【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于深紫外投影光刻物镜结构设计与像差补偿领域,具体涉及光刻物镜中光学元件高精度支撑结构。
技术介绍
投影光刻装备是大規模集成电路制造エ艺中的关键设备,近年来随着集成电路线宽精细程度的不断提高,投影光学装备的分辨率亦逐渐提高,目前波长193. 368nm的ArF准分子激光器投影光刻装备已成为90nm、65nm和45nm节点集成电路制造的主流装备。 投影光刻物镜装调及使用过程中,为满足良好的光学系统性能,要求其内部光学元件面形RMS值大都在f 2nm范围内,同时要求其工作过程中受高能激光照射时引起的光学元件热面形RMS控制在I 2nm范围内。
技术实现思路
本专利技术为解决光刻物镜中光学元件高精度支撑问题,提出一种三点径向挠性主支撑、多点弹片辅助支撑的光刻物镜中光学元件高精度支撑结构。光刻物镜中光学元件高精度支撑结构,包括镜框和整体弾片,所述整体弾片与镜框之间通过若干螺钉固定。所述镜框内环周向均匀分布三处径向挠性弾片,所述三处径向挠性弾片和镜框为一体式结构。所述整体弾片具有若干整体弾片支撑片,所述三处径向挠性弾片与若干整体弾片支撑片沿周向均匀分布。所述三处径向 ...
【技术保护点】
光刻物镜中光学元件高精度支撑结构,包括镜框(2)和整体弹片(3),其特征在于,所述整体弹片(3)与镜框(2)之间通过若干螺钉(4)固定。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:赵磊,巩岩,于新峰,彭海峰,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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