本发明专利技术提供一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。相应地，提供一种采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。本发明专利技术所述显示基板的制作方法以及采用该方法制成的显示基板能够减少构图工艺次数。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示器制造
，具体涉及一种显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。
技术介绍
随着显示器制造技术的发展，液晶显示器技术发展迅速，已经取代了传统的显像管显示器而成为未来平板显示器的主流。在液晶显示器
中，TFT-IXD (Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势而广泛应用于电视机、电脑、手机等领域。其中，TN (扭曲向列，Twisted Nematic)型TFT-LCD由于输出灰阶级数较少，液晶分子偏转速度快，故响应时间短，且成本较低，因而在液晶显示器领域得到广泛应用；ADSDS (高级超维场转换技术，ADvanced Super Dimension Switch,简称ADS)型TFT-LCD由于具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点，更加广泛应用于液晶显示器领域。显示面板是TFT-IXD的主要部件之一，所述显示面板一般由阵列基板和彩膜(CF，Color Filter)基板进行对盒，并在阵列基板与彩膜基板之间填充液晶而成。其中，所述阵列基板上设置有多根相互平行的栅线以及多根相互平行的数据线，所述多根栅线与所述多根数据线交叉定义多个像素单元，每个像素单元均包括一个TFT元件(包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极)及一个像素电极。现有的TN型TFT-IXD中彩膜基板的制作工艺一般包括在衬底基板上依次形成黑矩阵(BM，Black Matrix)、红色滤色区域、绿色滤色区域、蓝色滤色区域、段差消除层(0C，Over Coat)、公共电极以及隔垫物(Spacer)等共七次构图工艺；现有的ADS型TFT-LCD中彩膜基板的制作工艺一般包括在衬底基板上依次形成背面屏蔽电极(B-IT0)、黑矩阵、红色滤色区域、绿色滤色区域、蓝色滤色区域、段差消除层以及隔垫物等共七次构图工艺。在上述彩膜基板的制作工艺中，所述衬底基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成多个像素区域(或者称为子像素开口区域)，且彩膜基板上的每个像素区域均与阵列基板上的一个不同的像素单元相对应，以使得阵列基板与彩膜基板对盒后，所述多个像素区域分别与所述多个像素单元的位置相对。由于每次构图工艺均需要把掩模板图形转移到薄膜图形上，且每一层薄膜图形都需要精确地覆盖在另一层薄膜图形上，而在彩膜基板的制作过程中，所用到的掩模板的次数越少，则生产效率越高，生产成本越低，因此，如何进一步减少构图工艺的次数，提高生产效率，降低生产成本是行业内亟待解决的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中所存在的上述缺陷，提供一种能够减少构图工艺次数的显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案所述显示基板的制作方法包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选地，所述隔垫物采用黑色不透光树脂形成。优选地，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。优选地，所述在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤包括在衬底基板上形成隔垫物薄膜；在上述形成有隔垫物薄膜的衬底基板上形成一层光刻胶；·对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全去除区域，所述光刻胶完全保留区域对应于形成所述主隔垫物图形，所述光刻胶部分保留区域对应于形成所述次隔垫物图形，所述光刻胶完全去除区域对应于形成所述隔墙图形；对所述衬底基板上的光刻胶完全去除区域进行刻蚀，以形成隔墙图形；对形成有隔墙图形的衬底基板进行灰化处理，以灰化掉所述光刻胶部分保留区域的光刻胶，然后对所述衬底基板再次进行刻蚀，以形成次隔垫物图形；在次隔垫物图形形成后，将所述光刻胶完全保留区域的光刻胶剥离，以形成主隔垫物图形。优选地，在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述衬底基板上形成滤色膜层图形的步骤。优选地，所述制作方法还包括在衬底基板上未形成有滤色膜层的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在滤色膜层图形上。优选地，在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述滤色膜层图形上形成公共电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在公共电极图形上。本专利技术同时提供一种显示基板，包括衬底基板及设置在其上的隔垫物，其中，所述隔垫物采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选地，所述隔垫物采用黑色不透光树脂制成。优选地，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。优选地，所述显示基板还包括滤色膜层，所述滤色膜层设置在衬底基板与隔垫物之间。优选地，所述显示基板还包括背面屏蔽电极，所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有滤色膜层的一侧。优选地，所述显示基板还包括公共电极，所述公共电极设置在滤色膜层上，所述隔垫物设置在公共电极上。本专利技术同时还提供一种包括所述显示基板的显示装置。有益效果I)本专利技术所述显示基板由于采用不透光的隔垫物取代了现有的黑矩阵，且所述隔垫物既起到现有隔垫物支撑盒厚的作用，又起到现有黑矩阵防止漏光和增加对比度的作用，因而省略了黑矩阵的制作工序；2)本专利技术所述显示基板既可以为彩膜基板，也可以为阵列基板。现有的彩膜基板中，由于衬底基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成了多个像素区域，且滤色膜层形成在该黑矩阵上，使得形成有滤色膜层的衬底基板上存在段差，不利于后续工艺中隔垫物的形成，因而在形成隔垫物前需在滤色膜层上形成段差消除层以消除段差，若本专利技术所述显示基板为彩膜基板，则由于省略了黑矩阵，也就不存在段差的问题，故同时也省略了段差消除层的制作工序。附图说明图I为本专利技术实施例2中所述彩膜基板的制作方法流程图； 图2为本专利技术实施例3中所述彩膜基板的制作方法流程图；图3为本专利技术实施例4中所述隔垫物的局部结构示意图，其中，图3(a)为俯视图，图3 (b)为主视图。图中1_主隔垫物；2_次隔垫物；3_隔墙。具体实施例方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和实施例对本专利技术显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置作进一步详细描述。实施例I :本实施例提供一种显示基板的制作方法，其包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。需要说明的是，所述显示基板既可以为彩膜基板也可以为阵列基板，故所述隔垫物图形既可以形成在彩膜基板上也可以形成在阵列基板上。优选所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成。优选所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：庞立斌，果银虎，赵迎旭，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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