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siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用技术方案

技术编号:8125627 阅读:279 留言:0更新日期:2012-12-26 18:57
本发明专利技术公开了一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用。本发明专利技术提供了EphB2siRNA的用途,EphB2siRNA可作为抑制中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种siRNA在中枢神经系统损伤后抑制I父质症癒形成的应用。
技术介绍
中枢神经系统损伤的修复一直是困扰人类的世界性医学难题,究其原因一是中枢神经系统的神经元自身不能增殖,除少量存在的神经干细胞外,补充死亡的神经元较困难;且受损处残存神经元的再生能力也相对差。二是在损伤时,会出现许多不利于神经再生的物质,如髓鞘相关蛋白、髓鞘相关糖蛋白、少突胶质细胞髓鞘糖蛋白等抑制因子,它们通 过NgR/p75N 使生长锥溃变,形成不利于轴突再生的化学微环境。三是迅速形成的胶质疤痕,尤其是围绕损伤边缘处出现的一层致密包裹损伤部位的疤痕组织,使生长相对缓慢的轴突在延伸穿越损伤处时,遇到难以逾越的障碍,被机械性阻挡和化学性诱导而无法抵达应到达的位置。最终,这些不利因素协同作用使损伤中枢神经系统难以组织修复和功能重建而造成患者终生残疾,给个人、家庭及整个社会带来沉重的经济和精神负担。中枢神经系统损伤修复的策略就是要针对这些不利因素人为加以干预,从而达到功能重建的目的。近年来,随着细胞生物学技术(尤其是干细胞技术)、分子生物学技术(尤其是基因改造技术)和材料科学的飞速发展,给组织工程修复脊髓损本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是:所述siRNA是EphB2?siRNA。

【技术特征摘要】
1.一种SiRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是所述 siRNA 是 EphB2 siRNA。2.根据权利要求I所述的siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是由EphB2 siRNA构建shRNA表达质粒,并包装可表达AAV病毒,包装的表达AAV病毒,体...

【专利技术属性】
技术研发人员:王晓冬陈雪李奕姚健林巍巍陈颖高银峰王雪松
申请(专利权)人:南通大学
类型:发明
国别省市:

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