【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用多种材料、多层结构热化14MeV快中子的装置,可以作为热中子源,用于硼中子俘获治疗以及热中子照相,属于核技术应用领域。
技术介绍
以D-T中子发生器为中子源进行热中子照相、硼中子俘获治疗有许多优点(I)不工作时,可以关断D-T中子发生器的电源,无中子辐照,容易防护;(2)D-T中子发生器体积小,可以制成小型装置,容易移动;(3)D-T中子发生器的造价低,容易推广。D-T中子发生器产生的中子能量为14MeV,慢化、热化后才可以作为热中子源。由于D-T中子发生器的强度远低于反应堆,所以在慢化体材料的选择以及慢化体结构的设计 等方面需要优化。为了提高14MeV中子的热化效率,本专利技术用多种材料、多层结构对其进行慢化、热化,其热化效率明显高于单一材料、单一结构的热化效率。本专利技术的热化效率定义为 热中子准直通道出口处的热中子通量热化效率=--…山7■姊- D-T中子发生器产额
技术实现思路
本专利技术提供一种“14MeV中子热化装置”,所要解决的技术问题是提高14MeV中子的热化效率。为了实现上述目标,本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种“14MeV中子热化装置”,包括D_T中子发生器,热中子准直通道,快中子反射层,中子慢化层,快中子慢化层,热中子聚集层以及中子反射层。热中子准直通道的直径⑶为2cm,可以用于硼中子俘获治疗。长度(L)为40cm,准直比(L/D)为20,可以用于热中子照相。中子显电中性,D-T中子发生器发射的14MeV中子大约有一半沿着热中子准直通道的反向运行,为了提高中子利用率,增加热化装置的热化效率,本专利技术 ...
【技术保护点】
一种14MeV中子热化装置,由D?T中子发生器(1),快中子反射层(2),快中子慢化层(3),热中子准直通道(4),热中子聚集层(5),中子慢化层(6)以及中子反射层(7)构成,其特征是:用快中子反射层(2)反射D?T中子发生器(1)发射的、远离热中子准直通道(4)出口的14MeV中子,用快中子慢化层(3)和中子慢化层(6)依次慢化14MeV中子,用中子反射层(7)反射远离热中子准直通道(4)出口的中子,用热中子聚集层(5)使热中子在中子准直通道(4)内聚集、准直,提高出口处的热中子通量。
【技术特征摘要】
1.一种14MeV中子热化装置,由D-T中子发生器(I),快中子反射层(2),快中子慢化层(3),热中子准直通道(4),热中子聚集层(5),中子慢化层¢)以及中子反射层(7)构成,其特征是用快中子反射层(2)反射D-T中子发生器(I)发射的、远离热中子准直通道(4)出口的14MeV中子,用快中子慢化层(3)和中子慢化层(6)依次慢化14MeV中子,用中子反射层(7)反射远离热中子准直通道(4)出口的中子,用热中子聚集层(5)使热中子在中子准直通道(4)内聚集、准直,提高出口处的热中子通量。2.根据权利要求I所述的14MeV中子热化装置,其特征是快中子反射层(2)是一个...
【专利技术属性】
技术研发人员:程道文,李鑫,韩冬,向鹏,韦韧,董小刚,孙正昊,兰民,
申请(专利权)人:长春工业大学,
类型:发明
国别省市:
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