闸阀和使用其的基板处理系统技术方案

本发明专利技术提供一种即使一次处理的被处理体的个数增加，也能够缩短阀体的升降距离的闸阀。该闸阀具备：被按压到取出和放入被处理体的多个开口部（61a～61d）的阀体（63）；设置在阀体63）上的按压部（67）；与开口部（61a～61d）的开口面平行地滑动的主滑动部（70）；和凸轮（71），其设置在主滑动部（70）上，包括突起部（72）和从该突起部（72）呈坡状倾斜的倾斜部（73），在阀体（63）与开口部（61a～61d）正对的状态下按压阀体（63）的按压部（67），其中，阀体（63）具有作为打开开口部（61a～61d）的开放部起作用的至少1个缝隙状开口（65a～65c），与缝隙状开口（65a～65c）相邻的部位为闭塞开口部（61a～61d）的闭塞部（66a～66d）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及闸阀和使用其的基板处理系统。
技术介绍
在太阳电池、液晶显示屏(IXD)为代表的平板显示屏(FPD)等的制造过程中，对大型的玻璃基板实施蚀刻或者成膜等的规定的处理。作为实施这种处理的基板处理系统，已知有具备多个处理室的多腔室类型的基板处理系统(例如专利文献1、2)。这种多腔室类型的基板处理系统，具有设置有搬送基板(被处理体)的搬送装置的共用搬送室，在该共用搬送室的周围具备处理室；和在共用搬送室和大气压氛围之间交 换未处理的基板和处理完成的基板的负载锁定室等。这些共用搬送室、处理室和负载锁定室为真空装置，这些真空装置，通过使用排气机构进行排气，内部成为规定的减压状态。真空装置具备气密地构成的容器主体，在该容器主体上设置有用于被处理体出入的开ロ部。开ロ部使用闸阀开闭。当开ロ部通过闸阀关闭时，容器主体的内部被气密地密封，容器主体的内部的压カ减压至规定的エ艺压力，能够在大气状态和减压状态相互之间转换。作为闸阀的结构例，已知有使用在专利文献I记载的环机构的闸阀和使用在专利文献2记载的凸轮机构的闸阀。专利文献专利文献I :日本特开平5-196150号公报专利文献2 :日本特开2011-54928号公报
技术实现思路
近来，随着被处理体的大型化或者同时多个处理被处理体的批处理的进展，设置在容器主体上的用于被处理体进出的开ロ部的尺寸变大。另外，在批处理中，从抑制成品率的降低或者維持或者提高的观点出发，研究使一次处理的个数增加。但是，当一次处理的被处理体的个数增加时，开ロ部的尺寸在高度方向上会变长，阀体的升降距离也会变长。因此，在生产エ厂内，存在设置基板处理系统困难的问题。本专利技术提供一种即使一次处理的被处理体的个数增加，也能够缩短阀体的升降距离的闸阀和使用该闸阀的基板处理系统。本专利技术的第一方面的闸阀，包括取出和放入被处理体的多个开ロ部；被按压上述开ロ部的阀体；在上述阀体上设置的按压部；与上述开ロ部的开ロ面平行地滑动的主滑动部；设置在上述主滑动部，包括突起部和从该突起部呈坡状倾斜的倾斜部，在上述阀体与上述开ロ部正对的状态下按压上述阀体的按压部的凸轮，上述阀体，具有作为打开上述开ロ部的开放部起作用的至少ー个缝隙状开ロ，使与上述缝隙状开ロ相邻的部位成为关闭上述多个开ロ部的闭塞部。本专利技术的第二方面的基板处理系统，具备处理室，其具有取出和放入被处理体的开ロ部，能够使得上述被处理体在真空状态下，对上述被处理体实施处理；负载锁定室，其具有取出和放入上述被处理体的开ロ部，能够使上述被处理体处于大气状态下和真空状态下两者，交换处理前和完成处理的被处理体；和搬送室，其具有取出和放入上述被处理体的开ロ部，能够使上述被处理体处于真空状态下，在上述负载锁定室和上述处理室之间搬送上述被处理体，开闭上述处理室、上述负载锁定室和上述搬送室的至少任ー个的取出和放入上述被处理体的开ロ部的闸阀，使用上述第一方面的闸阀。根据本专利技术，能够提供即使一次处理的被处理体的个数增加，也能够缩短阀体的升降距离的闸阀和使用该闸阀的基板处理系统。附图说明图I是概略性的表不使用一个实施方式的闸阀的基板处理系统的ー个例子的俯视图。 图2是从闸阀室的内部观看ー个实施方式的闸阀的正视图。图3是表示參考例的图。图4是表示參考例的图。图5是表示使用一个实施方式的闸阀的一个优点的图。图6是以表示一个实施方式的闸阀的ー个动作例的一部分为截面的侧视图。图7是以表示一个实施方式的闸阀的更具体的一个例子的一部分为截面的正视图。图8是沿着图7的8-8线的水平截面图。图9是沿着图7的9-9线的截面图。