在基材上沉积铌掺杂的氧化钛膜的方法和由此制备的涂覆基材技术

涂覆的制品包括铌掺杂的氧化钛的热解施涂的透明导电氧化物膜。该制品可以使用具有铌前体和钛前体的涂料混合物制备。将该涂料混合物引导至加热的基材以使该涂料混合物分解和在该加热的基材的表面上沉积透明导电铌掺杂的氧化钛膜。在本发明专利技术的一种实施方式中，该方法使用混合物包含气化的铌前体、气化的钛前体、和载气的气化涂料实施以沉积薄层电阻大于1.2和折射率2.3以上的铌掺杂的氧化钛膜。铌掺杂的氧化钛的化学式为Nb：TiOX，其中X为1.8-2.1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在基材上沉积铌掺杂的氧化钛膜的方法和由此制备的涂覆基材专利技术背景1.专利
本专利技术涉及在基材上沉积透明导电的铌掺杂的氧化钛膜的方法和由此制备的涂覆基材，更具体来说，涉及通过热解涂覆法，例如化学气相沉积法，将铌掺杂的氧化钛膜沉积在玻璃基材上，以提供涂覆的基材，该基材可以用于以下的制造，但不限于此光伏器件、电致变色器件的电极、冰箱和飞机窗户的可电加热的视觉面板、有机发光二极管、以及住宅和商业设施窗户的低发射率涂层。2.现有技术的讨论基材，例如但不限于，具有沉积在表面上的透明导电氧化物膜的玻璃板用于以下的制造，但不限于此薄膜光伏应用、电子触摸板、电致变色器件的电极、有机发光二极管、 防雾的商用冰箱门及飞机透明体的电加热玻璃、以及住宅和商业设施窗户例如红外反射窗的低发射率涂层。当前讨论所特别感兴趣的是通过化学气相沉积涂覆法沉积的透明导电氧化物膜，化学气相沉积在本领域通常称作CVD法，例如但不限于美国专利4，853，257、5，356，718和7，413，767中讨论的CVD法。通过CVD法在玻璃上沉积的最常见的透明导电氧化物膜是通常用氟掺杂的氧化锡膜。虽然氟掺杂的氧化锡膜对于制造透明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆松伟，J·W·麦卡米，J·J·芬雷，
申请(专利权)人：PPG工业俄亥俄公司，
类型：
国别省市：