显示面板及显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域。该显示面板包括阵列基板及彩膜基板，所述阵列基板的显示区域包括由多个像素结构构成的像素阵列，所述彩膜基板上设置有黑矩阵，所述黑矩阵包括对应每个所述像素结构外围区域的遮光条纹，所述彩膜基板上位于所述显示区域最外围的遮光条纹的线宽大于其余所述显示区域的遮光条纹的线宽。本实用新型专利技术的显示面板及显示装置既能避免面板因形变和对位偏差而产生的漏光，又能提高开口率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及显示装置。
技术介绍
目前在平板显示领域，随着技术的不断更新，显示面板的大型化、轻薄化成为发展的主流方向。但是大型化和轻薄化的面板在制造过程中很容易发生形变，且由于这种形变以及制造过程中的对位偏差，如图I所示，面板的实际制作形貌(虚线所示)和设计形貌(实线所示)之间会出现偏差。由图I可知这种偏差在面板的周边区域尤为明显，因而很容易在面板周边区域产生漏光现象。传统的显示面板主要包括彩膜(Color Filter, CF)基板和阵列(Array)基板。阵 列基板的显示区域内包括由多个相同的像素结构形成的像素阵列。如图2所示，彩膜基板对应阵列基板也分为非显示区域2和显示区域1，且彩膜基板上形成有黑矩阵，黑矩阵包括对应每个像素结构外围区域的遮光条纹3 (为标注方便，附图中的遮光条纹以网格示出，实际应为不透光的结构)，该遮光条纹3用于遮挡其下面的阵列基板上的线路。通常通过在设计和制造过程中增大遮光条纹3的线宽来避免上述大型化和轻薄化面板因形变而产生的漏光，但是，增大了线宽的遮光条纹无疑会降低像素结构的开口率，进而影响显示效果。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本技术要解决的技术问题是提供一种既能避免面板因形变和对位偏差而产生的漏光，又能提高开口率的显示面板及显示装置。(二)技术方案为解决上述问题，本技术提供了一种显示面板，包括阵列基板及彩膜基板，所述阵列基板的显示区域包括由多个像素结构构成的像素阵列，所述彩膜基板上设置有黑矩阵，所述黑矩阵包括对应每个所述像素结构外围区域的遮光条纹，所述彩膜基板上位于所述显示区域最外围的遮光条纹的线宽大于其余所述显示区域的遮光条纹的线宽。优选地，以一个像素结构所对应的遮光条纹为一个遮光单元，所述黑矩阵的中心至边缘包括一个中心区域和至少一个周边区域，所述周边区域位于所述中心区域的外围，所述中心区域和所述周边区域分别由遮光单元构成，位于所述显示区域最外围的周边区域内的遮光单元的线宽大于所述中心区域和其余所述周边区域内的遮光单元的线宽，位于所述中心区域或同一所述周边区域内的遮光单元的线宽相同。优选地，所述中心区域和其余所述周边区域内的遮光单元的线宽全部相同。优选地，所述中心区域和其余所述周边区域内的遮光单元的线宽不全相同。优选地，所述中心区域和所述周边区域内的遮光单元的线宽自所述显示区域内最外围的周边区域向所述中心区域递减。本技术还提供了一种显示装置，该装置包括上述显示面板。(三)有益效果本技术的显示面板以及显示装置，通过仅将彩膜基板上位于显示区域最外围的遮光条纹的线宽增至最大，可以在有效的防止面板形变和对位偏差可能造成的周边漏光的同时，使黑矩阵的整体线宽降低，增加像素开口率，从而提高显示效果。附图说明图I为传统的显示面板实际制作形貌(虚线所示)和设计形貌(实线所示)之间的偏差不意图；图2为传统的显示面板中的彩膜基板的结构示意图；图3为本技术显示面板中的彩膜基板的结构示意图；图4-6为依照本技术一种实施方式的显示面板中的彩膜基板的结构示意图；图7为图4所示的显示面板的剖面结构示意图；图8-10为依照本技术另一种实施方式的显示面板中的彩膜基板的结构示意图。具体实施方式本技术提供的显示面板及显示装置，结合附图及实施例详细说明如下依照本技术一种实施方式的显示面板包括彩膜基板及阵列基板，阵列基板的显示区域内包括由多个像素结构构成的像素阵列，如图3所示，彩膜基板对应阵列基板也包括非显示区域2以及显示区域1，且彩膜基板上形成有黑矩阵，黑矩阵包括对应每个像素结构外围区域的遮光条纹3，彩膜基板上位于显示区域I最外围的遮光条纹3-1的线宽大于其余显示区域的遮光条纹的线宽。