本发明专利技术提供一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法，步骤如下：分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废水，搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。本发明专利技术的优点是：（1）利用印染废水中的阴离子染料，将加入到水中的水滑石在处理该废水的同时制成有机水滑石，并且同时化工有机废水中的有机物被吸附到水滑石层间，将污染物得以去除，废水得以净化。（2）分离后得到的水滑石还可以用于处理相应的有机废水。（3）该工艺显著降低了这两类废水处理的成本，易于推广使用。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及环境污染控制新技术的开发，尤其涉及一直同时处理印染废水和化工有机废水的方法。
技术介绍
合成染料具有复杂的芳香烃分子结构，种类繁多，难以生物降解。某些染料或其降解产物具有强烈的致癌、致畸、致突变效应，因而染料污染的水体处理已成为有待解决的难题之一。据报道，商业染料约有I万种，每年染料的总产量为60万吨，我国年产量已达15万吨，生产过程中大约有10% 20%的染料会直接随水排入环境。染料废水往往具有色度闻、毒性大等特点。通常用物理、化学或生物方法如混凝沉淀、化学氧化、离子交换、超膜滤、光催化氧 化、微生物吸附降解等处理染料废水，然而，这些技术对废水中色度的去除效果不太明显，并且处理费用高，处理废水的范围较窄。随着经济的高速发展，化工产品生产过程对环境的污染加剧，对人类健康的危害也日益普遍和严重，其中特别是精细化工产品(如制药、染料、日化等)生产过程中排出的有机物质，大多都是结构复杂、有毒有害和生物难以降解的物质。因此，化工废水处理的难度较大。化工废水的基本特征为极高的C0D、高盐度、对微生物有毒性，是典型的难降解废水，是目前水处理技术方面的研究重点和热点。化工废水的特征分析如下(I)水质成分复杂，副产物多，反应原料常为溶剂类物质或环状结构的化合物，增加了废水的处理难度；(2)废水中污染物含量高，这是由于原料反应不完全和原料、或生产中使用的大量溶剂介质进入了废水体系所引起的；(3)有毒有害物质多，精细化工废水中有许多有机污染物对微生物是有毒有害的，如卤素化合物、硝基化合物、具有杀菌作用的分散剂或表面活性剂等；(4)生物难降解物质多，B/C比低，可生化性差；(5)废水色度高。化工废水是一种比较难处理的废水。层状双轻基复合金属氧化物(Layered Double Hydroxides,简称LDH),又称水滑石，是一类重要的无机功能材料。其独特的层状结构及层板元素和层间阴离子的可调变性受到人们的广泛关注，经离子交换向层间引入新的客体阴离子可使层状结构和组成产生相应的变化，因而可以制备一大类具有特殊性质的功能材料。水滑石材料属于阴离子型层状化合物。层状化合物是指具有层状结构、层间离子具有可交换性的一类化合物，利用层状化合物主体在强极性分子作用下所具有的可插层性和层间离子的可交换性，将一些功能性客体物质引入层间空隙并将层板距离撑开从而形成层柱化合物。水滑石化学结构通式为其中M2+为Mg2+，Ni2+，Mn2+，Zn2+，Ca2+，Fe2+，Cu2+ 等二价金属阴离子；M3+ 为 Al3+，Cr3+，Fe3+，Co3+ 等三价金属阴离子；A11—为阴离子，如⑶广，NO3' CF, OH—，S042—，PO,，C6H4 (COO) 22-等无机和有机离子以及络合离子，当层间无机阴离子不同，水滑石的层间距不同，同时在水滑石吸附污染物之后，层间距也会增大，以容纳更多的污染物。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术中处理化工有机废水和印染废水的不足，提供。为解决上述技术问题本专利技术采用的技术方案是，步骤如下分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废水，搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。所述的水滑石为5(Γ100目的水滑石，根据分析的印染废水中阴离子染料的量，印染废水中水滑石加入量为每毫摩尔阴离子染料加入O. 8^1. 6g。