【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例大体来说是有关于一种整合式制程系统,该系统含有能够同步处理多个基材的多个制程站及机械臂。
技术介绍
形成电子器件的制程通常是在受控制的制程环境下在拥有连续处理基材(例如半导体晶片)的能力的多腔室制程系统(例如,群集工具)内完成。典型用来沉积(即涂 布)和显影光阻材料的群集工具一般称为自动化光阻涂布及显影工具(track lithographytool),或用来执行半导体清洁制程,一般称为湿式/清洁工具,典型的群集工具包含容纳至少一个基材传送机械臂的主架构,该机械臂在晶片盒/晶片匣安装装置和与该主架构连接的多个制程腔室间传送基材。群集工具通常是经使用而使基材可在受控制的制程环境下以可重复方式处理。受控制的制程环境具有许多好处,包含在传送期间及在完成各种基材制程步骤期间最小化基材表面的污染。在受控制环境下处理因而可减少缺陷的产生并改善元件合格率。基材制造制程的有效性通常是由两个相关且重要的因素来权衡,即器件合格率和持有成本(cost of ownership, CoO)。这些因素是重要的,因为这些因素直接影响电子器件的生产成本,从而影响到器件制造商 ...
【技术保护点】
一种用于转移基材的设备,包括:基座,具有基材支撑表面;反应构件,设置在该基座上;接触构件,与适于将基材朝向该反应构件推动的促动器连接,以及制动构件,该制动构件在该接触构件经设置来将该基材朝向该反应构件推动时适于抑制该接触构件的移动。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:M·利斯,J·胡金斯,C·卡尔森,W·T·威弗,R·劳伦斯,E·英格哈特,D·C·鲁泽克,D·塞法缇,M·库查,K·范凯特,V·霍斯金,V·沙阿,S·洪乔姆,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:
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