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siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用技术方案

技术编号:8125627 阅读:261 留言:0更新日期:2012-12-26 18:57
本发明专利技术公开了一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用。本发明专利技术提供了EphB2siRNA的用途,EphB2siRNA可作为抑制中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种siRNA在中枢神经系统损伤后抑制I父质症癒形成的应用。
技术介绍
中枢神经系统损伤的修复一直是困扰人类的世界性医学难题,究其原因一是中枢神经系统的神经元自身不能增殖,除少量存在的神经干细胞外,补充死亡的神经元较困难;且受损处残存神经元的再生能力也相对差。二是在损伤时,会出现许多不利于神经再生的物质,如髓鞘相关蛋白、髓鞘相关糖蛋白、少突胶质细胞髓鞘糖蛋白等抑制因子,它们通 过NgR/p75N 使生长锥溃变,形成不利于轴突再生的化学微环境。三是迅速形成的胶质疤痕,尤其是围绕损伤边缘处出现的一层致密包裹损伤部位的疤痕组织,使生长相对缓慢的轴突在延伸穿越损伤处时,遇到难以逾越的障碍,被机械性阻挡和化学性诱导而无法抵达应到达的位置。最终,这些不利因素协同作用使损伤中枢神经系统难以组织修复和功能重建而造成患者终生残疾,给个人、家庭及整个社会带来沉重的经济和精神负担。中枢神经系统损伤修复的策略就是要针对这些不利因素人为加以干预,从而达到功能重建的目的。近年来,随着细胞生物学技术(尤其是干细胞技术)、分子生物学技术(尤其是基因改造技术)和材料科学的飞速发展,给组织工程修复脊髓损伤带来美好的前景,目前这方面的报道很多,他们以众多的思路和措施进行着探索,并且取得了一定成效。当然,也有些研究关注胶质疤痕,但它们的着眼点仍侧重于上述几方面,仅附带观察对胶质疤痕形成的影响;或虽专注消除胶质疤痕,但作用点仅在已形成的胶质疤痕如何减轻或消除的问题上。如较多的使用软骨素酶分解硫酸软骨素蛋白聚糖的报道,使疤痕变薄;还有利用被公认在外周组织中,具有抑制疤痕形成的壳聚糖作为组织工程材料进行损伤脊髓修复,但抑制疤痕作用在中枢神经系统中并不明显。综观相关的文献报道目前研究的焦点更多的集中在如何补充丧失的神经元等细胞、改善损伤中枢神经系统的化学微环境和促进轴突再生能力等方面,这些努力也已取得了一定效果;然而,在中枢神经系统损伤修复的过程中,如果不能很好的解除快速出现的胶质疤痕机械性阻挡这一问题,会使细胞补充和改善微环境的努力事倍功半。就目前现状而言,仍缺乏专门消除胶质疤痕形成的有效方法,特别是针对胶质疤痕形成之初相关机制的有效阻断措施。因此,设法从源头抑制胶质疤痕的形成,再综合其它促进神经再生的方法,可能才是解决损伤中枢神经系统修复的有效思路。胶质疤痕的形成是中枢神经系统受损后的一种常见特征,它虽然在恢复血脑屏障、重建内环境和防止进一步损伤等方面发挥着作用,但它同样具有机械性阻挡再生轴突的延伸和存在于胶质疤痕中的硫酸软骨素蛋白聚糖的化学性接触诱导致再生轴突崩解或掉头生长等作用,并且胶质疤痕形成的速度远远快于轴突的再生。在中枢神经系统损伤后,胶质疤痕出现,实际并不是星形胶质细胞单独作用的结果,而是由星形胶质细胞和成纤维细胞等为主协同作用并构成的结果。所以单独研究星形胶质细胞在胶质疤痕中的作用是远远不够的,必须较全面的理解胶质疤痕形成过程中,各种细胞的互相作用,才能找到阻断胶质疤痕形成的有效方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用。本专利技术的技术解决方案是 一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是所述 siRNA 是EphB2 siRNA。由EphB2 siRNA构建shRNA表达质粒,并包装可表达AAV病毒,包装的表达AAV病毒,体内转染到中枢神经系统的损伤处,特异干扰中枢神经系统膜成纤维细胞EphB2的基因表达,从而阻止成纤维细胞和星形胶质细胞借EphB2受体和印hrin-B2配体结合,最终达 到抑制胶质疤痕形成的目的。所述中枢神经系统包括脊髓、脑。本专利技术提供了 EphB2 siRNA的用途,EphB2 siRNA可作为抑制中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质。下面结合实施例对本专利技术作进一步说明。具体实施例方式 I.根据EphB2基因的序列,合成不同片段的SiRNA (5’ -ACCCGACTACACCAGCTTTAA-3’和3’ - CTGGGTGGCCGCGTCATGAAA-5’),构建shRNA表达质粒,并包装可表达AAV病毒。2.包装的表达AAV病毒,体内转染到中枢神经系统(脊髓、脑)的损伤处,特异干扰脑(脊)膜成纤维细胞EphB2的基因表达,从而阻止成纤维细胞和星形胶质细胞借EphB2受体和ephrin-B2配体结合,最终达到抑制胶质症痕形成的目的。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是:所述siRNA是EphB2?siRNA。

【技术特征摘要】
1.一种SiRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是所述 siRNA 是 EphB2 siRNA。2.根据权利要求I所述的siRNA作为中枢神经系统损伤后抑制胶质疤瘢形成的物质的应用,其特征是由EphB2 siRNA构建shRNA表达质粒,并包装可表达AAV病毒,包装的表达AAV病毒,体...

【专利技术属性】
技术研发人员:王晓冬陈雪李奕姚健林巍巍陈颖高银峰王雪松
申请(专利权)人:南通大学
类型:发明
国别省市:

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