【技术实现步骤摘要】
装置用于光栅实验中对光栅的位置进行调节，保证光栅刻痕的垂直线(光栅刻痕的分布方向)与入射光保持垂直和光栅刻痕平行于入射光狭缝。
技术介绍
在光学实验或光学应用中常使用光栅，光栅的位置对衍射光有比较大的影响，为了保证结果的正确和统一，需要对光栅的位置进行准确调节。在大学光栅实验中，光源是一个细小的长狭缝，经过一个透镜成平行光入射到光栅上，衍射光经过一望远镜后进入眼睛观察，经过眼睛聚焦看到的衍射光仍然为一个狭缝(简称衍射条纹)。 光栅实验对光栅位置的要求是光栅刻痕的垂线与刻度盘平行，光栅刻痕的垂线与入射光垂直，并不要求光栅平面与刻度盘垂直。而当前大学物理实验中是通过调节载物台螺钉从光栅反射的自准直十字像来观察光栅是否垂直于刻度盘，由于光栅是透光的，反射像比较浅，观察比较吃力，学生经常在这个步骤花费很多时间；另外，即使光栅平面垂直于刻度盘平面，也不能保证光栅平面内的光栅刻痕垂直于刻度盘，从而使测得的衍射角偏小。
技术实现思路
本专利技术可以省略载物台的调节，利用衍射光的特性调节光栅的位置。本专利技术的技术方案是装置主要包含光栅、光栅夹、门型固定架、水平调节弹簧和螺钉、竖直...
【技术保护点】
光栅位置调节装置主要由光栅、光栅夹、门型固定架、弹簧及水平调节螺钉、竖直调节螺钉，其特征是通过弹簧和水平调节螺钉调节使光栅刻痕的分布方向和入射平行光垂直，调节竖直调节螺钉使光栅刻痕分布方向平行于刻度盘。
【技术特征摘要】
1.光栅位置调节装置主要由光栅、光栅夹、门型固定架、弹簧及水平调节螺钉、竖直调节螺钉，其特征是通过弹簧...
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