用于从传感器机身的端板清洁沉积物和增积物的设备和方法技术

本发明专利技术涉及一种用于从传感器机身的端板清洁沉积物和增积物的设备和方法，其中传感器机身（1）被实施为用于容纳测量设备，该测量设备用于确定一个或更多个物理和/或化学过程变量，其中传感器机身（1）被密封以防止液体的渗透。并且所述设备中设置擦拭器（3），该擦拭器具有擦拭刮片（4），用于清洁端板（2），其特征在于：擦拭器（3）被布置作为外围附加模块上的子组件，其中擦拭器（3）和外围附加模块的几何形状被实施为使得擦拭器（3）在回转过程中的旋转运动的情形下从休止位置移动到清洁位置，其中，在清洁位置中，擦拭刮片（4）的下边缘与端板（2）的上边缘齐平，从而擦拭器（3）通过擦拭刮片（4）和端板（2）的接触而清洁端板（2），并且然后擦拭器（2）返回至休止位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于从传感器机身的端板清洁沉积物(deposit)和增积物(accretion)的设备和方法，其中将传感器机身实施为用于容纳测量设备，该测量设备用于确定一个或更多个物理和/或化学过程变量，其中传感器机身被密封以防止液体的渗透，并且其中设置有擦拭器，该擦拭器具有擦拭刮片，用于清洁端板。
技术介绍
在本专利技术的意义下的传感器用于确认在特别是淡水和工业用水的液体中以及在气体中的过程变量。典型的过程变量的示例有浊度、固体含量以及淤泥水平。然而，实施例的形式可以与其他化学和物理过程变量有关。将在本文中提及的是确定硝酸盐含量、UV吸 收、压力测量或特别是使用超声波的无接触填充水平测量。大量不同种类的适于确定相应过程变量的测量装置从恩德莱斯和豪瑟尔(Endress+Hauser)集团可获得。通常，传感器布置在传感器机身中。许多提及的过程变量是光学地确定的。在这种情形下，具有一定波长的电磁波穿过在传感器机身中的光学窗口被接收。从DE4233218C2中已知一种用于浊度测量的设备，其中，补充设置有光源，该光源经由另一光学窗口与传感器机身相连接。从EP1816462B1中已知一种布置，在该布置的情形下为光源和接收器仅提供一个窗P。如果过程变量是非光学地确定的，则传感器经由膜或相应的适配层(adaptinglayer)接触介质。由于在水介质或气体介质中的操作，特别是还在废水中的操作，在光学窗口或膜上出现结垢、污垢、沉积物和增积物，由此使测量结果不可靠或使测量不可能。从恩德莱斯和豪瑟尔集团的手册“Technical information TurbiMax W CUS41/CUS41-W”(“技术信息TurbiMax WCUS41/CUS41-W”)中已知的是可以由安装在传感器机身的端板上的擦拭器清洁窗P。这种擦拭器由在传感器机身中的马达驱动，其中借助传动轴传递运动。必须注意的是，长时间稳定地密封该传动轴穿过传感器机身的位置，从而没有介质能够渗透到传感器机身中。擦拭器的运动由控制单元控制且交替以顺时针和逆时针方向发生。为防止有缺陷的测量，在清洁结束后，必须使擦拭器返回到限定的休止位置，将该休止位置定位在离窗口足够远的位置。如果擦拭器太过接近测量设备，则测量会被擦拭器干扰和劣化。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种确保可靠清洁传感器机身的端板的设备和方法。该目的相对于本专利技术的设备通过以下特征而实现，包括将擦拭器布置为在传感器机身的外围附加模块上的子组件。擦拭器和外围附加模块的几何形状被实施为使得擦拭器在回转过程中的旋转运动的情形下从休止位置移动到清洁位置。在清洁位置中，擦拭刮片的下边缘与端板的上边缘齐平。以该方式，擦拭器通过擦拭刮片和端板的接触而清洁端板，且然后擦拭器返回至休止位置。本专利技术的在外围附加模块上的擦拭器的布置具有如下优势-传动轴不需要穿过端板。因此，将非密封位置的危险最小化。-在擦拭器的休止位置，擦拭器距端板的表面足够远，且由此远离测量设备。这意味着擦拭器不降低测量的质量。 -外围附加模块也可随后安装在任何传感器机身上。这意味着擦拭器是选择可改型的。可以根据客户需求而设置外围附加模块。不管是否应用擦拭器，传感器机身是一样的,从而能够保持小的生产成本。在优选实施例中，擦拭器从擦拭器的休止位置与端板的表面正交地移动到清洁位置，并且擦拭器从清洁位置与端板的表面正交地返回至休止位置。在有利的实施例中，光学测量设备设置在传感器机身中并且至少一个光学窗口位于端板中。确切地在光学测量装置的情形下，需要规律地清洁用来针对介质保护测量设备的光学窗口，从而使得能够正确测量。光学测量设备定位在光学窗口下方，该光学测量设备能够具有一个或更多个光学组件，例如光学传感器。在实施例的优选形式中，每一个光学组件具有其自己的光学窗口。