生产全息膜的方法技术

技术编号:8194119 阅读:229 留言:0更新日期:2013-01-10 03:55
本发明专利技术涉及生产全息膜的方法,其中提供光聚合物制剂,作为组分,其包含基质聚合物、书写单体、光引发剂体系、任选不可光聚合的组分和任选催化剂、自由基稳定剂、溶剂、添加剂和其它助剂和/或添加剂。在载体膜上大面积地以薄膜形式施加所述光聚合物制剂,并将所述光聚合物制剂在载体膜上在60??100℃并比温度T高至少30℃的化合物作为光聚合物制剂的组分,并使用具有≥?0.030?MPa的平台模量的光聚合物制剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及和能通过该方法获得的全息膜。可以例如借助特殊光聚合物制剂制造全息膜。因此,例如,WO 2008/125199 Al描述了含有聚氨酯-基基质聚合物、丙烯酸酯-基书写单体和光引发剂的光聚合物制剂。如果固化光聚合物制剂层,则书写単体和光引发剂在空间上以各向同性分布嵌在所得聚氨酯基质中。由此,获得其中能通过曝光井入全息图的薄膜。这能通过两个相干光源的叠加实现——其中在介质中形成通常能通过折射率的区域变化(折射率调制An)描述的三维结构。这样的结构被称作全息图,其也可以被描述为衍射光学元件。这种全息图发挥的光学功能取决于特定曝光。关于光聚合物制剂的使用,由光聚合物中的全息曝光产生的折射率调制An起到 决定性作用。在全息曝光过程中,通过例如高折射丙烯酸酯在折射率光栅中的干扰场中的高強度位置的局部光聚合形成信号光束和參考光束(在最简单的情况下,两个平面波)的干扰场。光聚合物(全息图)中的折射率光栅含有信号光束的所有信息。通过使全息图仅曝露在參考光束下,可随后重构信号。相对于入射參考光的强度,由此重构的信号的强度被称作衍射效率,在下文中被称作DE。在由两个平面波的叠加形成的全息图的最简单本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:D赫内尔MS韦泽FK布鲁德T罗勒T费克
申请(专利权)人:拜尔材料科学股份公司
类型:
国别省市:

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