低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵监控方法制造方法及图纸

技术编号:8116381 阅读:164 留言:0更新日期:2012-12-22 07:11
本发明专利技术提供一种能够有效地监控低温泵的劣化的低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。本发明专利技术中的低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板、及容纳低温板的泵容器。低温泵的再生处理包括基本净化处理、排气处理、必要情况下进行追加实施的追加净化处理。追加净化处理包括1次以上气体净化工序。控制低温泵的低温泵控制装置(80)中,劣化判定部(88)判定在1次再生处理中需要追加实施的气体净化工序的总数即再净化次数是否达到劣化判定基准次数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种真空技木,尤其涉及ー种低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。
技术介绍
低温泵为实现清洁的高真空环境的真空泵,例如为了将在半导体电路制造エ艺中使用的真空腔室保持为高真空而利用该低温泵。低温泵通过由制冷机冷却为超低温的低温板使气体分子冷凝或吸附并积存,由此从真空腔室排出气体。若低温板被冷凝成固体的气体覆盖或者吸附的气体接近低温板的吸附剂的最大吸附量,则低温泵的排气能力下降。因此,适当地实施将被冷凝等的气体向低温泵外部排除的再生处理。 再生处理中,提高低温板的温度来使积存于低温泵内的气体气化或液化并排出。再生处理之后,通过将低温板冷却至超低温而能够再次使用低温泵。专利文献I中记载有在结束低温泵的再生处理之后,在起动低温泵之前判定有无产生外部泄漏的低温泵的启动方法。专利文献I :日本专利公开平9-166078号公报为了以良好的状态继续使用低温泵,除了进行再生处理之外,例如还需要进行大修等维护。确定维护的频率或时点时,例如以使用次数或使用时间为基准。然而,低温泵的各组件的劣化状况或污染的程度根据使用条件大不相同,因此不能一概地确定适当的维护时点。由于因低温泵的维护本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低温泵控制装置,其控制低温泵,且所述低温泵具备对气体进行冷却并使该气体冷凝或吸附的低温板及容纳所述低温板的泵容器,所述低温泵控制装置的特征在于,所述低温泵的再生处理包括:基本净化处理,包括1次以上的气体净化工序;1次以上的排气处理,对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后,对真空度保持状态进行判定;追加净化处理,包括1次以上的气体净化工序,该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上,所述低温泵控制装置具备劣化判定部,该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数,所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。

【技术特征摘要】
2011.06.14 JP 2011-1326851.ー种低温泵控制装置,其控制低温泵,且所述低温泵具备对气体进行冷却并使该气体冷凝或吸附的低温板及容纳所述低温板的泵容器,所述低温泵控制装置的特征在干, 所述低温泵的再生处理包括基本浄化处理,包括I次以上的气体净化工序;1次以上的排气处理,对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后,对真空度保持状态进行判定;追加浄化处理,包括I次以上的气体净化工序,该追加浄化处理在必要情况下追加实施I次以上, 所述低温泵控制装置具备劣化判定部,该劣化判定部用于判定再浄化次数是否达到劣化判定基准次数,所述再净化次数为在I次再生处理中需实施的I次以上的追加浄化处理中所包括的I次以上的气体净化工序的总数。2.如权利要求I所述的低温泵控制装置,其特征在干, 所述劣化判定部判定对多次再生处理进行平均后的再浄化次数是否达到劣化判定基准次数。3.如权利要求I或2所述的低温泵控制装置,其特征在干, 所述低温泵控制装置还具备排气处理控制部 '及 追加浄化处理控制部,该追加浄化处理控制部确定是否需要进行追加浄化处理, 在所述真空度保持状态的判定中判定为泵容器内真空度保持状态不满足真空度保持基准时,所述排气处理控制部确定再次实施排气处理, 在排气处理的连续实施次数达到需追加浄化基准次数时,所述追加浄化处理控制部确定实施追加净化处理。4.如权利要求I 3中任一项所述的低温泵控制装置,其特征在干, 所述低温泵控制装置还具备发送部,当所述劣化判定部判定为再净化次数达到劣化判定基准次数吋,所述发送部发送警告。5.—种低温泵系统,其具备 ...

【专利技术属性】
技术研发人员:小山知大
申请(专利权)人:住友重机械工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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