然而，利用用于所有光学组件的一个共有的光学窗口也是一种选择。在本专利技术的意义下的光学传感器是用于确定浊度、淤泥水平或固体含量的传感器。然而，除了这些，其他光学传感器、诸如例如用于确定硝酸盐含量、UV吸收的传感器、特定的压力传感器或根据超声波原理工作的填充水平传感器也可以利用本专利技术的设备清洁。光学组件的电磁波的波长通常在近红外的范围，例如在880nm。存在如下形式的实施例，在该实施例的情形下非光学地确定过程变量，例如压力传感器。在该情形下，传感器经由膜或相应适配层接触介质。可以手动地产生擦拭器的旋转运动；然而，优选地，应用马达作为驱动装置。以该方法，确保了在时间上的开始和停止点、速度、回转的数目以及运动方向能够被确切地设定和控制。马达的驱动力经由传动轴传递至擦拭器。此外，通过非刚性连接或以无轴方式——例如通过应用磁驱动一而发生力传输也是一种选择。马达例如单向地、因此沿顺时针方向或沿逆时针方向移动擦拭器。通过擦拭器和外围附加模块的几何形状，在擦拭器仅沿一个方向旋转时也确切地清洁端板是一种选择。当然，马达可以在两个方向上转动并且也能够执行前后运动。在有利的实施例中，第一检测元件位于擦拭器的底部的区域并且相应的第二检测元件位于外围附加模块的顶部的区域。这些检测元件使得能够确定擦拭器的位置和运动、特别是擦拭器的回转的数目。有利地，设置了控制单元，利用该控制单元，可以确定和控制擦拭器的回转的数目、持续时间、运动方向和速度。因此，使用者能够确定应该多久、多快和或多久一次清洁端板。在优选实施例中，擦拭器和外围附加模块的几何形状被实施为使得擦拭器在结束清洁后，自动或被强制返回至休止位置。如果擦拭器以该方式移动回到其休止位置，则一直确保擦拭器在测量期间位于足够远地远离测量设备的位置并且不干扰测量。优选地，弹簧元件布置在外围附加模块的内部。该弹簧元件将擦拭器拉回至休止位置，或将擦拭器保持在休止位置。弹簧元件的存在有利地影响了测量的质量，因为由此擦拭器在测量阶段位于离开检测设备的遥远位置、被保持在该位置且不干扰测量。端板关于传感器机身的纵向轴线正交地布置或以关于传感器机身的纵向轴线呈不等于90°的角度来布置。最后提及的实施例的形式是有利的，因为测量设备能够防震地并且较小污染敏感地安设在通常的管道中或其他位置处。外围附加模块的几何形状以及其在传感器机身上的布置，特别是在外围附加模块的上边缘和端板的上边缘之间的高度差，即擦拭器的高度，优选地被实施为使得出现在擦拭器上的沉积物和增积物在清洁的情形下随着擦拭刮片在返回休止位置时移过该高度差而被刮除。在该情形下，端板的边缘实施为“锐利的”边缘，即端板的边缘呈直角或尖角，使得擦拭器已经从端板移除的污垢从擦拭刮片被刮除，且下一个清洁步骤以“干净”的擦拭刮片开始。相对于本专利技术的方法，通过以下特征来实现本专利技术的目的，包括传感器机身被实施为用于容纳测量设备，该测量设备用于确定一个或更多个物理和/或化学过程变量。在该情形下，传感器机身被密封以防止液体的渗透。设置擦拭器，该擦拭器具有擦拭刮片，用于清洁端板，该擦拭器布置为在外围附加模块上的子组件。在回转过程中，擦拭器从休止位置移动到清洁位置。由此，通过擦拭刮片的接触而清洁端板。然后，擦拭器移动回到休止位置。在实施例的形式中，通过擦拭器和外围附加模块的几何形状将擦拭器从休止位置引导至清洁位置，其中擦拭器移过由擦拭器和外围附加模块的几何形状限定的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于从传感器机身（1）的端板（2）清洁沉积物和增积物的设备，其中所述传感器机身（1）被实施为用于容纳测量设备，所述测量设备用于确定一个或更多个物理和/或化学过程变量，其中所述传感器机身（1）被密封以防止液体的渗透，并且其中，设置擦拭器（3），所述擦拭器（3）具有擦拭刮片（4），用于清洁所述端板（2），所述设备的特征在于：所述擦拭器（3）被布置作为外围附加模块（7）上的子组件，其中所述擦拭器（3）和所述外围附加模块（7）的几何形状被实施为使得所述擦拭器（3）在回转过程中的旋转运动的情形下，从休止位置移动到清洁位置，其中，在所述清洁位置，所述擦拭刮片（4）的下边缘与所述端板（2）的上边缘齐平，从而所述擦拭器（3）通过所述擦拭刮片（4）和所述端板（2）的接触而清洁所述端板（2），并且然后所述擦拭器（3）返回至所述休止位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：哈桑厄茨康·卡拉格茨，米夏埃尔·利特曼，蒂洛·克拉齐穆尔，
申请(专利权)人：恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司，
类型：发明
国别省市：