气体供应装置及其连接件制造方法及图纸

技术编号:8201437 阅读:185 留言:0更新日期:2013-01-10 18:35
本实用新型专利技术公开一种气体供应装置及其连接件,该连接件适于连接于第一管路的第一端部与第二管路的第二端部之间,连接件包括底部与多个从底部朝第二端部延伸出的定位壁。底部连接于第一端部与第二端部之间,而第二端部更抵靠于这些定位壁。底部更具有贯孔以连通第一管路与第二管路。此连接件具有组装容易,且可降低漏气的优点。本实用新型专利技术另提出一种使用此连接件的气体供应装置。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种连接件,且特别是涉及一种用于连接气体管路的连接件及具有此连接件的气体供应装置。
技术介绍
随着科技日新月异的发展,半导体元件、显示装置或其他电子元件等于制作エ艺上都有了稳固的基础。在制造过程中,利用各种气体于清洁基板表面、离子注入、蚀刻等制作エ艺已是现有的技术手段。在这些制作エ艺中,通常都需要多个气体源以及多个管路等构件。这些管路是用于将气体源提供的气体导入反应腔室。在将不同气体源提供的气体导入反应腔室的过程中往往需使气体汇流,因此需要有连接件来接合不同的管路。连接件除了必须能够稳定的接合管路以防止漏气以外,还需避免因安装错误而影 响管路间的气体流量。而且,由于连接件常使用在高温及充满腐蚀性气体的环境下,故对于产品可靠度的要求也相对较为严苛。因此,连接件必须有良好的设计,进而满足各种需求。
技术实现思路
本技术的目的在于提供ー种气体供应装置,其具有管路易于彼此连接的优点。本技术另ー目的在于提供一种连接件,以便于连接气体供应装置的两管路。为达上述目的,本技术提出ー种气体供应装置,适于设置在腔室的腔室壁,以将多个气体源所供应的气体导引至腔室内。气体供应装置包括第一管路、第二管路以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体供应装置,适于设置在一腔室的腔室壁,以将多个气体源所供应的气体导引至该腔室内,其特征在于,该气体供应装置包括:第一管路,连通该些气体源其中之一,该第一管路的第一端部具有第一流道口、第二流道口、面向该腔室内的第一表面与连接该第一表面的第二表面,该第一流道口位于该第一表面,而该第二流道口位于该第二表面;第二管路,连通该些气体源其中另一,该第二管路的第二端部具有第三流道口与面向该第二表面的第三表面,该第三流道口位于第三表面;以及连接件,连接于该第一端部与该第二端部之间,该连接件包括底部与多个从该底部朝该第二端部延伸出的定位壁,该底部连接于该第二表面与该第三表面之间,而该第二端部还抵靠于该些定...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张英毅郑国鸣许晋源郭坤泰宋少杰
申请(专利权)人:联华电子股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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