一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法，包括如下步骤：清洗基片；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜；在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干；在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干；对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影和烘干；在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属；将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第二层金属；将蒸发第二层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离；在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；去除基片：将基片和聚酰亚胺膜剥离。本发明专利技术实现频带的拓展。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种太赫兹滤波器的制造方法，特别涉及。
技术介绍
太赫兹技术在通讯、国防以及生物等方面有重要的应用，要实现对太赫兹波实际有效应用，与之相关的太赫兹滤波器等功能器件至关重要。随着研究不断深入，近些年来陆续提出利用电磁超材料，光子晶体等结构实现太赫兹滤波器。电磁超材料其电磁性能高度依赖单元的几何结构，人们只需要通过设计共振结构单元就可以灵活地控制电磁属性，在滤波器、吸波器等功能器件方面表现出巨大的应用。但是由于超材料的机理是基于强电磁共振的，因此谐振带宽很窄，只能应用于有限领域，无法大量解决军事和民用方面的需求。
技术实现思路
专利技术目的针对上述现有技术存在的问题和不足，本专利技术的目的是提供，实现频带的拓展。技术方案为实现上述专利技术目的，本专利技术采用的技术方案为，包括如下步骤(I)清洗基片；(2)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜；(3)在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干；(4)在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干；(5)对光刻胶进行曝光；(6)对曝光后的光刻胶进行显影和烘干；(7)在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属；(8)将蒸发第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型太赫兹超宽通带滤波器的制造方法，包括如下步骤：(1)清洗基片；(2)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜；(3)在所述聚酰亚胺膜上涂覆光刻胶LOR并烘干；(4)在所述光刻胶LOR上涂覆光刻胶AZ1500并烘干；(5)对光刻胶进行曝光；(6)对曝光后的光刻胶进行显影和烘干；(7)在所述光刻胶AZ1500和露出的聚酰亚胺膜上蒸发第一层金属；(8)将蒸发第一层金属的基片浸泡在丙酮溶液中剥离去除剩下的光刻胶AZ1500与所述光刻胶AZ1500上的第一层金属，然后用显影液去除剩余的光刻胶LOR；(9)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化；(10)重复步骤(3)至步骤(6)；(11)在所述光刻胶AZ1500...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金飚兵，梁兰菊，贾小氢，吴培亨，
申请(专利权)人：南京大学，
类型：发明
国别省市：