根据化工有机废水的COD浓度，所述的化工有机废水与印染废水按体积比为I: I 1:3混合。所述的搅拌为持续搅拌2 3h。所述的水滑石可以是市售的商品，也可以根据现有技术制备，其制备技术是总所周知的。水滑石化学结构通式为其中M2+为Mg2+，Ni2+，Mn2+，Zn2+，Ca2+，Fe2+，Cu2+ 等二价金属阳离子中的任一种；M3+ 为 Al3+，Cr3+，Fe3+，Co3+ 等三价金属阳离子中的任一种为阴离子，如CO广，NCV，cr，or, SO广，PO广等无机离子中的任一种；x=0. 5 O. 15 ；Μ2+/Μ3+=Γ5ο本专利技术的有益效果是(I)利用印染废水中的阴离子染料，将加入到水中的水滑石在处理该废水的同时制成有机水滑石，并且同时化工有机废水中的有机物被吸附到水滑石层间，将污染物得以去除，废水得以净化。(2)分离后得到的水滑石还可以用于处理相应的有机废水。(3)该工艺显著降低了这两类废水处理的成本，易于推广使用。具体实施例方式以下进一步提供本专利技术的3个实施例实施例I根据要处理的印染废水中阴离子染料的量，按每毫摩尔阴离子染料加入O. 8g过100目筛的水滑石粉末，然后再加入化工有机废水，该化工有机废水的COD浓度为IOOOmg/L，化工有机废水和印染废水的比例为I :1 (体积比)持续搅拌3h，沉淀分离。测定分离后废水的C0D，经分析，COD的去除率为92. 2%。在同样的条件下，先在印染废水中加入同样的水滑石，经过搅拌3h后，沉淀分离，在90°C下烘疒3h，再在105°C活化lh，得到有机水滑石，将得到的产品研磨过100目筛，再将该粉末应用于相同水量的同种化工有机废水处理，搅拌3h，沉淀分离，测定印染废水和化工有机废水的C0D，去除率分别为80. 4%和75. 2%。过程复杂，并且经过烘干的有机水滑石在废水中由于表面由亲水变为疏水而分散困难，导致处理效果偏低。实施例2根据要处理的印染废水中阴离子染料的量，按每毫摩尔阴离子染料加入1.6g过50目筛的水滑石粉末，然后再加入化工有机废水，该化工有机废水的COD浓度为5000mg/L，化工有机废水和印染废水的比例为I :3 (体积比)持续搅拌2h，沉淀分离。测定分离后废水的C0D，经分析，COD的去除率为83. 7%。在同样的条件下，先在印染废水中加入同样的水滑石，经过搅拌2h后，沉淀分离，在90°C下烘疒3h，再在105°C活化lh，得到有机水滑石，将得到的产品研磨过50目筛，再将该粉末应用于相同水量的同种化工有机废水处理，搅拌2h，沉淀分离，测定印染废水和化工有机废水的C0D，去除率分别为76. 5%和70%。过程复杂，并且经过烘干的有机水滑石在废水中由于表面由亲水变为疏水而分散困难，导致处理效果偏低。实施例3根据要处理的印染废水中阴离子染料的量，按每毫摩尔阴离子染料加入O. 8g过100目筛的水滑石粉末，然后再加入化工废水，该化工有机废水的COD浓度为3000mg/L，化工有机废水和印染废水的比例为I :2 (体积比)持续搅拌3h，沉淀分离。 测定分离后废水的C0D，经分析，COD的去除率为86. 5%。将上述分离得到的水滑石按I :1000加入到待处理的对硝基苯的有机废水中，搅拌60分钟后，沉淀固液分离，紫外可见分光光度计测定上清液浓度，污染物去除率为85. 2%。在同样的条件下，先在印染废水中加入同样的水滑石粉末(与本实施例第一段中的100目水滑石粉末相同)，经过搅拌3h后，沉淀分离，在90°C下烘2 3h，再在105°C活化lh，得到有机水滑石，将得到的产品研磨过100目筛，再将该粉末应用于相同水量的同种化工废水处理，搅拌3h，沉淀分离，测定印染废水和化工废水的C0D，去除率分别为78. 6%和72. 4%。过程复杂，并且经过烘干的有机水滑石在废水中由于表面由亲水变为疏水而分散困难，导致处本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种同时处理印染废水和化工有机废水的方法，其特征在于：步骤如下：分析印染废水中阴离子染料的量，加入水滑石，然后加入化工有机废水，搅拌，沉淀分离，废水即可达标排放。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马建锋，杨彦，姚超，李定龙，
申请(专利权)人：常州大学，
类型：发明
国别省市：
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