图10是沿着图7的10-10线的纵截面图。图11是沿着图7的11-11线的纵截面图。符号说明10a、IOb 处理室20负载锁定室30共用搬送室60闸阀室61a 61d 开ロ部63 阀体65a 65c缝隙状开ロ67按压部69 辊70主滑动部71按压机构72突起部73倾斜部74拉挂部80副滑动部81拉回机构75基板G通过用缺ロ部76防缓冲用缺ロ部90阀体制动器91 肋具体实施例方式以下，參照附图说明本专利技术的实施方式。參照附图的全部，对同一部分标注同一參考符号。 在本例中，作为被处理体的ー个例子列举使用太阳电池、FPD的制造中所使用的玻璃基板，例示对该玻璃基板实施规定的处理、例如蚀刻或者成膜等的基板处理系统。图I是概略性的表不使用本专利技术的一个实施方式的闸阀的基板处理系统的俯视图。如图I所不,一个实施方式的基板处理系统I具备对基板G实施处理的处理室，在本例中为多个处理室10a、10b ;交换处理前和处理完成的基板G的负载锁定室20 ;在负载锁定室20和处理室IOa或10b、以及处理室IOa和IOb之间搬送基板G的共用搬送室30 ；和设置在共用搬送室30上的搬送基板G的搬送装置40。本例的搬送装置40，特别是，虽然没有图示，但在多层地保持多个基板G，一次搬送多个基板G。 在本例中，处理室10a、10b、负载锁定室20和共用搬送室30为真空装置，各自具备能够使基板G在规定的减压状态下，气密地构成的容器主体50a、50b、50c或50d。容器主体50a、50b、50c或50d上设置有基板G出入的开ロ部51a、51b、51c或51d。另外，在负载锁定室20的容器主体50c上还设置有在负载锁定室20的内部和基板处理系统I的外部之间取出和放入基板G的开ロ部51e。开ロ部51e用于处理前基板G进入基板处理I和处理完成的基板G从基板处理系统I移出。共用搬送室30，经由收纳有闸阀的闸阀室60分别与处理室10a、10b和负载锁定室20连接。在本例中，闸阀室60存在3个，各自与上述容器主体50a 50d同样构成为能够使内部为规定的减压状态下的真空装置用结构部件。在闸阀室60设置有开ロ部61，与设置在处理室10a、10b和负载锁定室20的容器主体50a 50c上的开ロ部51a 51c连通；和开ロ部62，与设置在共用搬送室30的容器主体50d上的开ロ部51d连通。基板G通过开ロ部61、62，在共用搬送室30、处理室10a、IOb和负载锁定室20之间取出和放入。在闸阀室60内部收纳有闸阀的阀体63。闸阀主要由阀体63密封和开放闸阀室60的一个开ロ的机构构成。在本例中，阀体63开闭开ロ部61、62中的处理室10a、10b和负载锁定室20侧的开ロ部61。阀体63通过按压开ロ部61并密封开ロ部61的周围，来关闭开ロ部51a 51c，并气密地密封处理室10a、10b和负载锁定室20的容器主体50a 50c。另外，负载锁定室20的大气侧的开ロ部51e，通过用于连通和阻断处于大气状态下的外部环境的阀63a来开闭。图2A 图2C是从闸阀室60的内部观看本专利技术ー个实施方式的闸阀的正视图。图2A表不由阀体63开闭的开ロ部61的一个例子。如图2A所示，在本例中，在闸阀室60的壁面或者构成闸阀室60的壁面的能够安装拆卸的开ロ板64上设置多个由阀体63开闭的取出和放入基板G的开ロ部61。在本例中，作为ー个例子，在开ロ板64上设置有4个开ロ部61a 61d。另外，图2A表示在开ロ部61a 61d前方的设置在处理室10a、10b上的多个基板处理部(或者负载锁定室20的基板载置部)IOOa 100d。在基板处理部IOOa IOOd上分别载置有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种闸阀，其特征在于，具备：取出和放入被处理体的多个开口部；被按压于所述开口部的阀体；设置在所述阀体的按压部；与所述开口部的开口面平行地滑动的主滑动部；和凸轮，设置在所述主滑动部上，包括突起部和从该突起部呈坡状倾斜的倾斜部，在所述阀体与所述开口部正对的状态下按压所述阀体的按压部，所述阀体具有作为打开所述开口部的开放部起作用的至少一个缝隙状开口，使与所述缝隙状开口相邻的部位成为关闭所述多个开口部的闭塞部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：达下弘一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：