一种优化晶硅太阳能电池扩散方块电阻均匀性的方法技术

技术编号:8191841 阅读:667 留言:0更新日期:2013-01-10 02:34
本发明专利技术公开了一种优化晶硅太阳能电池扩散方块电阻均匀性的方法,其整个过程采用的是高温恒温扩散工艺路线。步骤依次为:1)进行氧化:将硅片放入扩散炉中,温度控制在850℃~870℃并通入干氧和大氮,其中氧化时间为150s;2)第一次扩散:将温度控制在850℃~870℃并通入干氧,小氮,大氮,其中扩散时间为1700s;3)第二次扩散:将温度控制在830℃并通入大氮,扩散时间为150秒。用以上方法通过控制氧化层厚度来改善晶硅电池片内方块电阻均匀性。由于方块电阻均匀性得到了改善,电池性能如并联电阻和电池转换效率都有不同程度提高。此方法可在炉管中连续进行,既不增加工艺的复杂性,也不会增加生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于太阳能电池生产
,该方法可以运用到晶硅太阳能电池扩散工艺中。
技术介绍
随着经济和社会的不断发展,能源危机和环境污染己经成为全人类生存与发展面临的严重挑战。晶硅太阳能电池因其光电转换效率高、成本低、工艺简单等优点已经成为当前重要产业化发展方向,晶硅太阳能电池生产占据了全球太阳能电池生产主导地位。 对于晶体硅太阳能电池的生产工序主要由清洗一扩散一等离子刻蚀一去磷硅玻璃一PECVD —丝网印刷一测试组成,其中扩散制结的好坏直接决定了效率的提升。现今对于多晶硅太阳能电池的提效主要是对扩散工艺进行改进,而要提高光电转换效率,就必须尽量减少漏电流的存在,方阻均匀性不好对漏电流影响很大,同时对烧结要求也很高。对于扩散中通入大氮的主要目的是在炉管中形成正压,避免其它外界气体和粉尘进入,并且使扩散更加均匀。加大大氮流量会有助于均匀性改善但是会使成本大大提高,因此要寻找既不增加成本也易操作的方法。本方法通过在扩散前调节干氧流量来控制氧化层厚度,使方块电阻均匀性在一定程度上得到了改善。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种优化晶硅太阳能电池扩散方阻均匀性的工艺。本专利技术所采用的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种优化晶硅太阳能电池扩散方块电阻均匀性的方法,其步骤主要分为以下四步。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周艺肖斌黄燕李华维何俊明郭长春欧衍聪
申请(专利权)人:长沙理工大学
类型:发明
国别省市:

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