一种红外光学窗口及其制造方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种红外光学窗口及其制造方法，包括：提供红外光学窗口基片；在入射面上形成第一抗反射结构；在出射面上形成第二抗反射结构；在形成了第一抗反射结构的入射面上形成聚合物薄膜保护层。本发明专利技术的实施例中，在入射面的抗反射结构上形成了由具有高红外光透过率的聚合物材料形成的薄膜保护层，该薄膜保护层不存在吸水吸潮现象，机械性能稳定，对工作环境变化不敏感，内应力小，8～12um波段平均红外透过率达到85%以上，折射率适中，制备方法简单，成本低廉。利用这种结构可保护抗反射结构免受环境污染和物理破坏，有效提高窗口可靠性，增加窗口的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及红外光学器件领域，尤其是涉及ー种红外光学窗ロ及其制造方法。
技术介绍
由于传统红外光学窗ロ材料具有较大反射系数,所以当作为红外光学窗ロ时需要进行表面抗反射处理。通常的增透处理方法是在红外光学窗ロ表面制作亚波长抗反射结构。理论上采用亚波长抗反射结构的红外窗ロ在8 12um波段的最高红外透过率能达到99. 5%，平均透过率达95%以上。但是，虽然采用亚波长结构的窗ロ有很高的红外透过率，但在实际使用过程中会 产生如下问题一，使用环境中的尘埃颗粒容易陷入到结构中，使得抗反射层的折射率发生改变，窗ロ受到污染，并且不能采用普通的擦拭方法清洁红外窗ロ，从而影响窗ロ的红外透过率。ニ，红外窗ロ的亚波长结构尺寸过小，窗ロ在发生意外磕碰的情况下容易使表面结构受到损坏，物理破坏也会改变抗反射层的折射率，影响窗ロ使用寿命甚至导致窗ロ失效。因此需要在窗ロ表面制作一层保护膜来保护结构。红外光学器件一般是采用PECVD (等离子体增强化学气相沉积法)制备DLC (类金刚石镀膜)的方法制作光学保护层。但是由于亚波长结构表面微小不平整的结构，使得气相沉积后的的表面也会不平整，对红外窗ロ的亚波长结构起不到本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造红外光学窗口的方法，包括：提供红外光学窗口基片；在所述红外光学窗口基片的入射面上形成第一抗反射结构；在所述红外光学窗口基片的出射面上形成第二抗反射结构；在形成了所述第一抗反射结构的所述入射面上形成聚合物薄膜保护层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何少伟，陈鹏杰，王明星，胡庆，徐向东，李伟，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：