由于人眼对屏幕边和角的信息接收相对于中心区域较少(并且屏幕边角的信息并不重要)，因而显示区域周边的遮光条纹线宽较宽，可以在有效的防止面板形变和对位偏差可能造成的周边漏光的同时，使黑矩阵的整体线宽降低，增加像素开口率，从而提高显示效果。在本技术的显示面板中，可以以一个像素结构所对应的遮光条纹为一个遮光单元，将黑矩阵的中心至边缘分为一个中心区域和至少一个周边区域，周边区域位于中心区域的外围，中心区域和周边区域均由遮光单元构成。可通过使位于显示区域最外围的周边区域内的遮光单元的线宽大于中心区域和其余周边区域内的遮光单元的线宽来达到上述效果，其中，位于中心区域或同一周边区域内的遮光单元的线宽相同。除最外围的周边区域内的遮光单元外，中心区域以及其余周边区域内的遮光单元的线宽可以全部相同。除最外围的周边区域内的遮光单元外，中心区域以及其余周边区域内的遮光单元的线宽可以不全相同。此外，中心区域和周边区域内的遮光单元的线宽可以自显示区域内最外围的周边区域向中心区域递减。在图4-图6所示的显示面板的彩膜基板中，黑矩阵包括一个中心区域和多个周边区域，该中心区域包括位于显示区域I中心的遮光单元，由于面板尺寸和形状的不同，该中心区域以显示区域I的中心为中心，可包括如图4所示的一个遮光单元，还可如图5所示的包括两个遮光单元，或如图6所示的包括四个遮光单元，等等。周边区域分别由自该中心区域依次向外的各圈遮光单元构成，每个周边区域包括一圈遮光单元(不限于此)。显示区域I内最外围的周边区域内的一圈遮光单元3-1的线宽最宽，其余的周边区域内的遮光单元的线宽自该显示区域I内最外围的周边区域向该中心区域递减紧邻最外围周边区域的周边区域内的一圈遮光单元3-2的线宽其次，中心区域内的遮光单元3-3的线宽最小。此外，线宽不同的遮光单元所对应的像素结构的大小和宽度可以是相同的也可以是不同的，像素结构的宽度可随着遮光单元的变化而变化。沿图4中的A-A’方向的剖面如图7所示，对于黑矩阵，令自最外围到中心区域的线宽依次为a、b、C、……、r-1、r，则有a> b......>r-l >r。对于像素结构，自最外围向中心区域，可以令像素结构的宽度依次为a，、b，、……r’，则可有a’>b’……> r’，也可以为a’=b’……=r’，但不限于此。在图8-图10所示的显示面板的彩膜基板中，中心区域包括以显示区域I中心处的遮光单元为中心、虚线圈所示范围内的所有遮光单元，同样地，根据面板尺寸的不同，显示区域I中心处的遮光单元可包括如图8所示的一个遮光单元，还可如图9所示的包括两个遮光单元，或如图10所示的包括四个遮光单元，等等。周边区域分别由自该中心区域依次向外的各圈遮光单元构成，每个周边区域包括一圈遮光单元(不限于此)。显示区域I内最外围的周边区域内的一圈遮光单元3-1的线宽最宽，其余的周边区域内的遮光单元的线宽自该最外围的周边区域向该中心区域递减紧邻最外围周边区域的周边区域内的一圈遮光单元3-2的线宽其次，虚线所示的中心区域内的遮光单元3-4的线宽最小且相同。此外，由于像素结构的形状有矩形、菱形、六边形等多种，因此遮光单元的形状也因此而异，可为矩形环、菱形环、六边形环等等，在此不作为对本技术的限制。需要说明的是，遮光单元及像素结构的宽度变化幅度均在一定范围之内不能太大，以防止显示画面不均等不良的出现。此外，根据面板尺寸、类型以及工艺需要，本技术的显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示面板，包括阵列基板及彩膜基板，所述阵列基板的显示区域包括由多个像素结构构成的像素阵列，所述彩膜基板上设置有黑矩阵，所述黑矩阵包括对应每个所述像素结构外围区域的遮光条纹，其特征在于，所述彩膜基板上位于所述显示区域最外围的遮光条纹的线宽大于其余所述显示区域的遮光条纹的线宽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郤玉生，胡海琛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：