉积设备、一种使用该原子层沉积设备密封有机发光装置的方法以及一种用于沉积的喷嘴组。在一个实施例中，该原子层沉积设备改进了吹扫气体注射喷嘴的结构，从而提高原子层沉积工艺中的吹扫气体的排出效率，这提高了吹扫工艺的速度。因此，当通过使用该原子层沉积设备来实施用于密封有机发光装置的密封工艺时，可以提高沉积速度和密封膜的质量。

【技术实现步骤摘要】

描述的技术大体上涉及ー种用于原子层沉积的设备。
技术介绍
通常，在制造半导体装置或平板显示器的过程中使用在基底上沉积薄膜的エ艺。为了在基底上沉积具有预定厚度的薄膜，经常使用某些沉积方法，例如利用颗粒的物理碰撞的物理气相沉积(PVD)或利用化学反应的化学气相沉积(CVD)等。
技术实现思路
本专利技术的一方面在于ー种通过改进布置在原子层沉积设备的喷头中的气体注射 喷嘴的结构来提高气体的注射效率和排出效率的原子层沉积设备。另ー方面在于ー种使用该原子层沉积设备密封有机发光装置的密封方法。另ー方面在于ー种原子层沉积设备中的吹扫气体注射喷嘴部分的结构，以用来提高沉积エ艺中的沉积速度和膜质量。另ー方面在于ー种吹扫气体注射喷嘴部分的结构得到改进的原子层沉积设备。另ー方面在于ー种原子层沉积设备，该原子层沉积设备包括反应室；基底支撑件，安装在反应室的内部以支撑基底；以及喷头，包括可将第一源气体、第二源气体和吹扫气体注射到基底上的ー个或多个喷嘴组，喷头设置在基底支撑件的上方。这里，基底支撑件和喷头中的至少ー个以其可以沿第一方向移动的方式安装。此夕卜，所述ー个或多个喷嘴组中的每个包括用于沉积第一源气体的第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括：反应室；基底支撑件，安装在反应室的内部以支撑基底；以及喷头，包括被构造成将第一源气体、第二源气体和吹扫气体注射到基底上的一个或多个喷嘴组，其中，喷头设置在基底支撑件的上方，其中，基底支撑件和喷头中的至少一个被安装成沿第一方向移动，所述一个或多个喷嘴组中的每个包括被构造成沉积第一源气体的第一部分喷嘴组和被构造成沉积第二源气体的第二部分喷嘴组，第一部分喷嘴组包括第一源气体注射喷嘴、吹扫气体注射喷嘴和吹扫气体排出孔，第二部分喷嘴组包括第二源气体注射喷嘴、吹扫气体注射喷嘴和吹扫气体排出孔，第一源气体注射喷嘴、第二源气体注射喷嘴、吹扫气体注射喷嘴和吹扫气体排出...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金胜勋，徐祥准，金镇圹，千峻赫，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：